纳米线超构表面结构的中波多光谱成像器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN117782317B

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202311810577.4

    申请日:2023-12-26

    Abstract: 本发明提供了一种基于纳米线超构表面结构的中波多光谱成像器件包括介质基底层,以及在介质基底层上制备的介质缓冲层;在介质缓冲层上沉积GaN/AlN纳米线;GaN/AlN纳米线的一端为GaN,GaN/AlN纳米线的另一端为AlN,GaN/AlN纳米线的中间段为Al0.4Ga0.6N;GaN/AlN纳米线中N元素的浓度为50%,Ga元素和Al元素沿GaN/AlN纳米线长度逐渐改变,并且Ga元素和Al元素的浓度互补;在介质缓冲层上沉积多个阵列的电极,电极与GaN/AlN纳米线接触。本发明通过在Si/SiO2衬底上生长GaN/AlN纳米线,使用电子束光刻在纳米线上制造平行的In/Au电极阵列,最后沉积Al2O3钝化层。使用这种结构,结合正则化算法即可完成对入射光线光谱的重建,舍弃了传统成像系统中复杂沉重臃肿的色散聚焦等器件,实现了小型化、轻量化。

    纳米线超构表面结构的中波多光谱成像器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN117782317A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311810577.4

    申请日:2023-12-26

    Abstract: 本发明提供了一种基于纳米线超构表面结构的中波多光谱成像器件包括介质基底层,以及在介质基底层上制备的介质缓冲层;在介质缓冲层上沉积GaN/AlN纳米线;GaN/AlN纳米线的一端为GaN,GaN/AlN纳米线的另一端为AlN,GaN/AlN纳米线的中间段为Al0.4Ga0.6N;GaN/AlN纳米线中N元素的浓度为50%,Ga元素和Al元素沿GaN/AlN纳米线长度逐渐改变,并且Ga元素和Al元素的浓度互补;在介质缓冲层上沉积多个阵列的电极,电极与GaN/AlN纳米线接触。本发明通过在Si/SiO2衬底上生长GaN/AlN纳米线,使用电子束光刻在纳米线上制造平行的In/Au电极阵列,最后沉积Al2O3钝化层。使用这种结构,结合正则化算法即可完成对入射光线光谱的重建,舍弃了传统成像系统中复杂沉重臃肿的色散聚焦等器件,实现了小型化、轻量化。

    一种在GaSb衬底上外延生长InAs/GaSb II类超晶格的方法

    公开(公告)号:CN117779188A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311802994.4

    申请日:2023-12-26

    Abstract: 本发明提供了一种在GaSb衬底上外延生长InAs/GaSb II类超晶格的方法,包括如下方法步骤:S1、取厚度为500μm的两英寸的GaSb衬底置于分子束外延设备的生长腔;S2、对GaSb衬底升温至300℃进行高温除气,除气时间不少于两小时;S3、对GaSb衬底升温至520℃脱氧,直至GaSb衬底表面形貌点线清晰,保持三分钟;S4、对GaSb衬底降温至440℃,在GaSb衬底上生长厚度为500nm的GaSb缓冲层;S5、对GaSb衬底和GaSb缓冲层降温至420℃,在GaSb缓冲层上生长InAs/GaSb II类超晶格;在GaSb缓冲层上生长InAs/GaSb II类超晶格的过程中,As/In束流比为7~11。本发明优化As/In的束流比,在生长InAs/GaSb II类超晶格时提前打开As阀门,解决了由于缺As导致的InAs/GaSb II类超晶格表面易形成针状“亮点”缺陷的问题。

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