公开(公告)号：CN104169798B

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：CN201280071476.3

申请日：2012-03-19

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  水村通伸

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70891

Abstract: 本发明的曝光头包含以下部分：透明基板；多个曝光光源，其形成于上述透明基板，辐射曝光光；聚光透镜，其使来自上述曝光光源的曝光光会聚到上述曝光对象物上；摄像机构，其配置于隔着上述透明基板与上述聚光透镜相反的一侧，对上述曝光对象物进行摄像；以及控制机构，其基于由上述摄像机构摄像得到的图像信息，控制上述曝光光源的点亮。另外，本发明的曝光装置包含本发明的曝光头。根据这样的构成，能够提高曝光对象物的对位精度，使曝光对象物的曝光精度提高。

公开(公告)号：CN105358732A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201480037834.8

申请日：2014-06-30

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: C23C14/24 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C14/042 ,  B23K11/11 ,  B23K26/382 ,  C23C16/042 ,  H01L51/0011

Abstract: 本发明包括：树脂薄片(1)，其中形成多个贯通开口图案(4)，在一面(1a)设有具有可内置多个开口图案(4)大小的开口的框状金属薄膜(5)；金属掩模(2)，其在薄片(1)的一面(1a)侧与薄片(1)分离而独立地设于与金属薄膜(5)的开口对应的位置，设有多个贯通孔(6)，每个贯通孔具有可内置多个开口图案(4)中的至少一个开口图案(4)的大小；以及金属框架(3)，其位于薄片(1)的一面(1a)侧，设有可内置金属掩模(2)的多个贯通孔(6)的大小的开口部(7)并形成为框状，在将薄片(1)和金属掩模(2)张紧地架设的状态下，将金属薄膜(5)的部分和金属掩模(2)的边缘部区域点焊到金属框架(3)的一端面(3a)来支撑薄片(1)和金属掩模(2)。

公开(公告)号：CN103210344B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201180044697.7

申请日：2011-08-16

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/13

CPC classification number: B29C67/00 ,  G02B27/22 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/133723 ,  G02F1/133788 ,  G02F2001/133757 ,  G03F7/708

Abstract: 曝光装置(1)通过将液晶显示装置的各像元或者像素在宽度方向分割为2个部分并从不同的方向曝光，使取向材料膜进行光取向。曝光装置使从2个光源(第1光源(11)和第2光源(12))射出的2个曝光光(11a、12a)，透射掩模(13)的预定的图案的分别不同的光透射区域，照射到与在曝光对象部件(2)上形成的取向材料膜的各像元或者像素的各分割区域对应的区域。曝光装置使2个曝光光在第1和第2光源与取向材料膜之间的光路上互相交叉。由此，在取向分割方式的曝光装置中，即使在需要减小曝光光相对于曝光对象面倾斜的角度的情况下，也能以预定的图案将取向材料膜正常曝光，能够使曝光装置小型化。

公开(公告)号：CN105051243A

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201480014059.4

申请日：2014-02-17

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 斋藤雄二 ,  工藤修二 ,  小菅崇之 ,  水村通伸

IPC: C23C14/04

CPC classification number: B32B38/10 ,  B32B15/00 ,  B32B2310/0843 ,  C23C14/042

Abstract: 本发明是将形成了多个开口图案的金属掩模片(4)张紧而固定于框状的金属框架7上的结构的成膜掩模的制造方法，进行如下步骤：第1步骤，在被施加一定张力的合成纤维的网(1)上粘接金属掩模片(4)的周缘部；第2步骤，将与金属掩模片(4)的内含多个开口图案的大小的成膜有效区域对应的网(1)的部分切除；第3步骤，在金属掩模片(4)的周缘部从与网(1)相反的一侧接合、固定框架(7)；以及第4步骤，将网(1)从金属掩模片(4)除去。

公开(公告)号：CN104871379A

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201380068141.0

申请日：2013-12-10

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: H01S5/026 ,  H01L31/10 ,  H01L33/02 ,  H01S5/50

CPC classification number: G02B6/4298 ,  G02B6/122 ,  H01L27/15 ,  H01L31/103 ,  H01S5/0424 ,  H01S5/06203 ,  H01S5/32 ,  H01S5/50

Abstract: 本发明提供一种半导体光集成电路，其通过发光功能部与光波导部的无边界化，不使用光耦合器而实现了较高的光耦合效率。半导体光集成电路(1)具备：半导体基板(10)；形成于半导体基板(10)且沿着信号传输路径连续延设的pn接合部(10pn)；形成于pn接合部(10pn)上的一部分的发光功能部(2)；以及形成于与发光功能部(2)连续的pn接合部(10pn)上的光波导部(3)。发光功能部(2)向pn接合部(10pn)供给驱动电流，由pn接合部(10pn)产生光信号，光波导部(3)通过被供给于pn接合部(10pn)的放大电流，一边放大光信号，一边传输光信号。

公开(公告)号：CN104797733A

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201380058995.0

申请日：2013-10-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: C23C14/04

CPC classification number: C23C14/042 ,  B23K26/066 ,  C23C14/048 ,  C23C16/042

Abstract: 本发明包含如下阶段：形成掩模用构件(7)，掩模用构件(7)是形成有贯通孔的薄板状的磁性金属构件和树脂制膜紧贴而成的结构；对上述掩模用构件的上述贯通孔内的上述膜照射激光而形成一定深度的标记；以及以上述标记为基准对预定的位置照射激光而形成贯通上述膜的上述开口图案。

公开(公告)号：CN102597881B

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：CN200980162367.0

申请日：2009-11-12

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/38

CPC classification number: G03F1/14 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/7035

Abstract: 本发明中，光掩模(3)具备：沿着与被曝光体的搬运方向(A)大致正交的方向以规定间距排列形成多个掩模图案(13)的多个掩模图案列(15)；与多个掩模图案列(15)的各掩模图案(13)分别对应而形成在被曝光体侧，并将各掩模图案(13)缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜(14)，其中，以在位于被曝光体的搬运方向(A)的排头侧的掩模图案列(15a)所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列(15b～15d)所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将上述后续的掩模图案列(15b～15d)及与之对应的各微型透镜(14)沿着多个掩模图案(13)的上述排列方向分别错开规定尺寸。由此，在被曝光体的整面上高分辨率且高密度地形成微细的曝光图案。

公开(公告)号：CN104272434A

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201380017446.9

申请日：2013-03-08

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20 ,  H01S3/00 ,  H01S3/10 ,  H01S3/23

CPC classification number: H01L21/02532 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/354 ,  B23K2103/56 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/115 ,  H01S3/1611 ,  H01S3/1643 ,  H01S3/2316 ,  H01S3/2391 ,  H01L21/324 ,  H01S3/00 ,  H01S3/10 ,  H01S3/23

Abstract: 本发明提供一种激光退火装置及激光退火方法，其向非晶硅膜照射激光以进行退火处理，该激光退火装置具备：产生具有恒定的脉冲宽度的恒定波长的第一激光(L1)的第一脉冲激光器(6)、产生脉冲宽度及波长比所述第一激光(L1)更长的第二激光(L2)的第二脉冲激光器(7)、将所述第一激光(L1)和所述第二激光(L2)合成为同一光轴的合成装置(8)、以及，对所述第一脉冲激光器及第二脉冲激光器(6、7)作用从而控制所述第一及第二激光(L1、L2)的产生时间的控制装置(3)，所述控制装置(3)控制所述第一脉冲激光器(6)，使得所述第一激光(L1)在所述第二激光(L2)的脉冲宽度内的预定时间产生。

公开(公告)号：CN102667622B

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201080057974.3

申请日：2010-12-13

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  畑中诚

IPC: G03F1/42 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70283 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50

Abstract: 本发明提供一种光掩模，具有：在透明基板(4)的下表面(4a)形成有规定形状的多个掩模图案(5)的掩模基板(2)；在另一透明基板(9)的下表面(9a)形成有将多个掩模图案(5)的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜(10)，且在上表面(9b)以使光轴与投影透镜(10)的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于投影透镜(10)的多个向场透镜(11)的微型透镜阵列(3)，以使掩模图案(5)与向场透镜(11)具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合掩模基板(2)与微型透镜阵列(3)。由此，能够提高照射于被曝光体的光的利用效率。

公开(公告)号：CN103907061A

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201280038389.8

申请日：2012-07-27

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  渡边由雄

IPC: G03F7/20 ,  G02B3/00 ,  G02B5/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G02B3/0056 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70308 ,  G03F9/70

Abstract: 在微透镜阵列中，其反转成像位置的六边视野光圈的配置，即，微透镜的配置，在垂直于扫描方向的方向上配置有多个而构成微透镜列。而且关于其3列的微透镜列，微透镜列以使六边视野光圈的三角形部分在扫描方向上重叠的方式分别在垂直于扫描方向的方向上偏移长度S的量进行配置。进而，关于由该3列的微透镜列构成的微透镜列组，微透镜列组例如在垂直于扫描方向的方向上偏移微小移位量F而配置，例如，偏移2μm。由此，在使用微透镜阵列的曝光装置中，即使对于垂直于扫描方向的方向也能防止产生曝光不均。