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公开(公告)号:CN113796114B
公开(公告)日:2024-12-24
申请号:CN202080033698.0
申请日:2020-05-07
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本公开涉及被提供用于支持超过第四代(4G)通信系统(诸如长期演进(LTE))的更高数据速率的预第五代(5G)或5G通信系统。提供了一种无线通信系统中用于操作管理设备的方法。该方法包括:分别获得多个小区的测量结果;基于测量结果,通过大气干扰来识别多个小区当中的干扰源小区和受干扰小区;以及对干扰源小区或受干扰小区中的至少一个执行干扰控制,其中测量结果包括与在测量小区的上行链路资源持续时间中测量的至少一个其他小区的下行链路信号相关的干扰信息和该至少一个其他小区的小区信息。
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公开(公告)号:CN111158222B
公开(公告)日:2024-09-06
申请号:CN201910846787.6
申请日:2019-09-09
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了一种化学物质供应结构和具有其的显影设备。所述化学物质供应结构包括:条形主体,所述条形主体具有多个化学物质贮存器,所述多个化学物质贮存器被配置为分别储存多种化学物质;条形喷嘴,所述条形喷嘴从所述主体的底表面突出,并且被配置为将由所述多种化学物质的混合所形成的喷射化学物质喷射到待处理的衬底上;以及疏水单元,所述疏水单元布置在所述主体的所述底表面上并布置在所述喷嘴的侧表面上,从而通过控制混合有所述喷射化学物质的混合溶液相对于所述底表面和所述侧表面的接触角来防止所述混合溶液粘附到所述底表面和所述侧表面。
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公开(公告)号:CN101122737A
公开(公告)日:2008-02-13
申请号:CN200710005269.9
申请日:2007-02-12
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供一种其对准误差已经被校正的光掩模,以及校正光掩模的对准误差的方法。光掩模包括光掩模衬底、在光掩模衬底的一个表面上形成的光学图形、以及在光掩模衬底中形成的多个应力产生部分。校正光掩模的对准误差的方法包括以下步骤:在光掩模衬底上形成光学图形、测量光学图形的对准误差、以及在光掩模衬底中形成多个应力产生部分,使得应力产生部分对应于所测量的对准误差。
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