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公开(公告)号:CN115911173B
公开(公告)日:2025-04-15
申请号:CN202211439666.8
申请日:2022-11-17
Applicant: 大连理工大学
IPC: H10F30/29 , H10F77/30 , H10F77/20 , H10F77/1226 , H10F71/00
Abstract: 本发明属于半导体器件制备技术领域,公开了一种基于激光石墨化技术的新型碳化硅器件及制备方法,包括高阻碳化硅单晶片、二氧化硅保护层、金属电极、连接电极和引线电极;金属电极位于高阻碳化硅单晶片内部;二氧化硅保护层围绕金属电极周围布置,覆盖在非金属电极所在区域的高阻碳化硅单晶片的上表面,保证高阻碳化硅单晶片和金属电极在同一平面;连接电极位于金属电极上,保证连接电极与二氧化硅保护层在同一平面;引线电极位于连接电极和二氧化硅保护层上表面。本发明设计了一种新型碳化硅器件,并提出了一种有效而简便的工艺制造技术,解决了碳化硅基高能粒子与射线探测器的制备和性能难题,实现新型碳化硅辐射探测器的研制。
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公开(公告)号:CN116895711A
公开(公告)日:2023-10-17
申请号:CN202310929886.7
申请日:2023-07-27
Applicant: 大连理工大学
IPC: H01L31/115 , H01L31/18 , H01L31/028 , H01L21/268
Abstract: 本发明属于微电子技术领域,公开一种利用皮秒激光器减薄的4H‑SiC基肖特基结构ΔE探测器及其制作方法。该4H‑SiC基肖特基结构ΔE探测器自下而上包括肖特基接触电极、n型外延层、N型缓冲层、N型衬底、N型欧姆接触电极。该4H‑SiC基肖特基结构ΔE探测器的衬底经过皮秒激光器高效减薄,并以未减薄的衬底作为整体的支撑,更有利于粒子穿透,对于低能粒子的能量分辨和粒子鉴别能力优异,可用于核辐射探测领域对更大范围能量的粒子进行探测与甄别。
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公开(公告)号:CN115911173A
公开(公告)日:2023-04-04
申请号:CN202211439666.8
申请日:2022-11-17
Applicant: 大连理工大学
IPC: H01L31/115 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , H01L31/0312 , H01L31/18
Abstract: 本发明属于半导体器件制备技术领域,公开了一种基于激光石墨化技术的新型碳化硅器件及制备方法,包括高阻碳化硅单晶片、二氧化硅保护层、金属电极、连接电极和引线电极;金属电极位于高阻碳化硅单晶片内部;二氧化硅保护层围绕金属电极周围布置,覆盖在非金属电极所在区域的高阻碳化硅单晶片的上表面,保证高阻碳化硅单晶片和金属电极在同一平面;连接电极位于金属电极上,保证连接电极与二氧化硅保护层在同一平面;引线电极位于连接电极和二氧化硅保护层上表面。本发明设计了一种新型碳化硅器件,并提出了一种有效而简便的工艺制造技术,解决了碳化硅基高能粒子与射线探测器的制备和性能难题,实现新型碳化硅辐射探测器的研制。
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