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公开(公告)号：CN114753000A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210399479.5
申请日：2022-04-15
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及外延生长技术领域，具体公开了一种外延炉的衬底装载装置及上下料系统，其中，该装置包括：装载室，所述装载室内具有与外界隔绝的装载腔；托盘，安装在所述装载腔内；片盒，设置在所述托盘上，用于存放所述衬底；所述装置还包括：顶杆，设置在所述装载室外；磁力件，固定在所述顶杆上，且与所述装载室内的所述托盘磁性相吸；升降机构，安装在所述装载室外，与所述顶杆连接；该装置实现了对装载室内托盘的无接触式驱动，从而保留了装载室的完整性，提高了装载室的密封度。
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公开(公告)号：CN114551572A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210163347.2
申请日：2022-02-22
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及半导体器件领域，公开了拓扑PN结及其制备方法和拓扑量子输运特性的调节方法，拓扑PN结包括衬底、电极、P型区和N型区；所述P型区与一所述电极相接，所述N型区与另一所述电极相接，所述N型区与所述P型区之间形成空间电荷区；所述P型区为P型掺杂的拓扑半导体，所述N型区为N型掺杂的拓扑半导体。本申请提供了一种新型的基于拓扑半导体的拓扑PN结，可以充分利用半导体具有能隙且易于调控的优势，可以有效实现拓扑量子输运特性的单向开启。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119245357A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411780098.7
申请日：2024-12-05
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及热处理技术领域，具体提供了一种用于热处理设备的传片系统及方法，该系统包括：缓存室；过渡室；控制器，用于控制机械臂将待热处理外延片移动至缓存舟架上或将完成冷却的已热处理外延片移动至片盒上，还用于控制机械臂将待热处理外延片移动至热处理设备内或将已热处理外延片移动至缓存舟架上，还用于在片盒上的所有待热处理外延片均被取出或片盒上放满完成冷却的已热处理外延片时，控制第一开关闸门关闭，然后控制第二开关闸门打开，还用于在完成片盒的更换后，控制第二开关闸门关闭，然后控制第一开关闸门打开；该系统能够在避免热处理设备暴露在非洁净环境中的情况下同时对过渡室进行片盒的取放和对热处理设备进行外延片的上下料。
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公开(公告)号：CN113718333B
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202111020536.6
申请日：2021-09-01
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及外延生长技术领域，具体明公开了一种外延炉的匀气盒及气体输送组件，其中，匀气盒，用于朝外延炉的反应室输送反应气体，包括：用于朝外延炉的反应室输送反应气体，包括：盒体，盒体长度为10‑30cm，盒体内设有若干沿其长度方向设置的气孔，若干气孔包括若干小孔和若干大孔，若干大孔对称分设于小孔两侧；该匀气盒长度为10‑30cm，能使反应气体沿着气孔在盒体中进行输送从而形成若干道平行流动的反应气体气流，确保匀气盒输出的反应气体稳定不紊乱，使得晶体生长更均匀，同时采将气孔布置为中间小、两侧大的形式，使得两侧边缘气流的流速高于传统导气筒导出的两侧边缘气流的流速，从而解决衬底边缘的温度均匀性差的问题。
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公开(公告)号：CN114082729A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202210056227.2
申请日：2022-01-18
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及半导体制造领域，具体而言，涉及一种外延炉反应腔的清洗系统、方法、设备和存储介质，该系统用于清洗外延炉反应腔顶壁上堆积的杂质，该系统包括移动装置；激光测距仪，安装在移动装置上，用于测量激光测距仪到反应腔顶壁的最短距离以获取距离信息；可升降的清洗装置，安装在移动装置上，用于对反应腔顶壁的杂质进行清洗；控制器，用于实时获取激光测距仪测得的距离信息和获取反应腔模型，进而获取清洗路径信息，并根据上述信息生成杂质厚度信息组；还可根据清洗路径信息控制移动装置移动和根据杂质厚度信息组调节清洗装置的升降高度，以逐步清洗反应腔顶壁的杂质，此方法无需拆卸反应腔即可得到光洁的反应腔顶壁。
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公开(公告)号：CN114060723A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111369721.6
申请日：2021-11-18
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及半导体制造领域，具体而言，涉及一种外延工艺设备用安全保护泄压系统及外延工艺设备，该系统用于调节外延设备反应腔内的气压，所述外延工艺设备用安全保护泄压系统包括:主动泄压管路，与所述反应腔出口连接；被动泄压管路，与所述反应腔出口连接，所述被动泄压管路上设置有爆破阀，所述爆破阀用于在所述反应腔内压力异常且所述主动泄压管路失效时进行泄压；控制器，与所述主动泄压管路电性连接，用于获取反应腔内的压力信息，并根据所述压力信息控制所述主动泄压管路的开关以调节所述反应腔内的气压。通过设计主动泄压管路和被动泄压管路实现反应腔中气压异常时的双重防护,有效保障人员与设备的人身财产安全。
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公开(公告)号：CN113913789A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202111187817.0
申请日：2021-10-12
Applicant: 季华实验室
IPC: C23C16/458 , C23C16/455
Abstract: 本申请涉及外延生长技术领域，具体公开了一种托盘基座、气流驱动装置及外延设备的反应室机构，其中，托盘基座底部设有多个圆周阵列的气流槽，多个气流槽通过一进气槽连通，气流槽包括：内槽，与进气槽连通；外槽，与内槽和托盘基座边缘连通；内槽深度小于外槽深度以使得进气槽导入的气流进入内槽中增大动压而托起托盘基座后，再进入外槽中朝外释放而驱动托盘基座旋转；该托盘基座将气流槽设置为内槽和外槽两部分，使得导入的气流从进气槽导入至内槽时产生较大的动压而将托盘基座浮起，其后气流再进入外槽中朝外释放以驱动托盘基座旋转，从而实现了托盘基座先浮起后旋转的启动方式。
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