基板处理装置
    12.
    发明公开
    基板处理装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN117930592A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202311391987.X

    申请日:2023-10-25

    Abstract: 一种基板处理装置包括:在曝光腔室中的台,曝光腔室被配置为对半导体基板执行曝光工艺;引导器件,包括在第一水平方向上可滑动地移动的第一水平驱动体和在第一水平驱动体上并具有沟槽的导轨,导轨在第二水平方向上延伸;连接到引导器件的定位器件,该定位器件包括滑块、第二水平驱动体和基板台,滑块配置为沿着沟槽在第二水平方向上可滑动地移动,第二水平驱动体连接或固定到滑块,基板台在第二水平驱动体上并被配置为支撑半导体基板;以及在导轨和基板台之间的阻挡构件,以阻挡异物流入到基板台上。

    利用纳米压印的微细图案形成方法

    公开(公告)号:CN101085580B

    公开(公告)日:2010-11-03

    申请号:CN200610121809.5

    申请日:2006-08-24

    Abstract: 本发明提供一种利用纳米压印以简单的工艺形成同时具有亲水性和疏水性的微细图案的方法。本发明利用刻着具有疏水性的微细结构物的模具在亲水性抗蚀涂层的表面转印所述模具的微细结构物。转印所述微细结构物包含步骤:使所述模具的微细结构物接触所述亲水性抗蚀涂层并施加预定压力;通过加热或照射紫外线使所述亲水性抗蚀涂层硬化之后将所述模具移开。

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