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公开(公告)号：CN108715998A
公开(公告)日：2018-10-30
申请号：CN201810614134.0
申请日：2018-06-14
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C16/4417
Abstract: 本发明属于原子层沉积制备仪器相关领域，并公开了一种用于大批量微纳米颗粒包裹的原子层沉积装置，该装置包括颗粒容器和反应腔体，其中反应腔体的下端设置有进源口，进源口中密封设置有用于输入前驱体和载气的进气管；反应腔体的上端开设有腔门，颗粒容器可以自由放置于反应腔体中，或从中取出；颗粒容器下端设有进气孔，进气管通过进气孔进入颗粒容器的内腔。通过本发明，能够有效将气流内循环与外循环的方法相结合，显著增大颗粒间的碰撞及与气体分子的接触概率，提升反应速率和前驱体利用率，实现大批量微纳米颗粒的高质高效包覆。
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公开(公告)号：CN108359960A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201810274604.3
申请日：2018-03-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , B82Y40/00 , B82Y30/00
Abstract: 本发明属于原子层沉积反应领域，并公开了一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备。设备包括进料装置、料槽、起振装置和反应装置，料槽一端的上方设置有进料装置，另外一端的上方设置有反应装置，起振装置与料槽相连，使得从进料装置进入料槽中的微纳米颗粒做向前的抛掷运动直至到达反应装置的下方；反应装置包括有多个并行排列的反应喷头和设置在喷头侧面的加热片，在多个反应喷头中通入反应气体，采用惰性气体隔开，用于通入反应气体使得料槽中的微纳米颗粒发生沉积反应，微纳米颗粒到达反应装置下方后与从反应喷头中喷入的气体发生反应，以此完成沉积过程。通过本发明，缩短反应时间，提高反应效率，本设备结构简单，便于使用和维护。
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公开(公告)号：CN113774358B
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202111067752.6
申请日：2021-09-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/20 , C23C16/44
Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置，包括：反应容器，反应容器的内部形成反应腔体；进气组件，进气组件包括进气件，进气件与反应容器连接，进气件上设置有能够与反应腔体连通的进气口；出料组件，出料组件包括出料塞与出料管，出料管与反应容器连接，出料塞设置于出料管的内部，出料塞位于与反应腔体连通的出料口的下方，出料塞与出料管之间形成供粉料流出的出料通道；驱动件，驱动件与出料塞连接，驱动件用于驱动出料塞沿竖直方向移动，以使出料塞与出料口接触或分离。该原子层沉积装置中通过出料组件实现出料口的打开与封堵，出料口处不易出现堵塞，出料较为顺畅。
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公开(公告)号：CN114075659A
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202111163408.7
申请日：2021-09-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/442 , C23C16/455 , H01M4/36
Abstract: 本发明提供了一种粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用。该粉体包覆反应器包括反应筒和多个传振片；反应筒的两端具有开口，反应筒的侧壁上开设有多个第一通孔；多个传振片依次间隔设置于反应筒内，每个传振片的边缘密封连接于反应筒的内壁，多个传振片将反应筒的内腔分隔为沿一端开口至另一端开口方向上依次分布的多个子腔体，传振片上设置有用于供粉体在该传振片相邻的两个子腔体之间通过的第二通孔。上述粉体包覆反应器能够有效保持纳米颗粒的分散状态，实现大批量粉末的均匀包覆。
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公开(公告)号：CN109881180B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201910095421.X
申请日：2019-01-31
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本发明属于镀膜设备制造领域，并公开了一种用于微纳米颗粒的快速循环原子层沉积设备，该设备由两个直线运动装置和两个回转运动装置首尾相连，组成一个封闭的椭圆形，其中直线运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的直线振动电机、第一水冷却板、第一支撑板、第一加热片和料槽，料槽的一端为原子层沉积反应区域，并且该区域上方安装有前驱体喷头；回转运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的回转振动电机、第二水冷却板、第二支撑板、第二加热片和回转运动料槽。本发明能够实现颗粒以稳定的运动速度在料槽中循环运动，并通过控制微纳米颗粒经过原子层沉积反应区域的次数，实现对微纳米颗粒表面薄膜的厚度的控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109881180A
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201910095421.X
申请日：2019-01-31
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本发明属于镀膜设备制造领域，并公开了一种用于微纳米颗粒的快速循环原子层沉积设备，该设备由两个直线运动装置和两个回转运动装置首尾相连，组成一个封闭的椭圆形，其中直线运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的直线振动电机、第一水冷却板、第一支撑板、第一加热片和料槽，料槽的一端为原子层沉积反应区域，并且该区域上方安装有前驱体喷头；回转运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的回转振动电机、第二水冷却板、第二支撑板、第二加热片和回转运动料槽。本发明能够实现颗粒以稳定的运动速度在料槽中循环运动，并通过控制微纳米颗粒经过原子层沉积反应区域的次数，实现对微纳米颗粒表面薄膜的厚度的控制。
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公开(公告)号：CN109183004A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201810727091.7
申请日：2018-07-05
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/54 , C23C16/455 , C23C16/46 , C23C16/40 , H01M4/04 , H01M2/14 , H01M10/058
Abstract: 本发明属于新能源材料领域，并公开了采用循环卷绕式原子层沉积设备提高电池稳定性的方法，循环卷绕式原子层沉积设备包括包括加热板、反应喷头组、驱动辊筒和伺服电机，该方法包括以下步骤：(1)将待沉积薄片绕过各驱动辊筒，再用胶布使该待沉积薄片首尾相连形成封闭的环；(2)将待沉积薄片加热到原子层沉积反应所需的温度；(3)反应喷头组对待沉积薄片上被加热的部分进行吹气和喷反应前驱体，在待沉积薄片表面沉积氧化物薄膜。本发明采用原子层沉积技术包覆锂离子电池中的正极、负极和隔膜，解决了锂离子电池正极和负极在充放电过程中的稳定性问题，提高了隔膜的结构强度，防止隔膜破裂导致的电池短路危险，沉积工艺简单，效率高，成本低。
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公开(公告)号：CN107502873A
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201710945497.8
申请日：2017-09-30
Applicant: 华中科技大学无锡研究院
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4417 , C23C16/45544
Abstract: 本发明公开了一种粉末包覆原子层沉积装置，其包括粉末容器和反应腔体，反应腔体的一端设置有进源口，进源口中密封设置有用于输入反应气体或载气的进气管，反应腔体的另一端开设有腔门，粉末容器设置于腔门内侧，在动力装置的驱动下可实现旋转，粉末容器上开设有进气孔，进气管通过进气孔进入粉末容器的内腔，反应腔体的内部设置有超声振动杆，粉末容器通过导向装置进入反应腔体后，粉末容器的外侧壁与超声振动杆接触。本发明将旋转方法和超声振动方法相结合，可以利用旋转增大粉末与反应气体的接触概率，也可以利用振动产生的能量解除粉末团聚，使粉末分散，最终在粉末表面包覆均匀致密的薄膜。
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公开(公告)号：CN113774358A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202111067752.6
申请日：2021-09-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/20 , C23C16/44
Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置，包括：反应容器，反应容器的内部形成反应腔体；进气组件，进气组件包括进气件，进气件与反应容器连接，进气件上设置有能够与反应腔体连通的进气口；出料组件，出料组件包括出料塞与出料管，出料管与反应容器连接，出料塞设置于出料管的内部，出料塞位于与反应腔体连通的出料口的下方，出料塞与出料管之间形成供粉料流出的出料通道；驱动件，驱动件与出料塞连接，驱动件用于驱动出料塞沿竖直方向移动，以使出料塞与出料口接触或分离。该原子层沉积装置中通过出料组件实现出料口的打开与封堵，出料口处不易出现堵塞，出料较为顺畅。
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公开(公告)号：CN113737156A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202110814242.4
申请日：2021-07-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置与方法。原子层沉积装置包括：承载组件，承载组件包括用于容纳待包覆粉末的反应腔体；第一喷头，第一喷头位于反应腔体的下方，第一喷头包括多个沿第一方向排布的下喷入通道，以及设置于相邻的下喷入通道之间的下排出通道，下喷入通道用于朝反应腔体喷射气体，下排出通道用于排出反应腔体内的多余气体；气源组件，气源组件与第一喷头连接，气源组件用于向各个下喷入通道供应气体，沿第一方向，相邻的下喷入通道中，其中一个通入的气体为载气；驱动组件，驱动组件用于驱动待包覆粉末沿第一方向运动。该原子层沉积装置可以提高沉积效率，缩短沉积所需的时间。
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