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公开(公告)号：CN116234326A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310326929.2
申请日：2023-03-30
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 本发明公开了一种基于氟化聚合物电介质的有机场效应晶体管制备方法，属于微电子材料及器件技术领域，所述制备方法包括：首先在衬底上方蒸镀形成源漏电极，继而通过旋涂的方式在其上方形成半导体层和介电层，然后通过蒸镀的方式在介电层上方形成栅极，本发明选用DPPT‑TT作半导体层，选用CYTOP作介电层，通过CYTOP介电层的最佳退火温度能在介电层和半导体层界面产生最多的偶极子数目，获得电学性能最优的有机晶体管器件。本申请所提供的基于氟化聚合物电介质的高性能有机场效应晶体管制备方法，在保证器件工作状态最佳的情况下，通过确认使用最佳介电层退火温度，优化了有机薄膜晶体管的迁移率、阈值电压和开关比。
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公开(公告)号：CN116156903A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202310154930.1
申请日：2023-02-23
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 本发明涉及一种环保溶液法制备铁电薄膜有机半导体晶体管，属于半导体制造技术领域。该器件包括：衬底；HfO2/ZrO2/Al2O3/HfO2/ZrO2交叠层；有机半导体层；金属顶电极。通过1:1交叠旋涂HfO2和ZrO2前体溶液，可以得到铁电极化均匀的HZO薄膜，通过插入超薄的Al2O3能够有效抑制HZO膜单斜相形成，保证了HZAHZ膜铁电性在总厚度增加后铁电性不会退化。该HZO薄膜的溶液法采用的溶剂环保，制备工艺简单，设备成本低，并且适用有机半导体晶体管。
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公开(公告)号：CN116096102A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202310261183.1
申请日：2023-03-17
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 本发明属于电子材料及器件技术领域，涉及一种基于氟化电介质的双介电层有机场效应晶体管的制备方法，晶体管包括：衬底、源漏电极、有机半导体层、介电层和栅极，介电层包括下方与有机半导体层接触的无氟聚合物介电层和位于其上的氟化聚合物介电层；首先以蒸镀的方式在衬底上方蒸镀形成源漏电极，继而通过旋涂的方式在其上方形成有机半导体层和介电层，然后通过蒸镀的方式在介电层上方形成栅极；本发明在无氟聚合物介电层上再旋涂一层氟化聚合物介电层，可以将有机场效应晶体管从双极性电荷传输调节为单极性电荷传输，揭示了用于未来有机电子的电介质的新功能，适宜发展相关的互补对称CMOS电路及应用。
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公开(公告)号：CN115000301A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202210392987.0
申请日：2022-04-15
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 本发明公开一种双介电层场效应晶体管及其制备方法，器件包括玻璃衬底、源漏电极、半导体层、介电层和栅极，介电层包括下方与半导体层接触的低k介电层和位于其上的高k介电层；低k介电层是将低k介电层溶液涂覆在半导体层上形成的；低k介电层溶液是将聚苯乙烯溶于有机溶剂中配置而成，聚苯乙烯的浓度为5‑20mg/mL。本发明利用双介电层结构来改善器件性能，使用低k聚合物抑制高k介电层中极化子引起的能量无序，提高界面中的电荷输运的同时，借助氧化物Al2O3作为高k介电层可有效降低器件工作电压；当低k聚合物的浓度在10‑20mg/mL范围内时，器件的阈值电压、迁移率存在最优匹配。
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公开(公告)号：CN114665018A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210275676.6
申请日：2022-03-21
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 本发明公开了一种有机场效应晶体管半导体层P型掺杂方法及制备的有机场效应晶体管，将2,3,5,6‑四氟‑7,7',8,8'‑四氰二甲基对苯醌(F4‑TCNQ)溶于所述有机半导体层的正交溶剂，作为P型掺杂剂，并在空气氛围中将其旋涂于已经旋涂好的有机半导体层薄膜上，通过快速热退火激活掺杂，从而改善电荷输运中跳跃传输和库仑陷阱引发的问题，以此降低阈值电压，提高开关比。对于P型场效应晶体管来说，该P型掺杂增强了空穴输运，有效提高了饱和电流，并且抑制了电子输运，使得晶体管关闭时功耗降低。该掺杂方法基于溶液法操作，工艺简单，制备成本低，可适用于大规模的成产，对柔性、可便携电子设备的应用有很好的前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114628585A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202210258847.4
申请日：2022-03-16
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 本发明公开了一种基于掺杂的电接触改良的平面聚合物薄膜晶体管的制备方法，所述聚合物薄膜晶体管具有顶栅顶接触结构。首先在绝缘衬底上旋涂一层有机半导体材料（DPPT‑TT）作为有源层（organic semiconductor,OSC），然后通过掩模版制备一层三氧化钼作为接触掺杂层，再在掺杂层上面制备一层银作为源极和漏极。样品暴露于水氧环境中4个小时，以激活掺杂效应稳定接触界面。然后再旋涂一层介电层材料（PMMA）作为绝缘层。最后通过掩膜版在绝缘层表面制备铝栅电极。该方法制备的这种共面结构的聚合物薄膜晶体管相较于未掺杂的共面聚合物薄膜晶体管，器件从不工作开始明显工作，实现了良好的欧姆接触。
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公开(公告)号：CN114665019B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202210292904.0
申请日：2022-03-24
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 本发明公开了一种基于磁控溅射的聚合物场效应晶体管的制备方法以及基于该制备方法的P型聚合物晶体管，所述P型聚合物场效应晶体管具有底栅顶接触结构。首先在硅晶圆表面氧化生长一层二氧化硅作为绝缘层，再在二氧化硅表面旋涂有机半导体有源层，接着在有源层的上方通过掩模版使用磁控溅射的方法制备一层银作为源极和漏极，最后对硅片上的每一个晶体管进行隔离并且使用铜箔和导电银胶进行栅极处理。该方法制备的接触电极相较于传统使用热蒸镀来制备电极的方法，其载流子迁移率和输出电流都有所提升，器件的阈值电压明显降低。本发明提升了这种底栅顶接触聚合物场效应晶体管的电学性能，具有工艺简单，操作便捷的特点。
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公开(公告)号：CN116504815B
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202310762255.0
申请日：2023-06-27
Applicant: 南京邮电大学
IPC: H01L29/06 , H01L29/786 , H01L21/34
Abstract: 一种高功率a‑IGZO薄膜晶体管及其制备方法，包括基底、支撑层、栅电极层、栅介质层、a‑IGZO有源层、变掺杂区、源电极层和漏电极层，支撑层设于基底上表面；栅电极层设于支撑层上表面中部；栅介质层覆盖于所述栅电极层和所述支撑层上；a‑IGZO有源层设于栅介质层上表面，变掺杂区为a‑IGZO有源层右端经处理后形成的变掺杂区；源电极层设于a‑IGZO有源层上表面的左侧，漏电极层设于变掺杂区上表面的右侧。本发明提供的漂移区变掺杂结构通过调制漂移区中的电场分布，能够有效提升器件击穿电压，降低漂移区电阻，优化器件导通电阻，显著提升薄膜晶体管的Baliga优值，可以用以提升晶体管的耐压性能和输出电流能力。
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公开(公告)号：CN114665019A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210292904.0
申请日：2022-03-24
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 本发明公开了一种基于磁控溅射的聚合物场效应晶体管的制备方法以及基于该制备方法的P型聚合物晶体管，所述P型聚合物场效应晶体管具有底栅顶接触结构。首先在硅晶圆表面氧化生长一层二氧化硅作为绝缘层，再在二氧化硅表面旋涂有机半导体有源层，接着在有源层的上方通过掩模版使用磁控溅射的方法制备一层银作为源极和漏极，最后对硅片上的每一个晶体管进行隔离并且使用铜箔和导电银胶进行栅极处理。该方法制备的接触电极相较于传统使用热蒸镀来制备电极的方法，其载流子迁移率和输出电流都有所提升，器件的阈值电压明显降低。本发明提升了这种底栅顶接触聚合物场效应晶体管的电学性能，具有工艺简单，操作便捷的特点。
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