基板处理装置
    132.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100413047C

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200610006956.8

    申请日:2006-01-26

    Inventor: 光吉一郎

    Abstract: 本发明提供一种能够在存放器容置·搬送单元中高效地搬送存放器的基板处理装置。搬送机械手(130a)在加载端口(10)、第三装载部(150)、以及货架阵列(140)之间搬送FOUP(80)。中间隔着货架阵列(140)而配设在搬送机械手(130a)的相反侧的搬送机械手(130b),在货架阵列(140)以及第二装载部(160)之间搬送FOUP(80)。在第三装载部(150)中,分别进行映射处理、以及将存放在FOUP(80)中的基板向基板处理装置(200)搬送的处理。由此,能够几乎同时进行多个搬送处理。另外,搬送机械手(130a、130b)能够在空间上互不干涉地执行FOUP(80)的搬送处理。

    基板的蚀刻处理方法及蚀刻处理装置

    公开(公告)号:CN100405559C

    公开(公告)日:2008-07-23

    申请号:CN200410047378.3

    申请日:2004-06-03

    Abstract: 本发明提供一种为了适应于基板的大型化,但不必将处理槽与之相应地大型化,也不会产生如浸渍处理时那样的蚀刻不良的装置。装置的构成包括:第一处理槽(14);配置在第一处理槽(14)内、支承并搬运基板(W)的搬运辊(20);配置在基板搬运路径的上方、向基板(W)的表面上喷出蚀刻液的喷射喷嘴(22);与第一处理槽连接设置的第二处理槽(28);配置在第二处理槽(28)内、支承并搬运基板(W)的搬运辊(30);向从第一处理槽(14)内被搬出、并被搬入到第二处理槽(28)内的基板(W)的表面供应蚀刻液、在基板(W)的整个表面上装满蚀刻液的排出喷嘴(32)。

    印刷数据处理装置和方法
    134.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100404252C

    公开(公告)日:2008-07-23

    申请号:CN200510065045.8

    申请日:2005-04-11

    CPC classification number: G06F3/1285 G06F3/1204 G06F3/125

    Abstract: 内容文件转换器将输入至印刷数据处理装置的内容文件转换成中间文件。然后,中间文件的数据被记录于由页面序列表产生器所产生的页面序列表中。布局信息选择器在用于实际印刷的印刷机已被确定之时,选择所确定的印刷机所适用的布局信息表。链接处理器在可印刷表面上的各部分中布局中间文件。因此,即使用于印刷的印刷机尚未被确定,仍可记录中间文件的数据。

    图像记录装置
    135.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101219610A

    公开(公告)日:2008-07-16

    申请号:CN200710307607.4

    申请日:2007-12-29

    CPC classification number: B41J29/377 B41J2/451

    Abstract: 本发明提供一种图像记录装置,在该图像记录装置中,激光光源具有排列在与主扫描方向(Y)相交叉的方向上的多个半导体激光器,多个半导体激光器分别排列的位置关系是,在主扫描方向(Y)上,各半导体激光器处于相邻的其它半导体激光器的上游,该相邻的其它半导体激光器在空气喷射管的气体喷射方向的下游与上述各半导体激光器相邻。

    晶片处理装置
    136.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100401494C

    公开(公告)日:2008-07-09

    申请号:CN200610051448.1

    申请日:2006-02-28

    CPC classification number: H01L21/68757

    Abstract: 本发明提供一种晶片处理装置,在加热板上通过粘合用石蜡来粘附夹具和晶片,通过第一搬送机构、姿态变换机构、推动器以及第二搬送机构,将粘合了晶片的夹具从加热板搬送到处理用搬送机构,该处理用搬送机构将粘合了晶片的夹具浸渍到被贮存在处理槽内的处理液中。因此,能够进行使晶片变薄等的加工处理,而不会如以往那样因研磨工作台直接接触晶片而给其带来损伤。

    基板处理装置
    137.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101211758A

    公开(公告)日:2008-07-02

    申请号:CN200710308111.9

    申请日:2007-12-27

    Inventor: 光吉一郎

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。反转单元包括固定板、以与固定板的一面相对向的方式设置的第一可动板、以与固定板的另一面相对向的方式设置的第二可动板以及旋转式促动器。旋转式促动器使第一可动板、第二可动板以及固定板围绕水平轴旋转。在反转单元中,背面清洗处理前的基板在由第一可动板的支承销和固定板的支承销保持的状态下被反转,背面清洗处理后的基板在由第二可动板的支承销和固定板的支承销保持的状态下被反转。

    发光型热处理设备
    138.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100394544C

    公开(公告)日:2008-06-11

    申请号:CN200610079970.0

    申请日:2006-04-29

    Inventor: 伊藤祯朗

    CPC classification number: H01L21/67115 H01L21/68721

    Abstract: 从闪光灯发出的闪光通过由设于夹紧环中的开口限定的光学窗口引导至半导体晶片上。由于夹紧环的开口为椭圆形结构,因此由夹紧环限定的光学窗口也为椭圆形平面结构。夹紧环安装至腔体,并使与半导体晶片的外周部分的一些部分面对的光学窗口的相对边缘部是位于椭圆形结构的短轴上的光学窗口的相对边缘部,所述半导体晶片的外周部分的所述一些部分在假设所述光学窗口是圆形平面结构时,如果从所述光源发出闪光穿过所述光学窗口,则所述这些部分具有相对低的温度。穿过该光学窗口的闪光提高了半导体晶片外周部分的具有相对低温的一些部分的温度,从而改善了闪光加热期间半导体晶片的温度分布的晶片内部均匀性。

    图案描画装置以及图案描画方法

    公开(公告)号:CN101178546A

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200710148799.9

    申请日:2007-09-11

    Inventor: 井上正雄

    Abstract: 图案描画装置将具有多个扫描对象区域的基板作为处理对象时,可降低曝光扫描次数。图案描画装置使多个曝光头相对基板沿主扫描方向和副扫描方向相对移动,由此进行沿主扫描方向的曝光扫描,该沿主扫描方向的曝光扫描分别对从基板的开始位置(Ps)起在副扫描方向上以规定宽度(w)所规定的多个扫描区域(As)承担曝光扫描。根据规定宽度、间隙端距离(La)及间隙宽度(Ld),以使相邻的扫描区域边界中的任一边界位于间隙区域中的方式决定开始位置。因此,在一个扫描区域中不会包含两个扫描对象区域的一部分。其结果,即使将具有多个扫描对象区域的基板作为处理对象,也无需对同一个扫描区域进行两次曝光扫描,故能够降低曝光扫描次数。

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