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公开(公告)号：CN114690298A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210284007.5
申请日：2022-03-21
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法，包括以下步骤：基于原子光刻技术在基板上进行一次原子光刻，获得原子光刻光栅样板；至少循环执行一次以下操作：利用光阑的限位作用，保持会聚光指向不变，将主透镜及当前的原子光刻光栅样板作为整体沿激光驻波场方向平移一段距离并固定，调整主透镜使返回的会聚光形成驻波场并与金属原子束待沉积区域存在重叠部分，在当前的原子光刻光栅样板上进行一次原子光刻；通过相邻次原子光刻光栅的无缝拼接，获得大面积自溯源光栅。与现有技术相比，本发明有效地解决了自溯源光栅驻波场方向扩展的技术问题，并具备光栅无缝衔接，扩展空间大的优点。
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公开(公告)号：CN112596137B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202011420469.2
申请日：2020-12-07
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种高损伤阈值的多层介质膜矩形衍射光栅制备方法，包括以下步骤：镀制多层介质膜；在Si片上刻蚀制备出与目标矩形光栅结构相反的矩形Si光栅母版；利用软材料模板转移矩形Si光栅母版的图案；使用紫外纳米软压印技术，通过软材料模板在多层介质膜上形成与目标矩形光栅结构相反的光刻胶光栅；使用原子层沉积工艺在所述光刻胶光栅上沉积构成光栅的薄膜；去除多余薄膜和光刻胶，形成需要的矩形光栅结构。与现有技术相比，本发明克服了传统光栅刻蚀工艺造成的梯形光栅结构，解决了梯形光栅结构偏差引起的光栅内电场增强效应加剧，避免了因刻蚀过程中离子束轰击在介质光栅侧壁产生吸收缺陷，提高介质多层膜衍射光栅的激光损伤阈值。
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公开(公告)号：CN111650680A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010575620.3
申请日：2020-06-22
Applicant: 同济大学 , 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制备掩膜版；3)获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对光刻胶进行曝光和显影，得到光刻胶光栅结构；4)将光刻胶光栅结构转移到第二衬底上，获取自溯源光栅标准物质。与现有技术相比，本发明制备的自溯源光栅标准物质具有高精度、溯源性和精确缩短节距值等优点。
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公开(公告)号：CN108515743B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201810466339.9
申请日：2018-05-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种金属/介质超宽带吸收薄膜及其制备方法，所述金属/介质超宽带吸收薄膜包括由下而上依次设置的基板、第一薄膜和第二薄膜，所述第一薄膜(2)为由低折射率介质膜层L和高吸收金属薄层H交替设置构成的金属/介质膜堆，且第一薄膜与基板接触的一侧为低折射率介质膜层L，所述第二薄膜为一单层低折射率介质减反膜AR。与现有技术相比，本发明省略了传统厚层贵金属衬底，增加了薄膜与基板间的附着力和牢固度，选材方法新颖，实现了400nm‑7000nm约7μm的吸收带宽，薄膜平均吸收率大于92％。
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公开(公告)号：CN107015028B
公开(公告)日：2020-01-31
申请号：CN201710107113.5
申请日：2017-02-27
Applicant: 同济大学
IPC: G01Q60/24
Abstract: 本发明涉及一种基于原位探测技术的纳米尺度初始激光损伤检测方法及系统，所述方法包括以下步骤：在样品的待测区域设置多个标记点，并设置为定位点；在原子力显微镜下找到定位点，以定位点为基准，移动一定的相对坐标获得一测试区域，测试形貌；选定一损伤测试点，对样品进行激光损伤阈值测试；在损伤测试装置下用低于激光损伤阈值的激光光斑辐照测试区域；再次在原子力显微镜下找到测试区域，测试形貌；将两次获得的形貌进行对比，根据对比结果进行修正，判断是否发生纳米尺度的变化，若否，则在低于激光损伤阈值的情况下增加激光光斑的激光能量，直到发生纳米尺度的变化。与现有技术相比，本发明具有精确度高、可重复性好、结构简单等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107748404B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201710865078.3
申请日：2017-09-22
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/08
Abstract: 本发明涉及一种低散射损耗的高反射薄膜，包括由下而上依次设置的基板、第一薄膜、第二薄膜和第三薄膜，第一薄膜、第二薄膜和第三薄膜均由高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L交替设置构成，第一薄膜为1/4中心波长光学厚度的标准高反射薄膜结构，第二薄膜和第三薄膜均为全介质法珀腔薄膜结构，第一薄膜与基板接触的一侧为高折射率材料膜层H，第三薄膜与空气接触的一侧为高折射率材料膜层H，第一薄膜、第二薄膜和第三薄膜连接处高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L交替设置。与现有技术相比，本发明具有有效降低散射、材料选择范围广、制作成本低和易于推广等优点，在超高精度激光测量领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN109510060A
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201811635606.7
申请日：2018-12-29
Applicant: 润坤(上海)光学科技有限公司 , 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种用于板条激光器的晶体全反射面的减反射结构，包括板条晶体以及设置在板条晶体外层的低折射率SiO2薄膜，该结构还包括设置在板条晶体与SiO2薄膜之间以二维平面形式按一定周期正交排列的多个亚波长尺寸的锥形减反射微结构。与现有技术相比，本发明具有大幅降低全反射面处入射角小于全反射临界角的光的反射率和实用性强等优点。
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公开(公告)号：CN106099629B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201610629924.7
申请日：2016-08-04
Applicant: 同济大学
IPC: H01S3/06
Abstract: 本发明涉及一种超宽角度范围抑制板条激光器自发放大辐射的方法，具体为：在激光增益介质和金属热沉之间使用一个金属/介质宽带吸收膜来抑制自发放大辐射。金属/介质宽带吸收膜包括两部分，靠近激光增益介质部分是一层微米级厚度SiO2倏逝波薄膜，以保证信号激光全反射传输，在SiO2倏逝波薄膜之上镀制一种宽角度减反射高吸收金属/介质薄膜，使其能够在0°~全反射角°的超宽角度范围内，吸收穿透SiO2倏逝波薄膜的杂散激光，来抑制自发放大辐射。本发明可以根据实际的需求设计波长，在激光器领域有广阔的应用前景，可以从原理上解决限制激光器功率增大的因素，具有较高的可制备性，便于推广，为高功率固体激光器中ASE抑制问题提供一个全新的解决方案。
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公开(公告)号：CN107893216A
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201710944000.0
申请日：2017-09-30
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种修正石英监控法制备宽带增透膜沉积误差的方法，该方法包括以下步骤：1)设计监控厚度，制备一四层膜系，该四层膜系包括由高折射率材料制成的两种厚度的两层薄膜和由低折射率材料制成的两种厚度的两层薄膜；2)通过对制备的四层膜系的逆向反演及线性拟合，获得高折射率材料和低折射率材料的薄膜厚度偏差；3)以相同材料的所述薄膜厚度偏差对待制备的宽带增透膜的镀膜参数进行修正。与现有技术相比，本发明可以有效地修正沉积误差并提高光谱性能、操作简单且普适性强，使得宽带增透膜可以在实际中广泛生产。
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公开(公告)号：CN107015028A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710107113.5
申请日：2017-02-27
Applicant: 同济大学
IPC: G01Q60/24
Abstract: 本发明涉及一种基于原位探测技术的纳米尺度初始激光损伤检测方法及系统，所述方法包括以下步骤：在样品的待测区域设置多个标记点，并设置为定位点；在原子力显微镜下找到定位点，以定位点为基准，移动一定的相对坐标获得一测试区域，测试形貌；选定一损伤测试点，对样品进行激光损伤阈值测试；在损伤测试装置下用低于激光损伤阈值的激光光斑辐照测试区域；再次在原子力显微镜下找到测试区域，测试形貌；将两次获得的形貌进行对比，根据对比结果进行修正，判断是否发生纳米尺度的变化，若否，则在低于激光损伤阈值的情况下增加激光光斑的激光能量，直到发生纳米尺度的变化。与现有技术相比，本发明具有精确度高、可重复性好、结构简单等优点。
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