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公开(公告)号：CN103019050A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210357232.3
申请日：2012-09-24
CPC分类号： G03F7/168 , C11D11/0047
摘要： 本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯，其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1-C5非基于醚的烷基。
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公开(公告)号：CN103019050B
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201210357232.3
申请日：2012-09-24
CPC分类号： G03F7/168 , C11D11/0047
摘要： 本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯，其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1‑C5非基于醚的烷基。
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公开(公告)号：CN118689047A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410314636.7
申请日：2024-03-19
摘要： 提供稀释剂组合物和通过使用所述稀释剂组合物处理基板表面的方法，所述稀释剂组合物可普遍用于极紫外(EUV)光致抗蚀剂以及KrF和ArF光致抗蚀剂并且在减胶涂覆(RRC)和边缘珠状物除去(EBR)方面呈现出改善的性能并且具有优异的管道清洁能力。所述稀释剂组合物包括C2‑C4亚烷基二醇C1‑C4烷基醚乙酸酯、C2‑C3亚烷基二醇C1‑C4烷基醚、和环酮。
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公开(公告)号：CN118253469A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202410464138.0
申请日：2016-08-25
申请人： 株式会社东进世美肯
摘要： 本发明涉及一种层叠体及其制造方法，所述层叠体包括：基体材料；涂层，位于所述基体材料的单面或双面上且包括含Si‑O基物质；及中间界面层，位于所述基体材料与涂层之间。层叠体的制造方法，通过如下步骤，在基体材料的单面或双面上同时形成中间界面层和涂层：(1)在基体材料的单面或双面上，涂敷包括含Si‑O基物质的涂层组合物，所述含Si‑O基物质包括硅倍半氧烷；及(2)对所涂敷的所述层叠体进行干燥或固化。本发明能够显著提高抗弯曲能力、透明度及基体材料与涂层之间的粘接强度，而且通过硅倍半氧烷涂层，能够增强耐划痕性能、拒水特性、耐污性能、抗指纹性能、热稳定性、光泽特性及提高表面硬度的效果。
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公开(公告)号：CN102161942B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201110041801.9
申请日：2011-02-18
申请人： 株式会社东进世美肯
摘要： 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。
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公开(公告)号：CN101373343B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200810210852.8
申请日：2008-08-20
申请人： 株式会社东进世美肯
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1-20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1-C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1-C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1-70重量％的选自具有C1-C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5-10重量％的羟胺；0.5-50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。
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公开(公告)号：CN104272193A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380024161.8
申请日：2013-04-18
申请人： 株式会社东进世美肯
IPC分类号： G03F7/42 , C11D3/20 , H01L21/027
摘要： 本发明涉及一种聚合性液晶组合物，更具体地说，涉及一种用于光学膜时具有热稳定性和液晶相区间的温度范围宽的特性且经济有效的聚合性液晶组合物。本发明中，将核结构不具有连接基而是相互以单键连接或者具有以多环结构连接的一个以上的环结构的液晶化合物混合于聚合性介晶(mesogenic)化合物而构成聚合性液晶组合物，由此液晶材料之间的相容性优异、化学上稳定、在宽的温度范围内保持液晶相，且使用于液晶光学膜时能够制造出具有优异的取向性、耐化学稳定性质的光学膜，由于制造方法较简单，因此经济有效。
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公开(公告)号：CN102161942A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110041801.9
申请日：2011-02-18
申请人： 株式会社东进世美肯
摘要： 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。
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公开(公告)号：CN101300529A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：CN200680041062.0
申请日：2006-11-07
申请人： 株式会社东进世美肯
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/423
摘要： 本发明涉及一种用于去除用在半导体器件、液晶显示器或有机发光器件的制备中的光刻胶的稀释剂组合物，并且更具体地，涉及一种包含二元醇醚化合物，特别地作为表面活性剂的氟化丙烯酸共聚物、有机溶剂或其混合物的用于去除光刻胶的稀释剂组合物。本发明的用于去除光刻胶的稀释剂组合物能够在短时间内有效地去除用于有机EL的玻璃基板和用于制备液晶显示器的那些基板的边沿和背面的多余的光刻胶，而无论所使用的特定的光刻胶。
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公开(公告)号：CN101093365A
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN200710123038.8
申请日：2007-06-22
申请人： 株式会社东进世美肯
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 本发明涉及一种用于去除在电子电路或显示元件的布图(pattern)过程中所使用的抗蚀膜、且能够抑制对金属布线腐蚀的抗蚀膜(resist)剥离剂组合物，所述抗蚀膜剥离剂组合物优选包含：a)1至20wt％的二胺化合物(diamine compound)；和b)余量的乙二醇醚化合物(glycol ether compound)。本发明可进一步包含极性溶剂。本发明抗蚀膜剥离剂组合物，在进行去除光致抗蚀膜的工序过程中，将不会腐蚀金属布线，且具有优秀的剥离效果。
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