公开(公告)号：CN103459663B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201280016869.4

申请日：2012-01-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·弗美尔 ,  约瑟夫·阿德里亚努斯·玛丽亚·德斯沃特 ,  罗伯特·昆拉德·维特

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  F16C32/06 ,  B65G51/03

CPC classification number: C23C16/44 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4582 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/54 ,  F16C32/0603 ,  F16C32/0685

Abstract: 一种用于片状基底的表面上的原子层沉积的设备，包括：喷射头，喷射头包括沉积空间和气体支承部，沉积空间设有前驱体供给部和前驱体排出部，供给部与排出部布置成用于提供从前驱体供给部经由沉积空间至前驱体排出部的前驱体气体流，沉积空间在使用中由喷射头和基底表面定界，气体支承部包括布置成在喷射头与基底表面之间喷射支承气体的支承气体喷射头，轴承气体因而形成气体支承部；传送系统，传送系统提供基底与喷射头的沿着基底表面的相对运动以形成基底沿其被传送的传送平面。支撑部与喷射头相对地布置，支撑部构造成提供平衡传送平面中的喷射头气体支承的气体支承压力布置，使得基底通过气体支承压力布置而无支撑地保持在喷射头与支撑部之间。

公开(公告)号：CN103459663A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201280016869.4

申请日：2012-01-30

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·弗美尔 ,  约瑟夫·阿德里亚努斯·玛丽亚·德斯沃特 ,  罗伯特·昆拉德·维特

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  F16C32/06 ,  B65G51/03

CPC classification number: C23C16/44 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4582 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/54 ,  F16C32/0603 ,  F16C32/0685

Abstract: 一种用于片状基底的表面上的原子层沉积的设备，包括：喷射头，喷射头包括沉积空间和气体支承部，沉积空间设有前驱体供给部和前驱体排出部，供给部与排出部布置成用于提供从前驱体供给部经由沉积空间至前驱体排出部的前驱体气体流，沉积空间在使用中由喷射头和基底表面定界，气体支承部包括布置成在喷射头与基底表面之间喷射支承气体的支承气体喷射头，轴承气体因而形成气体支承部；传送系统，传送系统提供基底与喷射头的沿着基底表面的相对运动以形成基底沿其被传送的传送平面。支撑部与喷射头相对地布置，支撑部构造成提供平衡传送平面中的喷射头气体支承的气体支承压力布置，使得基底通过气体支承压力布置而无支撑地保持在喷射头与支撑部之间。