公开(公告)号：CN103415650A

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201280012711.X

申请日：2012-01-31

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·弗美尔 ,  罗伯特·昆拉德·维特 ,  罗杰·M·W·格岑

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  B65G51/03

CPC classification number: B05C5/02 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/67784

Abstract: 一种用于在片状基材的表面上进行原子层沉积的装置，包括：喷射头，其包括设有前体供应部和前体排出部的沉积空间；所述供应部和排出部布置成将前体气流从前体供应部经由沉积空间提供至前体排出部；该沉积空间在使用中由喷射头和基材表面定界；气体承载部，其包括布置成将承载气体喷射到喷射头与基材表面之间的承载气体喷射器，承载气体由此形成气体承载部；和输送系统，其提供基材和喷射头的沿基材的平面的相对移动以形成输送平面，基材沿该输送平面输送。支承部分与喷射头相对地布置，支承部分构造成提供使输送平面中的喷射头气体承载部平衡的气体承载压力布置，使得基材通过所述气体承载压力布置而在喷射头与支承部分之间被保持成是无支承的。

公开(公告)号：CN103459663B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201280016869.4

申请日：2012-01-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·弗美尔 ,  约瑟夫·阿德里亚努斯·玛丽亚·德斯沃特 ,  罗伯特·昆拉德·维特

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  F16C32/06 ,  B65G51/03

CPC classification number: C23C16/44 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4582 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/54 ,  F16C32/0603 ,  F16C32/0685

Abstract: 一种用于片状基底的表面上的原子层沉积的设备，包括：喷射头，喷射头包括沉积空间和气体支承部，沉积空间设有前驱体供给部和前驱体排出部，供给部与排出部布置成用于提供从前驱体供给部经由沉积空间至前驱体排出部的前驱体气体流，沉积空间在使用中由喷射头和基底表面定界，气体支承部包括布置成在喷射头与基底表面之间喷射支承气体的支承气体喷射头，轴承气体因而形成气体支承部；传送系统，传送系统提供基底与喷射头的沿着基底表面的相对运动以形成基底沿其被传送的传送平面。支撑部与喷射头相对地布置，支撑部构造成提供平衡传送平面中的喷射头气体支承的气体支承压力布置，使得基底通过气体支承压力布置而无支撑地保持在喷射头与支撑部之间。

公开(公告)号：CN103459663A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201280016869.4

申请日：2012-01-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·弗美尔 ,  约瑟夫·阿德里亚努斯·玛丽亚·德斯沃特 ,  罗伯特·昆拉德·维特

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  F16C32/06 ,  B65G51/03

CPC classification number: C23C16/44 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4582 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/54 ,  F16C32/0603 ,  F16C32/0685

Abstract: 一种用于片状基底的表面上的原子层沉积的设备，包括：喷射头，喷射头包括沉积空间和气体支承部，沉积空间设有前驱体供给部和前驱体排出部，供给部与排出部布置成用于提供从前驱体供给部经由沉积空间至前驱体排出部的前驱体气体流，沉积空间在使用中由喷射头和基底表面定界，气体支承部包括布置成在喷射头与基底表面之间喷射支承气体的支承气体喷射头，轴承气体因而形成气体支承部；传送系统，传送系统提供基底与喷射头的沿着基底表面的相对运动以形成基底沿其被传送的传送平面。支撑部与喷射头相对地布置，支撑部构造成提供平衡传送平面中的喷射头气体支承的气体支承压力布置，使得基底通过气体支承压力布置而无支撑地保持在喷射头与支撑部之间。

公开(公告)号：CN103415648B

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201280012702.0

申请日：2012-01-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·弗美尔

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  B08B5/02

CPC classification number: B05D1/42 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/54

Abstract: 一种用于在片状基材的表面上进行原子层沉积的装置和方法，包括：喷射头，其包括设有前体供应部和前体排出部的沉积空间；所述供应部和排出部布置成将前体气流从前体供应部经由沉积空间提供至前体排出部；沉积空间在使用中由喷射头和基材表面定界；气体承载部，其包括布置成将承载气体喷射到喷射头与基材表面之间的承载气体喷射器，承载气体由此形成气体承载部；和输送系统，其提供基材和喷射头的沿基材平面的相对移动以形成输送平面，基材沿该输送平面输送。支承部分与喷射头相对地布置，支承部分构造成提供使输送平面中的喷射头气体承载部平衡的气体承载压力布置，使得基材通过所述气体承载压力布置而在喷射头与支承部分之间保持成是无支承的。

公开(公告)号：CN103415648A

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201280012702.0

申请日：2012-01-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·弗美尔

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  B08B5/02

CPC classification number: B05D1/42 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/54

Abstract: 一种用于在片状基材的表面上进行原子层沉积的装置，包括：喷射头，其包括设有前体供应部和前体排出部的沉积空间；所述供应部和排出部布置成将前体气流从前体供应部经由沉积空间提供至前体排出部；沉积空间在使用中由喷射头和基材表面定界；气体承载部，其包括布置成将承载气体喷射到喷射头与基材表面之间的承载气体喷射器，承载气体由此形成气体承载部；和输送系统，其提供基材和喷射头的沿基材平面的相对移动以形成输送平面，基材沿该输送平面输送。支承部分与喷射头相对地布置，支承部分构造成提供使输送平面中的喷射头气体承载部平衡的气体承载压力布置，使得基材通过所述气体承载压力布置而在喷射头与支承部分之间保持成是无支承的。