公开(公告)号：CN113874166B

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202080038768.1

申请日：2020-05-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈辉 ,  卓志忠 ,  吴昊晟 ,  唐建设 ,  H·桑达拉拉贾恩 ,  张寿松 ,  A·J·菲舍 ,  P·D·巴特菲尔德

IPC: B24B37/015 ,  B24B37/34 ,  B24B49/14 ,  B08B3/02

Abstract: 一种用于化学机械抛光系统的温度控制方法，包括以下步骤：当抛光系统中的部件与抛光系统中的抛光垫分隔开时，将包含蒸汽的气体从孔口引导到部件上以清洁部件或使部件的温度上升到升高的温度。将部件移动到与抛光垫接触，这可以在部件返回到环境温度之前发生。

公开(公告)号：CN113649944B

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202110988643.1

申请日：2017-06-19

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Y-C·杨 ,  S·朱 ,  J·唐 ,  H·吴 ,  S-S·常 ,  P·D·巴特菲尔德 ,  A·J·菲舍 ,  B·J·金

IPC: B24B37/10 ,  B24B37/34 ,  B24B57/02

Abstract: 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。