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公开(公告)号：CN1924710B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200610128676.4
申请日：2006-09-04
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种用于在制造诸如集成电路(IC)、大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)等的半导体器件的过程中去除光刻胶的光刻胶去除剂组合物，该光刻胶去除剂组合物包括：(a)0.1～10wt％的过氧化氢或过氧化氢衍生物；(b)5～50wt％的有机溶剂；(c)0.5～30wt％的有机胺；(d)5～60wt％的水；(e)0.0001～20wt％的铵盐；(f)0.4～10wt％的防腐剂；和(g)0.5～30wt％的过氧化氢或过氧化氢衍生物的稳定剂。本发明的包括过氧化氢或过氧化氢衍生物的光刻胶去除剂组合物可在短时间内、在高温或低温下有效去除通过硬性烘烤(hardbaking)、干法刻蚀、灰化和/或离子注入硬化并改性的光刻胶膜和通过从光刻胶膜下的金属膜刻蚀出的金属副产品改性的光刻胶膜，并同时将光刻胶膜下的金属布线的腐蚀减到最少。
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公开(公告)号：CN101042543A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710086623.5
申请日：2007-03-23
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具体而言，本发明包含：a)0.05重量份～10重量份的有机胺类化合物；b)0.05重量份～30重量份的有机溶剂；c)0.005重量份～5重量份的三唑类防腐剂；d)0.005重量份～5重量份的选自羟基苯酚类、没食子酸烷酯及还原剂类中的防腐剂；e)余量水。本发明的用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具有优异的清洗能力且能够防止金属膜层的腐蚀，并且可替代以往清洗工艺中所使用的甲醇、乙醇、异丙醇等引火性物质即醇类化合物，能够有效地清洗残留在基板上的脱膜剂等有机异物及灰尘等无机异物。
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公开(公告)号：CN101373343A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：CN200810210852.8
申请日：2008-08-20
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1－20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1－C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1－C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1－70重量％的选自具有C1－C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5－10重量％的羟胺；0.5－50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。
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公开(公告)号：CN101140428A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200710145306.6
申请日：2007-09-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种光刻胶剥离剂组合物以及利用该组合物的光刻胶剥离及分解方法，具体说是涉及一种包含氨基甲酸酯化合物的光刻胶剥离剂组合物。而且，本发明还提供一种包含：a)环状内酯类化合物，及b)酰胺类化合物、氨基甲酸酯化合物或其混合物的光刻胶剥离剂组合物。本发明的光刻胶剥离剂组合物，在利用臭氧的工艺中可以选择性地分解去除光刻胶时所产生的光刻胶残留物，从而可极大地提高处理量，并且具有对金属布线或氧化膜的腐蚀防护效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101017334A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710000449.8
申请日：2007-02-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂处理液的再生方法及其装置。具体涉及一种从包含用于图形化电路或显示元件金属布线的抗蚀剂膜的基板上剥离抗蚀剂后，使从抗蚀剂剥离工序所排出的含抗蚀剂处理液接触多相光催化剂，从而剥离及分解抗蚀剂的方法及装置。该方法及装置不仅可以剥离残留在图形化金属膜上的抗蚀剂，还可以分解工艺过程中所产生的、并包含在处理液中的抗蚀剂成分，因此能够最大限度地减小在高温下因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度，而且能够将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。
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公开(公告)号：CN102666745A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080053194.1
申请日：2010-11-22
Applicant: 株式会社东进世美肯
CPC classification number: C09D11/52
Abstract: 本发明涉及不形成粒子的导电性油墨组合物及其制造方法，特别是，包含将碳原子数为10-22个的脂肪酸和碳原子数为2-9个的脂肪酸的混合物和氨添加到金属前体水溶液中而得到的金属化合物、胺化合物以及溶剂的本发明的导电性油墨组合物，不形成粒子而能够避免粒子的凝聚，金属含量高而不需要投入另外的纳米粒子，能够用于多种热处理温度的用途。
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公开(公告)号：CN101373343B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200810210852.8
申请日：2008-08-20
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1-20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1-C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1-C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1-70重量％的选自具有C1-C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5-10重量％的羟胺；0.5-50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。
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