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公开(公告)号：CN105473219A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480035493.0
申请日：2014-05-21
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 帕斯卡尔·约瑟夫·保罗·比斯肯斯 , 莫里斯·克里斯蒂安·丹霍·穆拉德 , 玛丽亚·伊丽莎白·路易斯·沃特兹 , 莱昂纳德斯·约翰内斯·马里亚·杰诺韦瓦·多尔特曼斯 , 厄尔·劳伦斯·文森特·格特希尔 , 南宁·约尔格·阿夫斯藤
IPC: B01J19/12
CPC classification number: B01J19/08 , B01J2219/00144 , B05D3/06 , C08F2/38 , C08K3/16 , C08K3/36 , C08K5/098 , C09D5/00 , C09D5/32 , C09D183/06 , G03F7/16
Abstract: 本发明涉及化学转化方法并且涉及用于将颗粒从反应混合物中除去的方法。本发明的化学转化方法包括通过以下过程对反应混合物进行等离子体激元加热，所述反应混合物包含至少一种组分和等离子体激元颗粒：将所述反应混合物暴露于包含被至少部分所述等离子体激元颗粒吸收的一个或更多个波长的光，由此控制一个或更多个化学反应的反应速率。
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公开(公告)号：CN105409003A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201480041709.4
申请日：2014-06-11
Applicant: IMEC非营利协会 , 荷兰应用自然科学研究组织TNO , 鲁汶天主教大学研究开发部
IPC: H01L29/66 , H01L29/786
CPC classification number: H01L29/66742 , H01L29/78618 , H01L29/7869
Abstract: 本公开提供一种用于改善金属氧化物半导体层在预定位置处的导电率的方法。该方法包括：在基板上提供金属氧化物半导体层；借助原子层沉积在金属氧化物半导体层的顶部上提供金属氧化物层，其中该金属氧化物层在预定位置与金属氧化物半导体层物理接触。惊奇地发现该方法导致金属氧化物半导体层在预定位置处有增加的导电率。本公开的方法可有利地用在针对自对准顶栅金属氧化物半导体薄膜晶体管的制造过程中，以改善源极和漏极区域中的导电率。
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公开(公告)号：CN103702746B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201280036854.4
申请日：2012-05-31
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： M·米尼库斯
CPC classification number: B01D29/13 , B01D29/56 , B01D63/06 , B01D65/00 , B01D69/04 , B01D2313/143 , B01D2313/20 , B01D2313/24 , B01D2317/02
Abstract: 本发明涉及一种用于过滤对含有固体颗粒的流体进行过滤的过滤系统。该过滤系统包括：可变形壁（3），该可变形壁（3）限定出其内部的腔室（2）；以及布置在腔室中的管状隔膜（4）。此外，该系统设置成使腔室壁分别向内和向外周期性地变形，以便对存在于腔室中、隔膜外部的流体进行过滤。
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公开(公告)号：CN103038912B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201180035247.1
申请日：2011-06-17
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 多萝特·克丽丝婷·赫尔墨斯 , 邹安娜·莎拉·威尔逊
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/5203 , H01L33/36 , H01L51/5092 , H01L51/5221 , H01L51/5228 , H01L51/5234 , H01L51/56 , H01L2251/5315
Abstract: 本发明涉及一种光电器件，其具有堆叠的层，该堆叠的层包括以下：具有第一逸出功的材料的第一电极层(20)，第一电极层沉积在衬底(10)上或者形成衬底(20)；在第一电极层(20)上的有机光电层(30)；印刷在光电层(30)上的图案化导电层(40)；在提供有图案化导电层(40)的光电层(30)上的、具有第二逸出功的材料的透明的第二电极层(50)，第二逸出功的值低于第一逸出功。
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公开(公告)号：CN105144405A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201480019482.3
申请日：2014-02-12
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： J·范登布兰德 , 加里·阿鲁提诺夫 , 艾兹格·康斯坦特·彼得·施密特斯 , A·H·迪策尔
IPC: H01L31/0392
CPC classification number: B32B37/0053 , B32B37/025 , B32B37/22 , B32B2457/00 , H01L31/03926 , H01L31/206 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种辊对辊装置，其用于制造包括设置有至少一个箔形部件(CP)的目标基底(TS)的产品。所述辊对辊装置包括：传送体(10)，所述传送体具有圆筒形传送表面(14)，所述圆筒形传送表面设置有至少一个粘合区(16)的图案，与周围区(18)相比，所述至少一个粘合区对于对准液(LQ)具有相对较高的亲和力；液体施用设备(20)，所述液体施用设备用于将所述对准液(LQ)施用到所述圆筒形传送表面(14)上；基底供应设备(32、34)，所述基底供应设备用于供应所述基底(TS)；旋转设备(40)，所述旋转设备耦接至所述传送体(10)用以使所述圆筒形传送表面(14)绕所述圆筒形传送表面的旋转轴线(12)转动；部件施用设备(50)，所述部件施用设备用于将相应的箔形部件(CP)施用到所述至少一个粘合区(16)中的所述对准液(LQ)上；以及控制设备(70)，所述控制设备用于控制所述装置使得所述被施用的相应箔形部件(CP)在所述移置期间通过由所述对准液施加的毛细力对准至所述粘合区的同时移置至箔形部件面对所述基底(TS)的装配位置，并且所述控制设备用于引起所述装置使所述被对准的相应箔形部件与所述目标基底在所述装配位置中接触以便传送所述箔形部件到所述目标基底。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105102676A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480019869.9
申请日：2014-02-06
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 雷蒙德·雅各布斯·W·克纳彭 , R·奥利斯拉格斯 , 丹尼斯·范登贝尔赫 , 马泰斯·C·范登布尔 , 弗雷迪·罗泽博姆
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , H01L21/314 , C23C16/54
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C16/4409 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/481 , C23C16/545
Abstract: 一种实施原子层沉积的方法。该方法包括使用包括一个或多个气体供应器的沉积头，向基底供应前体气体，且该一个或多个气体供应器包括前体气体供应器。前体气体靠近该基底的表面反应，用以形成原子层。沉积头具有包括气体供应器的输出面，且在沉积原子层时该输出面至少部分地面向该基底表面。输出面大体上为圆形，界定基底的移动路径。前体气体供应器在供应该前体气体时通过旋转该沉积头相对该基底移动，用以在一个方向连续地移动时沉积原子层的叠层。基底的表面利用气体轴承保持不与该输出面接触。
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公开(公告)号：CN103459663B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201280016869.4
申请日：2012-01-30
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·弗美尔 , 约瑟夫·阿德里亚努斯·玛丽亚·德斯沃特 , 罗伯特·昆拉德·维特
IPC: C23C16/458 , C23C16/54 , C23C16/455 , F16C32/06 , B65G51/03
CPC classification number: C23C16/44 , C23C16/45551 , C23C16/458 , C23C16/4582 , C23C16/4583 , C23C16/54 , F16C32/0603 , F16C32/0685
Abstract: 一种用于片状基底的表面上的原子层沉积的设备，包括：喷射头，喷射头包括沉积空间和气体支承部，沉积空间设有前驱体供给部和前驱体排出部，供给部与排出部布置成用于提供从前驱体供给部经由沉积空间至前驱体排出部的前驱体气体流，沉积空间在使用中由喷射头和基底表面定界，气体支承部包括布置成在喷射头与基底表面之间喷射支承气体的支承气体喷射头，轴承气体因而形成气体支承部；传送系统，传送系统提供基底与喷射头的沿着基底表面的相对运动以形成基底沿其被传送的传送平面。支撑部与喷射头相对地布置，支撑部构造成提供平衡传送平面中的喷射头气体支承的气体支承压力布置，使得基底通过气体支承压力布置而无支撑地保持在喷射头与支撑部之间。
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公开(公告)号：CN102804445B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180014357.X
申请日：2011-01-14
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： M·M·德科克 , 乔安妮·莎拉·威尔森 , L·M·窦嫩 , 贾斯帕·约斯特·米歇尔斯
CPC classification number: H01L51/0014 , H01L51/0097 , H01L51/52 , H01L2251/5338 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种曲箔形电光产品(1)，具有至少第一区域，该第一区域具有已收缩的有机物质的具有凸面和凹面的基底层(10)，并在基底层的凸面(12)处包括至少另一层(20)，该电光产品还包括具有电光结构(20)的至少第二区域。
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公开(公告)号：CN102753094B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201180008331.4
申请日：2011-02-03
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 帕拉斯克瓦斯·杜尼亚斯 , 安德鲁·斯塔塔姆 , 赫拉尔杜斯·约翰尼斯·尼古拉斯·杜德曼 , 靳安民
CPC classification number: A61B5/11 , A61B5/1071 , A61B5/1121 , A61B5/1122 , A61B5/45 , A61B5/4528 , A61B5/6828 , A61B2503/10 , A61B2505/09
Abstract: 测量关节扭曲度或弯曲度的方法、装置以及系统。所述方法包括步骤：将传感器(56)连接到由关节连结的肢体；在关节扭曲或弯曲期间测量传感器的输出信号；以及将传感器的所述输出信号与扭曲度或弯曲度相关联的最后的步骤。传感器包括导电回路(51)，具有在回路中从一个肢体延伸到另一个肢体并返回的回路部分，所述回路的区域从一个肢体到另一个肢体地至少部分覆盖这两个肢体。肢体可为人体或动物体的肢体，比如膝盖处的肢体。传感器进一步包括用于提供输出信号的输出单元(57)，该输出信号是对回路的电感的测量。通过检测在静态条件下在所述关节处的明确的扭曲度或弯曲度的传感器的输出信号以及储存校准数据，可确定传感器的校准数据。
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公开(公告)号：CN102791440B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201180012753.9
申请日：2011-01-06
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor： 欧文·约翰·凡·斯维特 , 利昂·凡·道仁 , 阿德里亚努斯·约翰尼斯·皮德勒斯·玛利亚·弗米尔 , 基斯·墨德麦尔
IPC: B25J9/16 , G05B19/401 , H01L21/68 , H05K13/04
CPC classification number: B25J9/1697 , G05B19/401 , G05B2219/40609 , G05B2219/45029 , H01L21/681 , Y10T29/53087 , Y10T29/53091 , Y10T29/53174 , Y10T29/53178
Abstract: 根据本发明的一个方面，提供了一种被布置在为芯片制造过程中拾起和放置芯片裸片2的芯片裸片2操纵器装置，其中成像系统11包括：弧形凸球面镜13，被布置在第二离轴位置B并相对于中心位置5定心；折叠式反射镜4，被布置在凸球面镜13和中心位置5之间的光路中，用于将光路折叠至第三离轴位置C；以及弧形凹球面镜15，被布置在第三离轴位置C并具有将中心位置5和元件2中至少一个成像在图像检测系统9上的曲率。成像系统11对中心位置5的成角度的图像检测进行校正。
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