层叠体及其制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118253469A

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202410464138.0

    申请日:2016-08-25

    摘要: 本发明涉及一种层叠体及其制造方法,所述层叠体包括:基体材料;涂层,位于所述基体材料的单面或双面上且包括含Si‑O基物质;及中间界面层,位于所述基体材料与涂层之间。层叠体的制造方法,通过如下步骤,在基体材料的单面或双面上同时形成中间界面层和涂层:(1)在基体材料的单面或双面上,涂敷包括含Si‑O基物质的涂层组合物,所述含Si‑O基物质包括硅倍半氧烷;及(2)对所涂敷的所述层叠体进行干燥或固化。本发明能够显著提高抗弯曲能力、透明度及基体材料与涂层之间的粘接强度,而且通过硅倍半氧烷涂层,能够增强耐划痕性能、拒水特性、耐污性能、抗指纹性能、热稳定性、光泽特性及提高表面硬度的效果。