公开(公告)号：CN109841552B

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：CN201810811318.6

申请日：2018-07-23

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 黄俊荣 ,  徐永璘 ,  徐光宏 ,  陈宗纬 ,  黄文育 ,  杨岳仑

IPC: H01L21/677

Abstract: 本发明揭露一种模块加压工作站及利用其处理半导体工件的方法。在一实施例中，模块加压工作站系统包含和工作站本体接合的第一加压负载端；和工作站本体接合的第二加压负载端；维持在设定压力水平的工作站本体，其中工作站本体包含内部材料处理系统，配置以在设定压力水平下且在第一负载端和第二加压负载端之间的工作站本体内移动半导体工件；和第一加压负载端接合的第一模块工具，其中第一模块工具配置以处理半导体工件；以及和第二加压负载端接合的第二模块工具，其中第二模块工具配置以检查由第一模块工具处理的半导体工件。

公开(公告)号：CN111105969A

公开(公告)日：2020-05-05

申请号：CN201910768322.3

申请日：2019-08-20

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 黄俊荣 ,  褚立新 ,  蔡柏沣 ,  彭宣翰 ,  徐光宏 ,  陈宗纬 ,  徐永璘

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

Abstract: 本揭示案的实施例描述一种离子布植装置及方法，即用于离子布植(ion implantation；IMP)制程的系统及方法。系统包括离子植入机、倾斜机构、离子收集设备，及控制单元。离子植入机经配置以在靶上以一角度范围扫描离子束。倾斜机构经配置以支撑该靶并使该靶倾斜。离子收集设备经配置以自靶上的离子束扫描收集喷射离子的分布及数目。控制单元经配置以基于校正角度来调整倾斜角度，校正角度是基于喷射离子的分布及数目确定的。

公开(公告)号：CN102694082B

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201110349002.8

申请日：2011-11-07

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈永昌 ,  吴欣贤 ,  陈其贤 ,  萧景文 ,  刘福文 ,  徐光宏

IPC: H01L33/00 ,  H01L33/50

CPC classification number: H01L33/505 ,  H01L25/167 ,  H01L33/486 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/1305 ,  H01L2924/13091 ,  H01L2933/0041 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明公开了一种，制造发光二极管器件的方法，具体公开了一种制造多个发光二极管(LED)的方法，该方法包括：提供多个LED管芯；将多个LED管芯接合到载体基板；形成经过图案化的掩模层，经过图案化的掩模层在载体基板上包括多个开口，其中，多个LED管芯中的每个都分别通过多个开口中的其中一个暴露出来；将多个开口中的每个中填充荧光粉，从而将多个LED管芯中的每个都覆盖有荧光粉；将荧光粉固化；将荧光粉和经过图案化的掩模层抛光，从而将覆盖多个LED管芯中的每个的荧光粉减薄；以及在抛光荧光粉之后，移除经过图案化的掩模层。

公开(公告)号：CN102694082A

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：CN201110349002.8

申请日：2011-11-07

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈永昌 ,  吴欣贤 ,  陈其贤 ,  萧景文 ,  刘福文 ,  徐光宏

IPC: H01L33/00 ,  H01L33/50

CPC classification number: H01L33/505 ,  H01L25/167 ,  H01L33/486 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/1305 ,  H01L2924/13091 ,  H01L2933/0041 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明公开了一种，制造发光二极管器件的方法，具体公开了一种制造多个发光二极管(LED)的方法，该方法包括：提供多个LED管芯；将多个LED管芯接合到载体基板；形成经过图案化的掩模层，经过图案化的掩模层在载体基板上包括多个开口，其中，多个LED管芯中的每个都分别通过多个开口中的其中一个暴露出来；将多个开口中的每个中填充荧光粉，从而将多个LED管芯中的每个都覆盖有荧光粉；将荧光粉固化；将荧光粉和经过图案化的掩模层抛光，从而将覆盖多个LED管芯中的每个的荧光粉减薄；以及在抛光荧光粉之后，移除经过图案化的掩模层。

公开(公告)号：CN1329950C

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：CN200410083729.6

申请日：2004-10-14

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 许志维 ,  吕金盛 ,  徐光宏 ,  林镇雍 ,  林水典 ,  林俊宏

IPC: H01L21/00 ,  G06F17/50

CPC classification number: G05B19/41875 ,  Y02P90/22

Abstract: 一种具有防止制程污染的制造系统，其包括多个制程机台、污染属性确认系统及污染防制系统。上述制程机台用以处理在制品，其具有贡献污染属性设定值及拒绝污染属性设定值。上述污染属性确认系统用以确认上述贡献/拒绝污染属性设定值的设定为正确。上述污染防制系统于上述制程机台接受上述在制品前，检查上述在制品的第一产品污染属性设定值是否符合上述拒绝污属性设定值，并于上述制程机台接受及处理上述在制品时，根据上述贡献污染属性设定值，对上述产品污染属性设定值分别产生中途污染属性设定值及第二产品污染属性设定值。