公开(公告)号：CN117930592A

公开(公告)日：2024-04-26

申请号：CN202311391987.X

申请日：2023-10-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李寅载 ,  裵城庸 ,  尹大根 ,  崔仁镐 ,  金圣协 ,  金宜信 ,  金桢吉 ,  南艺彬 ,  李东镇 ,  李钟俱 ,  郑都铉 ,  郑东植

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/67

Abstract: 一种基板处理装置包括：在曝光腔室中的台，曝光腔室被配置为对半导体基板执行曝光工艺；引导器件，包括在第一水平方向上可滑动地移动的第一水平驱动体和在第一水平驱动体上并具有沟槽的导轨，导轨在第二水平方向上延伸；连接到引导器件的定位器件，该定位器件包括滑块、第二水平驱动体和基板台，滑块配置为沿着沟槽在第二水平方向上可滑动地移动，第二水平驱动体连接或固定到滑块，基板台在第二水平驱动体上并被配置为支撑半导体基板；以及在导轨和基板台之间的阻挡构件，以阻挡异物流入到基板台上。