一种基于激光石墨化技术的新型碳化硅器件及制备方法

    公开(公告)号:CN115911173B

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202211439666.8

    申请日:2022-11-17

    Abstract: 本发明属于半导体器件制备技术领域,公开了一种基于激光石墨化技术的新型碳化硅器件及制备方法,包括高阻碳化硅单晶片、二氧化硅保护层、金属电极、连接电极和引线电极;金属电极位于高阻碳化硅单晶片内部;二氧化硅保护层围绕金属电极周围布置,覆盖在非金属电极所在区域的高阻碳化硅单晶片的上表面,保证高阻碳化硅单晶片和金属电极在同一平面;连接电极位于金属电极上,保证连接电极与二氧化硅保护层在同一平面;引线电极位于连接电极和二氧化硅保护层上表面。本发明设计了一种新型碳化硅器件,并提出了一种有效而简便的工艺制造技术,解决了碳化硅基高能粒子与射线探测器的制备和性能难题,实现新型碳化硅辐射探测器的研制。

    一种基于激光石墨化技术的新型碳化硅器件及制备方法

    公开(公告)号:CN115911173A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202211439666.8

    申请日:2022-11-17

    Abstract: 本发明属于半导体器件制备技术领域,公开了一种基于激光石墨化技术的新型碳化硅器件及制备方法,包括高阻碳化硅单晶片、二氧化硅保护层、金属电极、连接电极和引线电极;金属电极位于高阻碳化硅单晶片内部;二氧化硅保护层围绕金属电极周围布置,覆盖在非金属电极所在区域的高阻碳化硅单晶片的上表面,保证高阻碳化硅单晶片和金属电极在同一平面;连接电极位于金属电极上,保证连接电极与二氧化硅保护层在同一平面;引线电极位于连接电极和二氧化硅保护层上表面。本发明设计了一种新型碳化硅器件,并提出了一种有效而简便的工艺制造技术,解决了碳化硅基高能粒子与射线探测器的制备和性能难题,实现新型碳化硅辐射探测器的研制。

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