公开(公告)号：CN1221831C

公开(公告)日：2005-10-05

申请号：CN02118611.1

申请日：2002-04-25

Applicant: 株式会社尼康 ,  株式会社东芝

Inventor： 鹤旨笃司 ,  水野次郎 ,  伊藤信一 ,  高桥理一郎 ,  江间达彦

IPC: G02B21/16

CPC classification number: G02B21/16

Abstract: 一种紫外线显微镜，具有用紫外光观察样品的紫外光观察装置；气体供给装置，在用紫外光进行观察中，向样品附近供给非活性气体；定时控制装置，控制通过气体供给装置进行的非活性气体的定时供给。定时控制装置控制气体供给装置，以在用紫外光进行样品的观察前，使非活性气体被预供给，同时至少在用紫外光进行观察中，使非活性气体被正式供给。

公开(公告)号：CN1199234C

公开(公告)日：2005-04-27

申请号：CN00137613.6

申请日：2000-12-15

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 江间达彦 ,  伊藤信一

IPC: H01L21/00

CPC classification number: B05D3/02 ,  B05D1/02 ,  B05D1/26

Abstract: 本发明提供一种成膜方法，对于具有校正因液状膜中所包含的溶剂挥发生成汽化热而产生的液状膜的温度分布那样温度分布的被处理衬底，采用扫描涂敷方法形成液状膜之后，除去液状膜的溶剂，形成涂敷膜。可以使采用扫描涂敷方法形成的涂敷膜膜厚分布均匀。

公开(公告)号：CN1304167A

公开(公告)日：2001-07-18

申请号：CN00137613.6

申请日：2000-12-15

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 江间达彦 ,  伊藤信一

IPC: H01L21/00

CPC classification number: B05D3/02 ,  B05D1/02 ,  B05D1/26

Abstract: 本发明可使采用扫描涂敷方法形成的涂敷膜膜厚分布均匀。对于具有校正因液状膜中所包含的溶剂挥发生成汽化热而产生的液状膜的温度分布那样温度分布的被处理衬底,采用扫描涂敷方法形成液状膜之后,除去液状膜的溶剂,形成涂敷膜。

公开(公告)号：CN101963759A

公开(公告)日：2011-02-02

申请号：CN200910170958.4

申请日：2003-01-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤信一 ,  江间达彦 ,  早崎圭 ,  中田錬平 ,  山田展英 ,  奥村勝弥

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/312

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/288 ,  H01L21/31633

Abstract: 本发明涉及成膜方法/装置、图形形成方法及半导体器件的制造方法。在一边从设于喷嘴的排出口，对衬底连续地排出调整后的溶液使其在上述衬底上蔓延规定量，一边相对移动上述喷嘴和衬底，在上述衬底上留下供给的溶液，并在上述衬底上形成液膜的成膜方法中，设定上述喷嘴的排出口与上述衬底的距离h为2mm以上，而且对于上述溶液表面张力γ(N/m)、从上述排出口连续地排出的溶液排出速度q(m/sec)、和常数5×10-5(m·sec/N)，为不足5×10-5qγ(mm)的范围内。

公开(公告)号：CN100582941C

公开(公告)日：2010-01-20

申请号：CN200610072041.7

申请日：2003-01-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤信一 ,  江间达彦 ,  早崎圭 ,  中田鍊平 ,  山田展英 ,  奥村勝弥

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/00

Abstract: 在一边从设于喷嘴的排出口，对衬底连续地排出调整后的溶液使其在上述衬底上蔓延规定量，一边相对移动上述喷嘴和衬底，在上述衬底上留下供给的溶液，并在上述衬底上形成液膜的成膜方法中，设定上述喷嘴的排出口与上述衬底的距离h为2mm以上，而且对于上述溶液表面张力γ(N/m)、从上述排出口连续地排出的溶液排出速度q(m/sec)、和常数5×10-5(m·sec/N)，为不足5×10-5qγ(mm)的范围内。

公开(公告)号：CN100510958C

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN03150313.6

申请日：2003-07-24

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 早崎圭 ,  伊藤信一 ,  竹石知之 ,  川野健二 ,  江间达彦

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/40

Abstract: 一种图形形成方法，其特征在于：具备：在衬底上形成感光性树脂膜的工序；使上述感光性树脂膜曝光的工序；向上述感光性树脂膜上供给显影液，形成上述感光性树脂膜的图形的工序；采用使已活性化的水与上述图形接触的办法，进行除去上述图形的表层的细化处理的工序。

公开(公告)号：CN1825207A

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN200610072041.7

申请日：2003-01-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤信一 ,  江间达彦 ,  早崎圭 ,  中田錬平 ,  山田展英 ,  奥村勝弥

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/00

Abstract: 在一边从设于喷嘴的排出口，对衬底连续地排出调整后的溶液使其在上述衬底上蔓延规定量，一边相对移动上述喷嘴和衬底，在上述衬底上留下供给的溶液，并在上述衬底上形成液膜的成膜方法中，设定上述喷嘴的排出口与上述衬底的距离h为2mm以上，而且对于上述溶液表面张力γ(N/m)、从上述排出口连续地排出的溶液排出速度q(m/sec)、和常数5×10－5(m· sec/N)，为不足5×10－5qγ(mm)的范围内。

公开(公告)号：CN1184667C

公开(公告)日：2005-01-12

申请号：CN01140673.9

申请日：2001-09-20

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 江间达彦 ,  伊藤信一

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/16 ,  B05D3/00

Abstract: 本发明提供了成膜方法和成膜装置，液状膜形成部分由保护膜滴液喷嘴(102)和使该保护膜滴液喷嘴(102)沿y方向移动的喷嘴移动机构以及设置在直径200mm的被处理基板(110)上的使被处理基板(110)沿x方向移动的被处理基板移动台构成。液状膜干燥部分由吸嘴(101)和与吸嘴(101)相连的真空泵(103)构成。另外，被处理基板移动台也是构成液状膜干燥部分的一部分。利用上述成膜方法及装置，可以抑制涂膜的膜厚不均现象，缩短形成涂膜所需的时间。

公开(公告)号：CN1177354C

公开(公告)日：2004-11-24

申请号：CN01121836.3

申请日：2001-06-27

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 江间达彦 ,  伊藤信一

IPC: H01L21/30 ,  H01L21/304 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/02052 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40

Abstract: 一种衬底处理方法，对用光刻胶12进行LSI图形曝光的被加工衬底11，用TMAH显影液进行显影后，清洗露出表面。作为第1清洗工序，通过边使衬底11以500rpm进行旋转，边用溶解有3ppm臭氧气体的臭氧水17进行15秒的清洗，使附着于衬底11的露出表面上的有机物分解，然后，作为第2清洗工序，通过边使衬底11以500rpm进行旋转，边用溶解有1.2ppm氢气的氢气水18进行15秒的清洗处理，把分解后的有机物除去到衬底之外。

公开(公告)号：CN1384384A

公开(公告)日：2002-12-11

申请号：CN02118611.1

申请日：2002-04-25

Applicant: 株式会社尼康 ,  株式会社东芝

Inventor： 鹤旨笃司 ,  水野次郎 ,  伊藤信一 ,  高桥理一郎 ,  江间达彦

IPC: G02B21/16

CPC classification number: G02B21/16

Abstract: 一种紫外线显微镜,具有用紫外光观察样品的紫外光观察装置;气体供给装置,在用紫外光进行观察中,向样品附近供给非活性气体;定时控制装置,控制通过气体供给装置进行的非活性气体的定时供给。定时控制装置控制气体供给装置,以在用紫外光进行样品的观察前,使非活性气体被予供给,同时至少在用紫外光进行观察中,使非活性气体被正式供给。