一种BP神经网络优化的图腾柱PFC电路的模糊PI控制方法

    公开(公告)号:CN120085529A

    公开(公告)日:2025-06-03

    申请号:CN202510231724.5

    申请日:2025-02-28

    Abstract: 本发明提供一种BP神经网络优化的图腾柱PFC电路的模糊PI控制方法,所述方法包括:构建图腾柱PFC电路。构建电压及电流的采样电路。构建电压环、电流环双闭环控制器,其中电压环控制器采用BP神经网络优化的模糊PI控制器,通过BP神经网络优化模糊PI控制器的积分速率。在电流环控制器中,将电压环控制器的输出与锁相环输出相乘,得到的参考电流iref与电感电流iL作差,再通过电流环PI控制器得到占空比,将占空比信号送入PWM生成器中产生PWM信号,用于控制两个GaN开关管开通和关断,使输入电流追踪输入电压相位,从而实现功率因数校正的目的。本发明提高了图腾柱无桥PFC电路的稳定性和响应速度。

    一种氮化镓基高电子迁移率晶体管的葡萄糖传感器

    公开(公告)号:CN110470713B

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN201910596899.0

    申请日:2019-07-03

    Abstract: 本发明提供了一种氮化镓基高电子迁移率晶体管的葡萄糖传感器,在所述氮化镓基材料表面分别蒸镀源极、漏极和栅极金属层;在所述的源电极和漏电极表面及侧面生长保护层;所述的栅金属电极不在源漏金属电极间;在所述的源和漏金属电极间的空栅区域固定化学修饰层;修饰层包括自组装分子膜、金纳米颗粒和葡萄糖氧化酶。本发明利用氮化镓/铝镓氮界面处可产生高浓度高迁移率的二维电子气对表面纵向微小电荷的变化有输出和放大的作用,通过有序排列在自组装分子膜表面的金纳米颗粒,在葡萄糖酶的催化下,葡萄糖会分解成葡萄糖酸和电子,不同浓度的葡萄糖产生的电子不同,源极和漏极的输出电流不同,从而测试葡萄糖的浓度。

    一种基于仿生视觉的CMOS图像传感器像素结构

    公开(公告)号:CN112420759B

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202011243957.0

    申请日:2020-11-10

    Abstract: 本发明涉及CMOS图像传感器技术领域,提供一种基于仿生视觉的CMOS图像传感器像素结构,包括:彩色信号收集单元、黑白信号收集单元、第三转移晶体管TG3、复位晶体管RST、源极跟随器SF和行选择晶体管RS;所述黑白信号收集单元,包括:第一钳位光电二极管PPD1、第一转移晶体管TG1和第一浮置扩散电容FD1;所述彩色信号收集单元,包括:第二钳位光电二极管PPD2、第二转移晶体管TG2和第二浮置扩散电容FD2。本发明能够在同一CMOS图像传感器中分别获得高灵敏度的黑白图像信号和彩色图像信号。

    一种双面碳化硅PIN结构微条辐射探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN114597273A

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN202210198261.3

    申请日:2022-03-02

    Abstract: 本发明公开了一种双面碳化硅PIN结构微条辐射探测器及其制备方法。本发明的探测器以碳化硅单晶(1)为基体,碳化硅单晶(1)碳面注入多个微条形结构的n型碳化硅层(2),碳化硅单晶(1)硅面设有多个与n型碳化硅层(2)垂直的p型碳化硅结构(3);每一n型碳化硅层(2)上设置一下电极(4),碳化硅单晶(1)碳面上设置第一保护环,各下电极(4)之间、各下电极(4)与第一保护环之间以及第一保护环外侧填充有绝缘介质保护层(6);每一p型碳化硅结构(3)上设置一上电极(5),在碳化硅单晶(1)硅面上设置第二保护环,各上电极(5)之间、各上电极(5)与第二保护环之间以及第二保护环外侧填充有绝缘介质保护层(6)。

    一种氮化镓基高电子迁移率晶体管的氢气传感器

    公开(公告)号:CN112345615A

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN202011213032.1

    申请日:2020-11-03

    Abstract: 本发明属于气体传感器技术领域,提供了一种氮化镓基高电子迁移率晶体管的氢气传感器,在所述氮化镓基材料表面分别蒸镀源极、漏极和Pd/Pt层。本发明利用当氢气吸附在Pd/Pt层上分解为氢原子传递到界面处,氢原子在界面极化吸附以后所产生的电场将引起表面纵向电荷的变化,进而调制异质结界面处二维电子气浓度,改变源漏电极的输出电流,从而测试氢气的浓度。而且本发明具有操作简单,所制备的氢气传感器稳定性好和成本低等优势,所制备的氢气传感器质量好,能够保持良好的性能且该氢气传感器可以在较为宽松的湿度环境中进行测试,不会影响其输出。制备环境条件要求简单,可稳定制备。

    一种基于碳化硅单晶的X射线探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN108493292A

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201810338112.6

    申请日:2018-04-12

    Abstract: 本发明属于半导体器件制备技术领域,涉及一种基于碳化硅单晶的X射线探测器及其制备方法。该探测器主要包括:高阻碳化硅单晶、高电子浓度n型碳化硅层、低电子浓度n型碳化硅层、高空穴浓度p型碳化硅层、低空穴浓度p型碳化硅层、二氧化硅保护层、p型碳化硅欧姆接触电极、n型碳化硅欧姆接触电极、和金引线电极。本发明提出一种有效而简便的工艺制造技术,解决了碳化硅基高能X射线探测器的制备难题,实现新型碳化硅辐射探测器的研制。

    一种氮化镓位置灵敏辐射探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN107093643A

    公开(公告)日:2017-08-25

    申请号:CN201710205623.6

    申请日:2017-04-05

    CPC classification number: H01L31/117 H01L31/035281 H01L31/1848

    Abstract: 本发明提供了一种氮化镓位置灵敏辐射探测器及其制备方法,属于半导体器件制备技术领域。探测器以半绝缘氮化镓单晶为衬底,其上依次生长n型氮化镓层、InGaN插入层、高阻氮化镓探测灵敏区、图形化p型氮化镓层和绝缘介质保护层;其中,InGaN插入层的宽度小于n型氮化镓层的宽度,InGaN插入层和高阻氮化镓探测灵敏区的宽度相同;多个图形化p型氮化镓层间隔排布在高阻氮化镓探测灵敏区上,图形化p型氮化镓层上制备上欧姆接触电极,n型氮化镓层上未被覆盖区域制备下欧姆接触电极;图形化p型氮化镓层外部为绝缘介质保护层。本发明解决了高性能氮化镓位置灵敏辐射探测器的制备难题,实现新型氮化镓位置灵敏辐射探测器的研制。

    掺杂氧化镓膜的制备方法及掺杂氧化镓膜

    公开(公告)号:CN103469299B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201310398997.6

    申请日:2013-09-05

    Abstract: 本发明提供一种掺杂氧化镓膜的制备方法及掺杂氧化镓膜,该掺杂氧化镓膜的制备方法包括以下步骤:选取衬底,所述衬底中含有目标掺杂元素;采用金属有机物化学气相沉积法在所述衬底上制备氧化镓膜,得到掺杂氧化镓膜初品;对制备得到的掺杂氧化镓膜初品进行热处理和激活,得到掺杂氧化镓膜。本发明掺杂氧化镓膜的制备方法步骤科学、合理,有效解决了目前金属有机物化学气相沉积法难以实现氧化镓膜的多种类、安全、有效掺杂的问题。本发明制备得到的掺杂氧化镓膜具有优良的导电特性。

    在镓系异质半导体衬底上制备氧化镓膜的方法及氧化镓膜

    公开(公告)号:CN103456603B

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201310401102.X

    申请日:2013-09-05

    Abstract: 本发明提供一种在镓系异质半导体衬底上制备氧化镓膜的方法及氧化镓膜,在镓系异质半导体衬底上制备氧化镓膜的方法包括以下步骤:选取镓系半导体衬底,并清理镓系半导体衬底表面;然后在含有氧分压的气氛中,采用外部能量对镓系半导体衬底进行处理,将镓系半导体衬底表面区域的镓原子与其它组分原子形成的化学键打开,使得镓原子与气氛中的氧原子结合形成镓氧键;最后采用氧化镓膜生长技术在处理后的镓系半导体衬底上生长氧化镓膜。本发明在镓系异质半导体衬底上制备氧化镓膜的方法步骤科学、合理,解决了现有技术的诸多问题,有效降低了异质外延生长氧化镓膜的缺陷密度。

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