公开(公告)号：CN118605087A

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202410253516.0

申请日：2024-03-06

Applicant: 三星显示有限公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 闵喆源 ,  裴硕钟

IPC: G03F7/20

Abstract: 公开了多波束曝光装置的校正方法和多波束曝光装置，所述校正方法可以包括：生成第一函数，第一函数是由多个波束之中的边缘波束的灰度级表达的图案的尺寸的根据与边缘波束相邻的第二波束的变化量；获取第二函数，第二函数是由第一函数、边缘波束的灰度级和CD的偏差量的根据多个波束中的每个的变化量表达的CD的偏差量；通过根据其中多个波束被不同地组合的多波束组合将所有第二函数相加来生成矩阵方程；通过测量CD的偏差量来导出矩阵方程的解；以及通过利用矩阵方程的解来导出多个波束中的每个的最优剂量。

公开(公告)号：CN101122737A

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN200710005269.9

申请日：2007-02-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李明秀 ,  裴硕钟 ,  李贞勋 ,  崔成云 ,  金炳局

IPC: G03F1/14 ,  G03F7/09 ,  G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F1/38 ,  G03F1/60

Abstract: 提供一种其对准误差已经被校正的光掩模，以及校正光掩模的对准误差的方法。光掩模包括光掩模衬底、在光掩模衬底的一个表面上形成的光学图形、以及在光掩模衬底中形成的多个应力产生部分。校正光掩模的对准误差的方法包括以下步骤：在光掩模衬底上形成光学图形、测量光学图形的对准误差、以及在光掩模衬底中形成多个应力产生部分，使得应力产生部分对应于所测量的对准误差。