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公开(公告)号：CN104272193A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380024161.8
申请日：2013-04-18
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42 , C11D3/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及一种聚合性液晶组合物，更具体地说，涉及一种用于光学膜时具有热稳定性和液晶相区间的温度范围宽的特性且经济有效的聚合性液晶组合物。本发明中，将核结构不具有连接基而是相互以单键连接或者具有以多环结构连接的一个以上的环结构的液晶化合物混合于聚合性介晶(mesogenic)化合物而构成聚合性液晶组合物，由此液晶材料之间的相容性优异、化学上稳定、在宽的温度范围内保持液晶相，且使用于液晶光学膜时能够制造出具有优异的取向性、耐化学稳定性质的光学膜，由于制造方法较简单，因此经济有效。
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公开(公告)号：CN102161942A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110041801.9
申请日：2011-02-18
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。
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公开(公告)号：CN102161942B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201110041801.9
申请日：2011-02-18
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。
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公开(公告)号：CN101373343B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200810210852.8
申请日：2008-08-20
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1-20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1-C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1-C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1-70重量％的选自具有C1-C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5-10重量％的羟胺；0.5-50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104272193B
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201380024161.8
申请日：2013-04-18
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42 , C11D3/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及一种稀释剂组合物，更具体地说，涉及一种使用于半导体制造用晶片的边缘和后面部位而可在短时间内有效去除多余粘附的光致抗蚀剂，而且提高光致抗蚀剂RRC的性能而能够减少光致抗蚀剂的使用，并对人体的稳定性高、降低界面的段差而可用于多种工序、使半导体制造工序简单化而能够以低成本提高生产收率的稀释剂组合物。
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公开(公告)号：CN101661857A
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200910160899.2
申请日：2009-07-31
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及等离子体显示器面板用的介电层及障肋去除剂组合物，特别涉及包含以下物质的去除剂组合物：(a)0.05～10重量％的无机盐化合物；(b)3～30重量％的烷基二元醇或其衍生物；(c)3～30重量％的乙二醇单烷基醚类或其衍生物；(d)0.5～10重量％的沸点等于或者高于160℃的有机胺；及(e)余量的水。该组合物不损坏介电层下部的电极层，且其渗透性及去除性能非常优秀，可以同时去除介电层及障肋。
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