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公开(公告)号：CN101300372A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：CN200680041174.6
申请日：2006-11-02
Applicant: 新明和工业株式会社
IPC: C23C14/35
CPC classification number: C23C14/3407 , H01J37/3405 , H01J37/3461
Abstract: 本发明提供能够利用简单的驱动机构改变靶表面上的磁力线分布，谋求靶的均匀侵蚀的磁体构件。磁体构件(110)具备配置于靶(20)的背面(20B)一侧，而且配置得能够形成达到靶(20A)表面的主磁力线的主磁体(10、13)、配置于所述靶(20)的背面(20B)一侧，配置得可形成能够改变主磁力线形成的磁通密度分布的校正磁力线的校正磁体(11)、配置于所述靶(20)的背面(20B)一侧的所述校正磁力线的磁路(21A、21B、24)、以及能够改变贯通磁路(21A、21B、24)内部的校正磁力线的强度的磁场校正手段(12、14)。
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公开(公告)号：CN1532563A
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN03156715.0
申请日：2003-09-08
Applicant: 新明和工业株式会社
CPC classification number: G02B1/115
Abstract: 本发明公开了一种光学增透膜(反射防止膜)及其镀膜方法。一层具有与丙烯酸树脂基片的折射率基本相等的折射率的第一一氧化硅膜制备在该基片上至大约200钠米厚度，在该第一一氧化硅膜上制备一层折射率值在1.48至1.62之间范围内的第二一氧化硅膜至大约200钠米厚度。还有，例如在高低型增透膜的情况中，使用一特殊的离子镀装置制备一层折射率值在2.2至2.4之间范围的二氧化钛膜，以作为从最外层起算的第二层。
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公开(公告)号：CN1410588A
公开(公告)日：2003-04-16
申请号：CN02151451.8
申请日：2002-09-20
CPC classification number: C23C14/0694 , C23C14/32 , C23C14/54 , G02B1/113
Abstract: 本发明提供一种即使卤素元素从膜形成材料中分离也能一边抑制由卤素元素的缺乏所引起的弊端一边进行成膜的卤素化合物的成膜方法及成膜装置。具体地说，使卤素化合物构成的膜的材料从蒸发源(3)蒸发，同时通过从高频电源单元(11)输出并经过衬底支架(2)而供给的高频功率使之离子化，使离子化的膜的材料被析出到衬底(5)上进行成膜。而且，通过从偏置电源单元(12)输出并施加到衬底支架(2)上的偏置电压，将从卤素化合物的离子中分离的卤素元素的离子吸入衬底(5)。
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公开(公告)号：CN103079972B
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201180042604.7
申请日：2011-09-27
Applicant: 新明和工业株式会社
IPC: B65F3/20
Abstract: 使一对旋转支承部件分别由垃圾投入箱的一对侧壁支承着能够旋转，将挤入板(26)支承于一对旋转支承部件之间且能够以偏心于旋转支承部件的旋转中心而设的转轴(25)为中心旋转。使挤入板(26)构成为在旋转支承部件旋转1周的时间内该挤入板(26)旋转1/2周，在该挤入板(26)的表面对着接近所述隔板(21)的固定状下端的状态下旋转，从旋转支承部件的旋转中心到转轴的轴心的偏心量a与从该转轴的轴心到该挤入板的一端的距离b之间的关系为b≥2a。因此能够适当地形成行星旋转挤入板式垃圾收集装置中已固定隔板的下端和挤入板之间的间隙且能够使该行星旋转挤入板式垃圾收集装置包括结实、重量轻、易制造的挤入板。
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公开(公告)号：CN101300372B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200680041174.6
申请日：2006-11-02
Applicant: 新明和工业株式会社
IPC: C23C14/35
CPC classification number: C23C14/3407 , H01J37/3405 , H01J37/3461
Abstract: 本发明提供能够利用简单的驱动机构改变靶表面上的磁力线分布，谋求靶的均匀侵蚀的磁体构件。磁体构件(110)具备配置于靶(20)的背面(20B)一侧，而且配置得能够形成达到靶(20A)表面的主磁力线的主磁体(10、13)、配置于所述靶(20)的背面(20B)一侧，配置得可形成能够改变主磁力线形成的磁通密度分布的校正磁力线的校正磁体(11)、配置于所述靶(20)的背面(20B)一侧的所述校正磁力线的磁路(21A、21B、24)、以及能够改变贯通磁路(21A、21B、24)内部的校正磁力线的强度的磁场校正手段(12、14)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100529815C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN02156957.6
申请日：2002-09-20
CPC classification number: G02B1/113 , C23C14/0694 , C23C14/32
Abstract: 本发明提供光学特性和耐磨耗性优良、并且能够在低温下形成的光学系统的膜结构。在用于把可见光透射率调整为任意值的光学系统(101)中，使光学系统(101)的至少一部分由具有3nm以上并且10nm以下的结晶粒径的氟化物(103)构成。该氟化物(103)还具有1～5m2/g的比表面积。
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公开(公告)号：CN1846013A
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN200480025541.4
申请日：2004-08-30
Applicant: 新明和工业株式会社
CPC classification number: C23C14/505 , C23C14/24 , C23C14/541
Abstract: 本发明的真空成膜方法以及装置，在设在真空室(1)内且流路(7f)、(7g)、(7i)内流入规定的载热溶液的基体材料支持构件(6a)上安装基体材料，使所述真空室内保持实质上的真空状态，在所述真空室的内部，从2个或2个以上的蒸发源使蒸发材料蒸发，以规定的顺序使该蒸发的所述蒸发材料扩散到所述真空室的内部，使该扩散的所述蒸发材料蒸镀在所述基体材料的蒸镀面上，使由所述蒸发材料构成的多层膜在所述基体材料的蒸镀面上形成，在这样的成膜方法中，将防冻溶液用作流入所述基体材料支持构件具备的流路内的所述规定的载热溶液。
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公开(公告)号：CN1354275A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：CN01137616.3
申请日：2001-09-26
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C16/515 , C23C14/325 , C23C14/545 , C23C16/517
Abstract: 一种电弧蒸发器,包括:阳极;作为阴极的蒸发源电极;以及用于产生穿过阳极和蒸发源电极的AC方波电弧电流的电流控制单元。
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公开(公告)号：CN103476634B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201280016011.8
申请日：2012-02-21
Applicant: 新明和工业株式会社
Abstract: 将倾卸缸（12）的基端（12a）能够立卧地安装在位于与底盘（2）上的货箱支撑轴（20）保持有距离之位置的缸支撑轴（21）上，将转动部件（24）的第一安装部（24a）能够转动地安装在垃圾收放箱（3）下部的转动部件支撑轴（23）上，将连杆部件（26）的一端（26a）能够立卧地安装在设置在货箱支撑轴和缸支撑轴（21）之间的连杆支撑轴（25）上。将倾卸缸的顶端（12b）能够转动地安装在第二安装部（24b）上，将连杆部件的另一端（26b）能够立卧地安装在第三安装部（24c）上。在倾卸缸卧倒的卧倒状态下顺着货箱支撑轴的轴向看去，第一安装部、第二安装部以及第三安装部设置在缸支撑轴和连杆支撑轴之间，让转动部件朝着将垃圾收放箱往上方推的方向转动。
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公开(公告)号：CN103079973B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201180042633.3
申请日：2011-09-26
Applicant: 新明和工业株式会社
IPC: B65F3/20
Abstract: 旋转支承部件(22)可旋转地插入一对相对侧壁(6a)上的各个支承用通孔(6b)中，设置不能相对于相对侧壁(6a)以旋转支承部件(22)的旋转中心做相对旋转的公转中心齿轮(27a)。偏心于旋转支承部件(22)的旋转中心设置自转中心齿轮(27b)，将自转中心轴(25)贯穿旋转支承部件(22)与自转中心齿轮(27b)联结的垃圾挤入旋转板(26)可旋转地设置在一对相对侧壁(6a)之间。将旋转支承部件侧链轮(32)布置在相对侧壁(6a)的外侧，与旋转支承部件(22)一体旋转地相联结。将公转中心齿轮(27a)和自转中心齿轮(27b)布置在旋转支承部件侧链轮(32)的与旋转支承部件(22)相对之相对面(底板22a)的相反一侧。这样就能够一边正确地控制垃圾挤入旋转板相对于垃圾投入箱的隔板下端的位置，一边提高垃圾装载装置的维修性及组装性且谋求紧凑化。
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