公开(公告)号：CN101403854B

公开(公告)日：2012-08-08

申请号：CN200810145253.2

申请日：2008-08-04

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金海成 ,  李明馥 ,  孙镇昇

IPC: G03F7/00 ,  G11B5/84

CPC classification number: G03F7/2014 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70375

Abstract: 本发明提供了一种纳米图案化的方法和一种制造纳米压印母板和离散轨道磁记录介质的方法。该纳米图案化的方法包括以下步骤：(a)在基底上顺序地形成蚀刻目标材料层、光致抗蚀剂层和被图案化成第一图案的金属层，第一图案具有线图案以预定的间隔被重复布置的结构；(b)将光照射到金属层的表面上，以激发表面等离子体激元，使得光致抗蚀剂层通过表面等离子体激元被曝光成第二图案；(c)去除金属层并对光致抗蚀剂层进行显影；(d)利用被图案化成第二图案的光致抗蚀剂层作为掩模对蚀刻目标材料层进行蚀刻。

公开(公告)号：CN101201538A

公开(公告)日：2008-06-18

申请号：CN200710194762.X

申请日：2007-12-03

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵恩亨 ,  左圣熏 ,  孙镇昇 ,  李斗铉 ,  金海成

IPC: G03F1/14 ,  G03F1/00 ,  G03F7/00 ,  G03F9/00 ,  H01L23/544

CPC classification number: G03F9/7084 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/708 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供了一种图案模板及其制造方法，该图案模板包括柔性基底、形成在柔性基底上并包括图案的模板模子和对准标记，对准标记的折射率大于模板模子的折射率。通过提供包括图案区的主模板、在图案区涂覆用于模子的树脂、通过在用于模子的树脂上安装柔性板并通过照射UV射线固化用于模子的树脂来形成模板模子、将模板模子与主模板分离、在模板模子上涂覆薄的金属膜并在模板模子的两侧均形成对准标记，来制造该图案模板。

公开(公告)号：CN101197137A

公开(公告)日：2008-06-11

申请号：CN200710162731.6

申请日：2007-10-08

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 林志庆 ,  孙镇昇 ,  李丙圭 ,  赵恩亨 ,  金海成

IPC: G11B5/64 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/74 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/66 ,  G11B5/743 ,  G11B5/746 ,  G11B5/82 ,  G11B5/855 ,  G11B2005/0029

Abstract: 提供一种磁记录介质及其制造方法。该磁记录介质包括基底和记录层，其中，记录层由多个磁点和无磁区形成，无磁区形成在基底上，用于分隔每一磁点。

公开(公告)号：CN1584743A

公开(公告)日：2005-02-23

申请号：CN200410054485.9

申请日：2004-07-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵恩亨 ,  李明馥 ,  孙镇升 ,  郑美淑 ,  金海成

IPC: G03F7/20 ,  G02B3/00 ,  B29D11/00

CPC classification number: G02B3/0031 ,  B29C43/021 ,  B29L2011/0016 ,  B29L2011/005 ,  C03B11/08 ,  C03B11/082 ,  C03B2215/412 ,  C03B2215/414 ,  C03B2215/49 ,  C03C15/00 ,  C03C17/32 ,  G02B3/0075

Abstract: 提供一种制造微透镜的方法，其中使用压印技术首先模制至少一个第一透镜。进而，制造透镜支架以及形成在下表面上的第二透镜，所述透镜支架包括其上设有第一透镜的孔。随后，通过沿透镜支架的孔中的光轴对准第一和第二透镜来结合第一和第二透镜。因此，能容易地制造由衍射透镜和折射透镜所构成的混合微透镜以及混合微透镜阵列。