公开(公告)号：CN103019050B

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201210357232.3

申请日：2012-09-24

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 尹孝镇 ,  辛成健 ,  李孝善 ,  金柄郁 ,  金贤友 ,  尹锡壹 ,  权五焕

IPC: G03F7/42 ,  B05C11/10 ,  B05C11/11

CPC classification number: G03F7/168 ,  C11D11/0047

Abstract: 本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯，其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1‑C5非基于醚的烷基。

公开(公告)号：CN102103334B

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201010594494.2

申请日：2010-12-15

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 辛成健 ,  金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  权五焕 ,  朴善周

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，特别涉及一种包含具有环状胺结构的咪唑烷化合物，所以抗蚀剂剥离性能非常优秀，并且对金属的防腐蚀效果突出，从而可以使图案形成过程中元件的金属布线的腐蚀达到最小化的抗蚀剂剥离剂组合物。

公开(公告)号：CN102103334A

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN201010594494.2

申请日：2010-12-15

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 辛成健 ,  金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  权五焕 ,  朴善周

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，特别涉及一种包含具有环状胺结构的咪唑烷化合物，所以抗蚀剂剥离性能非常优秀，并且对金属的防腐蚀效果突出，从而可以使图案形成过程中元件的金属布线的腐蚀达到最小化的抗蚀剂剥离剂组合物。

公开(公告)号：CN101661857A

公开(公告)日：2010-03-03

申请号：CN200910160899.2

申请日：2009-07-31

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 郑世桓 ,  金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC: H01J9/00 ,  H01J17/49

Abstract: 本发明涉及等离子体显示器面板用的介电层及障肋去除剂组合物，特别涉及包含以下物质的去除剂组合物：(a)0.05～10重量％的无机盐化合物；(b)3～30重量％的烷基二元醇或其衍生物；(c)3～30重量％的乙二醇单烷基醚类或其衍生物；(d)0.5～10重量％的沸点等于或者高于160℃的有机胺；及(e)余量的水。该组合物不损坏介电层下部的电极层，且其渗透性及去除性能非常优秀，可以同时去除介电层及障肋。

公开(公告)号：CN101630127A

公开(公告)日：2010-01-20

申请号：CN200910150246.6

申请日：2009-06-23

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC: G03F7/42 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368

Abstract: 本发明涉及可适于在液晶显示器的滤色器阵列(color filter on array，COA)制造工艺中使用的光刻胶剥离剂组合物，特别涉及包含1-40重量％的水溶性有机胺化合物、3-40重量％的水、余量的水溶性有机溶剂，从而在制造液晶显示器的滤色器阵列结构时，无滤色器膨胀现象，金属防腐效果及感光膜去除效果均很优秀的光刻胶剥离剂组合物。该组合物可适于在液晶显示器的滤色器阵列制造工艺中使用。

公开(公告)号：CN101042543A

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：CN200710086623.5

申请日：2007-03-23

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金圣培 ,  朴熙珍 ,  尹锡壹 ,  金柄郁 ,  辛成健

IPC: G03F7/42 ,  C11D7/50 ,  C11D7/32 ,  C11D7/26

Abstract: 本发明涉及一种用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具体而言，本发明包含：a)0.05重量份～10重量份的有机胺类化合物；b)0.05重量份～30重量份的有机溶剂；c)0.005重量份～5重量份的三唑类防腐剂；d)0.005重量份～5重量份的选自羟基苯酚类、没食子酸烷酯及还原剂类中的防腐剂；e)余量水。本发明的用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具有优异的清洗能力且能够防止金属膜层的腐蚀，并且可替代以往清洗工艺中所使用的甲醇、乙醇、异丙醇等引火性物质即醇类化合物，能够有效地清洗残留在基板上的脱膜剂等有机异物及灰尘等无机异物。

公开(公告)号：CN101093365B

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：CN200710123038.8

申请日：2007-06-22

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金圣培 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  朴熙珍 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  许铉 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种用于去除在电子电路或显示元件的布图(pattern)过程中所使用的抗蚀膜、且能够抑制对金属布线腐蚀的抗蚀膜(resist)剥离剂组合物，所述抗蚀膜剥离剂组合物优选包含：a)1至20wt％的二胺化合物(diamine compound)；和b)余量的乙二醇醚化合物(glycol ether compound)。本发明可进一步包含极性溶剂。本发明抗蚀膜剥离剂组合物，在进行去除光致抗蚀膜的工序过程中，将不会腐蚀金属布线，且具有优秀的剥离效果。

公开(公告)号：CN101424888B

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN200810174803.3

申请日：2008-10-31

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 洪瑄英 ,  朴弘植 ,  郑锺铉 ,  金俸均 ,  李智鲜 ,  李炳珍 ,  金柄郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  辛成健 ,  许舜范

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/84

Abstract: 本发明提供光致抗蚀剂剥离用组合物、使用该组合物的光致抗蚀剂剥离方法和显示装置的制造方法，该光致抗蚀剂剥离用组合物能够再次使用而剥离性能没有实质性降低并且金属图案没有损伤，从而能够减少照相蚀刻工序的成本。本发明中的光致抗蚀剂剥离用组合物含有80重量％～98.5重量％砜系化合物、1重量％～10重量％内酯系化合物以及0.1重量％～5重量％烷基磺酸。

公开(公告)号：CN101042543B

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN200710086623.5

申请日：2007-03-23

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金圣培 ,  朴熙珍 ,  尹锡壹 ,  金柄郁 ,  辛成健

IPC: G03F7/42 ,  C11D7/50 ,  C11D7/32 ,  C11D7/26

Abstract: 本发明涉及一种用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具体而言，本发明包含，a)0.05重量份～10重量份的有机胺类化合物；b)0.05重量份～30重量份的有机溶剂；c)0.005重量份～5重量份的三唑类防腐剂；d)0.005重量份～5重量份的选自羟基苯酚类、没食子酸烷酯及还原剂类中的防腐剂；e)余量水。本发明的用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具有优异的清洗能力且能够防止金属膜层的腐蚀，并且可替代以往清洗工艺中所使用的甲醇、乙醇、异丙醇等引火性物质即醇类化合物，能够有效地清洗残留在基板上的脱膜剂等有机异物及灰尘等无机异物。

公开(公告)号：CN101692155A

公开(公告)日：2010-04-07

申请号：CN200810185042.1

申请日：2008-12-26

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 洪瑄英 ,  朴弘植 ,  郑锺铉 ,  金俸均 ,  李炳珍 ,  金柄郁 ,  郑宗铉 ,  尹锡壹 ,  辛成健 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/425

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂去除用组合物和用其制造阵列基板的方法，所述光致抗蚀剂去除用组合物包含：a)包含环胺和/或二元胺的胺化合物，b)乙二醇醚类化合物，c)缓蚀剂和d)极性溶剂。所述组合物还包含剥离助剂。