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公开(公告)号：CN116858867A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310823690.X
申请日：2023-07-06
Applicant: 同济大学
IPC: G01N23/202 , G02B27/00 , G01N23/20008
Abstract: 本发明公开了一种基于中子超镜的嵌套式全环形准椭球聚焦系统及设计方法，包括：物面光源、设置于物面光源一侧的聚焦镜、设置于聚焦镜一侧的样品光阑、设置于样品光阑中的样品及设置于样品光阑一侧的像面探测器；聚焦镜包括芯轴及均匀固定于芯轴外表面一圈的多个镜面组件，每个镜面组件之间间隔设置；聚焦镜靠近物面光源的一侧面上设置有碳化硼遮光板，该聚焦镜通过碳化硼遮光板提高系统信噪比。根据本发明，同时实现高增益和高分辨率，所设计的新型聚焦系统可以满足小型加速器中子源的小角中子散射谱仪应用需求。
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公开(公告)号：CN114659462B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202210224144.X
申请日：2022-03-09
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种一维轮廓测量辅助修正的子孔径拼接干涉检测方法，该方法包括：先利用干涉仪，使用全局拼接算法拼接测量待测反射元件表面面形，获得拼接测试面，再利用一维轮廓测量设备测量待测反射元件在拼接区域中心线的一维轮廓L，之后结合一维轮廓测量结果对所述拼接测试面进行修正，最终获得高精度测量面。与现有技术相比，本发明具有可提高拼接后面形绝对精度、方便易行、简单有效等优点。
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公开(公告)号：CN112179622B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202010945043.2
申请日：2020-09-10
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种超高精度多层膜厚度漂移误差标定方法，包括：将基板交替运动到镀制多层膜的两种靶材的溅射区域，进行第一周期多层膜的镀制；使基板远离溅射区域，继续靶材的溅射，模拟目标周期多层膜的镀制过程；将镀制有第一周期多层膜的基板再次交替运动到溅射区域，进行第二周期多层膜的镀制，形成标定样品；在固定X射线能量下对镀制好的标定样品进行X射线掠入射反射测试，得到测试反射率曲线，基于测试反射率曲线与模拟反射率曲线的比较，获得起始至结束的多层膜漂移误差；其中，第一周期多层膜和第二周期多层膜的膜对数为目标周期多层膜膜对数的1/10～1/5。与现有技术相比，本发明具有精度高、受仪器条件影响小等优点。
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公开(公告)号：CN112179622A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202010945043.2
申请日：2020-09-10
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种超高精度多层膜厚度漂移误差标定方法，包括：将基板交替运动到镀制多层膜的两种靶材的溅射区域，进行第一周期多层膜的镀制；使基板远离溅射区域，继续靶材的溅射，模拟目标周期多层膜的镀制过程；将镀制有第一周期多层膜的基板再次交替运动到溅射区域，进行第二周期多层膜的镀制，形成标定样品；在固定X射线能量下对镀制好的标定样品进行X射线掠入射反射测试，得到测试反射率曲线，基于测试反射率曲线与模拟反射率曲线的比较，获得起始至结束的多层膜漂移误差；其中，第一周期多层膜和第二周期多层膜的膜对数为目标周期多层膜膜对数的1/10～1/5。与现有技术相比，本发明具有精度高、受仪器条件影响小等优点。
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公开(公告)号：CN112159962A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202010945223.0
申请日：2020-09-10
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种抗环境侵蚀极紫外多层膜表面保护层快速制备方法及应用，所述方法包括以下步骤：在基底上镀制极紫外多层膜；保持极紫外多层膜的真空环境不变，进行镁靶材和铝靶材的预溅射；将镀制有所述极紫外多层膜的基底重复交替运动到镁靶材和铝靶材的溅射区域，控制运动参数，完成镁膜层和铝膜层交替生长的铝/镁多层膜结构的镀制，形成铝镁混合保护层，所述铝/镁多层膜结构中，每层镁膜的厚度为1‑3纳米，每层铝膜的厚度为1‑3纳米；将镀制完成的基底取出真空腔，放置于大气环境中自发融合。与现有技术相比，本发明制备效率高，能大幅提高表面保护层的制作速度，保证极紫外多层膜的稳定性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108359950A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201810167868.9
申请日：2018-02-28
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种单色器用钌/碳化硼多层膜反射镜制备方法，包括以下步骤：在溅射镀膜腔内的样品架上放置基底，并对溅射镀膜腔进行抽真空，形成溅射镀膜真空腔；在所述溅射镀膜真空腔充入混合气体，所述混合气体由氩气和氮气混合而成，且混合气体的混合比例范围为16％-30％，所述混合比例指氮气分压占混合气体总压强的百分比；执行钌靶材和碳化硼靶材的预溅射；完成钌膜层和碳化硼膜层交替的钌/碳化硼多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比，本发明制备的钌/碳化硼多层膜应力大幅度降低，且不会降低反射率。该方法工艺重复性高，可控性强，在高通量多层膜单色器元件和相应的X射线光学仪器领域有重要应用。
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公开(公告)号：CN107843212A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201711058700.6
申请日：2017-11-01
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/255
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B11/255
Abstract: 本发明涉及一种结合轮廓仪和干涉仪检测轮胎镜曲率半径的方法，针对轮胎镜面的特点，采用干涉法检测轮胎镜面的小曲率半径和大曲率半径，包括：小曲率半径检测步骤，通过光学轮廓仪获取轮胎镜的实测表面形貌，提取沿小曲率半径方向的轮廓数据点，拟合获得小曲率半径；大曲率半径检测步骤，通过平面干涉仪检测获得轮胎镜的面形轮廓数据，沿大曲率半径方向提取干涉仪检测数据点，拟合获得大曲率半径。与现有技术相比，本发明具有非接触、高精度等优点。
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公开(公告)号：CN107142456A
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201710247265.5
申请日：2017-04-17
Applicant: 同济大学
CPC classification number: C23C14/352 , C23C14/505
Abstract: 本发明涉及一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备。该设备在圆形真空腔中心安放用于夹持凸形柱面镜的转动轴，在外围安装用于安放凹形柱面镜的转动圆环，在转动圆环和转动轴之间安放竖直摆放的线型磁控溅射靶枪，靶枪前安放有可以旋转的气动挡板。通过改变靶枪朝向和调整靶枪在真空腔内的径向位置，可使靶枪分别指向转动圆环和转动轴，并对安装在转动圆环上的凹形柱面镜或者是安装在转动轴上的凸形柱面镜进行镀制。通过改变靶枪前的气动挡板的开关以及转动圆环和转动轴的转动速率完成对薄膜制备工艺的控制。
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公开(公告)号：CN104698520B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201510078918.2
申请日：2015-02-13
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种X射线层状多层膜闪耀光栅结构及其制作方法，所述层状多层膜闪耀光栅结构包括闪耀光栅基底，所述闪耀光栅基底上设置有周期性分布的锯齿结构，形成的光栅周期为D，各锯齿结构均包括闪耀面和反闪耀面，所述闪耀面的中心区域镀制有多层膜堆。与现有技术相比，本发明克服了传统多层膜闪耀光栅(BMG)和层状多层膜光栅(LMG)的缺点；相比BMG解决了其在反闪耀面附近非复形生长区域膜层吸收大，导致实际衍射效率远低于理论值的问题；相比LMG，多层膜的倾角使其能在高级次获得极高的衍射效率。本发明能同时获得高效率和分辨率，可作为高精度X射线光谱测量的关键元件。
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公开(公告)号：CN106247987A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610827114.2
申请日：2016-09-18
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/2441
Abstract: 本发明涉及一种提高光学表面轮廓仪检测精度和最高有效空间分辨频率的方法。白噪声是一种功率谱密度为常数的随机信号或随机过程，导致在功率谱密度曲线中出现拖尾现象。依据白噪声的性质和规律，本发明在空间频域对表面微观结构和白噪声进行展开，利用功率谱密度曲线评价白噪声影响的频域范围，通过特定频域的有效平均测量，降低了白噪声的影响，获得了最优测量精度和最高有效空间频率两者的选取标准。本发明原理简单，操作便捷，显著降低了光学轮廓仪校准的操作难度和成本，并可确定光学表面轮廓仪的最高有效空间分辨率。
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