-
公开(公告)号：CN108919397B
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201810548512.X
申请日：2018-05-31
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种用于实现分步沉积型二维原子光刻的装置，包括第一反射镜、第二反射镜和机械固定机构，第一反射镜和第二反射镜垂直粘合构成垂直反射镜组，所述机械固定机构包括第一结构件、第二结构件、第三结构件和第四结构件，第一结构件、第二结构件、第三结构件和第四结构件构成一可容纳垂直反射镜组的框架，且该框架留有用于穿过原子束和会聚光的空间。与现有技术相比，本发明将二维原子光刻栅格夹角溯源至垂直反射镜组的垂直夹角，确保了栅格结构的正交性，并控制二维原子光刻分步沉积过程中驻波场切光的平行性，确保了光刻栅格结构的一致性与均匀性，可实现分步沉积型原子光刻技术制备非正交性误差小于0.01度的二维原子光刻栅格结构。
-
公开(公告)号：CN101303412A
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200810040207.6
申请日：2008-07-04
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明为一种预准直孔系结构及其实现监测原子束冷却效果的方法。该预准直孔系结构，包括一个主预准直孔和两个监测孔，其中的两个监测孔的尺寸相同并且对称的分布于主预准直孔的两侧，三个孔的中心位于同一直线上。在激光汇聚原子束沉积过程中，当穿过主预准直孔的原子被沉积基片阻挡时，可通过监测穿过两侧监测孔的原子在荧光探测区产生的荧光斑点冷却前后相对于原子束中轴的分布情况来间接的反映穿过主预准直孔原子束的冷却效果。本发明结构简单，调节方便，容易实现，而且可以有效地监测穿过主预准直孔原子束的冷却效果。
-
公开(公告)号：CN119124001B
公开(公告)日：2025-05-23
申请号：CN202411278096.8
申请日：2024-09-12
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的外差式精密位移测量系统，属于精密位移测量技术领域。包括单频激光模块、移频模块、外差位移测量模块、自溯源光栅和信号处理模块。单频激光模块产生单频激光，经过移频模块，得到两个频率不同且偏振态互相正交的线偏振光，构成外差光源。外差激光经外差位移测量模块，入射至自溯源光栅上，衍射光沿原光路返回至外差位移测量模块，得到具有位移信息的测量信号与参考信号，最后通过信号处理模块解算出两路信号的相位差并做位移换算。实现一种具有高稳定性与分辨力，且位移量值独立溯源的超精密位移测量系统，兼具外差光栅干涉仪的抗环境干扰能力，有着测量高分辨力，测量结果独立且可靠溯源的优势。
-
公开(公告)号：CN118884591B
公开(公告)日：2025-05-23
申请号：CN202411168208.4
申请日：2024-08-23
Abstract: 本发明公开了一种基于光频梳偏频锁定波长的铬原子光刻光栅制备方法及装置，涉及原子光刻技术领域，装置中光学频率梳的输出端与倍频光路连接；连续可调谐激光器的输出端与保偏光纤分束器的输入端连接；倍频光路和和保偏光纤分束器的第一输出端分别与光纤合束器的输入端连接；保偏光纤合束器的输出端与拍频检测光路的输入端连接；拍频检测光路的输出端通过光电接收器与功分器的输入端连接；频率计数器的输入端与功分器的第一输出端连接；偏频锁定系统的输入端与功分器的第二输出端连接；偏频锁定系统的输出端与连续可调谐激光器的控制输入端连接，本发明在实现原子光刻光栅尺寸拓展的同时保证了光栅的高衍射效率。
-
公开(公告)号：CN118980860B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202411168206.5
申请日：2024-08-23
IPC: G01R23/14
Abstract: 本发明公开了一种基于感生荧光效应的425nm波长基准构建方法及装置，涉及跃迁频率测量领域，装置包括，连续可调谐激光器，原子炉，铬原子束，光学频率梳，倍频光路，保偏光纤分束器，保偏光纤合束器，拍频检测光路，光电接收器以及频率计数器；连续可调谐激光器的输出端与保偏光纤分束器的输入端连接；光学频率梳的输出端与倍频光路连接；倍频光路和和保偏光纤分束器的第一输出端分别与光纤合束器的输入端连接；铬原子束经原子炉喷发与保偏光纤分束器的第二输出端发生作用；保偏光纤合束器的输出端与拍频检测光路的输入端连接；拍频检测光路的输出端通过光电接收器与频率计数器的输入端连接。本方法填补了蓝紫光波段波长基准的空白。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119126248B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202411284562.3
申请日：2024-09-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的高精度MOEMS相对重力仪，属于检测仪表领域，包括MEMS谐振子、自溯源光栅干涉仪和数据处理模块，所述MEMS谐振子包括折叠梁、固定框架和质量块，所述折叠梁两端与所述固定框架内侧壁连接，所述质量块通过所述折叠梁支撑悬浮于所述固定框架中心，所述自溯源光栅干涉仪包括自溯源光栅和干涉测量读数头，所述自溯源光栅设置在所述质量块上。本发明采用上述的一种基于自溯源光栅的高精度MOEMS相对重力仪，具有极高测量度，并且位移测量可实时溯源，相比于传统MOMES相对重力仪能够提高其位移测量的准确度，减小重力加速度测量的非线性效应。
-
公开(公告)号：CN118938605A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410993763.4
申请日：2024-07-24
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，属于微纳结构技术领域，包括激光器、第一反射镜、第一半波片、偏振分光棱镜、第二半波片、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第五反射镜、第六反射镜、条纹锁定系统、激光光束整形系统和干涉系统。本发明采用上述的一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，光束通过光学系统后形成大面积、能量分布均匀的准直平顶光束，可实现占空比均匀性强的高性能光栅制造，满足高精度的纳米光栅加工需求。
-
公开(公告)号：CN115753021A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211443973.3
申请日：2022-11-18
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于自溯源光栅零差干涉法的光栅周期标定系统，用于标定待定值光栅的光栅周期，包括相干光源、自溯源光栅干涉信号光电探测模块、待定值光栅干涉信号光电探测模块、已知周期值的自溯源光栅和信号处理模块，所述自溯源光栅和待定值光栅以光栅矢量同向的方式设置于一维位移运动平台上。与现有技术相比，本发明利用同时测量两块光栅沿光栅矢量方向平移时非零级衍射光的相位差计算待定值光栅的周期，其定值结果以自溯源光栅周期为基准，不再依赖严格溯源于碘原子跃迁频率的高性能稳频激光器，具有测量面积大、测量精度高、可溯源的特点，同时具备操作条件极易复现、光路对准容易的优势。
-
公开(公告)号：CN114690298A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210284007.5
申请日：2022-03-21
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法，包括以下步骤：基于原子光刻技术在基板上进行一次原子光刻，获得原子光刻光栅样板；至少循环执行一次以下操作：利用光阑的限位作用，保持会聚光指向不变，将主透镜及当前的原子光刻光栅样板作为整体沿激光驻波场方向平移一段距离并固定，调整主透镜使返回的会聚光形成驻波场并与金属原子束待沉积区域存在重叠部分，在当前的原子光刻光栅样板上进行一次原子光刻；通过相邻次原子光刻光栅的无缝拼接，获得大面积自溯源光栅。与现有技术相比，本发明有效地解决了自溯源光栅驻波场方向扩展的技术问题，并具备光栅无缝衔接，扩展空间大的优点。
-
公开(公告)号：CN111650680A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010575620.3
申请日：2020-06-22
Applicant: 同济大学 , 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制备掩膜版；3)获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对光刻胶进行曝光和显影，得到光刻胶光栅结构；4)将光刻胶光栅结构转移到第二衬底上，获取自溯源光栅标准物质。与现有技术相比，本发明制备的自溯源光栅标准物质具有高精度、溯源性和精确缩短节距值等优点。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
36
records
(took 0.018 seconds)
