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公开(公告)号：CN107075669B
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201580048993.2
申请日：2015-11-02
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种处理装置包括发生器安装件、第一对象安装件以及第一准直器。能够发射粒子的粒子发生器放置在发生器安装件上。第一对象放置在第一对象安装件上。第一准直器放置在发生器安装件和第一对象安装件之间，并且具有第一壁和第二壁。在第一准直器中，第一壁和第二壁形成在从发生器安装件到第一对象安装件的第一方向中延伸的第一通孔。第二壁中的每一个设置有至少一个第一通道。
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公开(公告)号：CN100363618C
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：CN200510004779.5
申请日：2002-08-30
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C23C16/4412
Abstract: 本发明提供一种可以延长寿命、提高生产效率的真空排气系统。包括：具有多个监视区域的排气泵系统(2)；分别设在监视区域上的分别独立地检测监视区域中的排气泵系统(2)的状态的传感器(101、102、103、......、104)；分别设在监视区域中加热器(201、202、203、......、204)；分别接收来自传感器(101、102、103、......、104)的数据信号(D1、D2、D3、......、Dm)，比较该数据信号与阈值，当来自特定的传感器的数据信号超过了阈值时，只向配置了特定的传感器的监视区域的加热器选择性地供给加热用电力的监视·控制装置(1)。
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公开(公告)号：CN1644924A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN200510004779.5
申请日：2002-08-30
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C23C16/4412
Abstract: 本发明提供一种可以延长寿命、提高生产效率的真空排气系统。包括：具有多个监视区域的排气泵系统(2)；分别设在监视区域上的分别独立地检测监视区域中的排气泵系统(2)的状态的传感器(101、102、103……、104)；分别设在监视区域中加热器(201、202、203……、204)；分别接收来自传感器(101、102、103、……、104)的数据信号(D1、D2、D3、……、Dm)，比较该数据信号与阈值，当来自特定的传感器的数据信号超过了阈值时，只向配置了特定的传感器的监视区域的加热器选择性地供给加热用电力的监视·控制装置(1)。
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公开(公告)号：CN106794474B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201580044989.9
申请日：2015-09-09
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 根据实施例的管口装置设有第一开口部分(22)、多个第二开口部分(23)和第一管路部分(24)。第一管路部分(24)具有至少一个第一分岔部分(31)，所述至少一个第一分岔部分(31)具有在第一方向上延伸的第一部分(41)和连接到第一部分(41)的第一端并且在与第一方向相交的各方向上延伸的多个第二部分(42)，第一管路部分(24)连接第一开口部分(22)和多个第二开口部分(23)并且在从第一开口部分(22)延伸到第二开口部分(23)的路径中被第一分岔部分(31)分岔至少一次，第一开口部分(22)和各第二开口部分(23)之间的路径长度和第一分岔部分的数量相同。第一部分(41)的第一端的横截面积小于第一部分(41)的第二端的横截面积。
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公开(公告)号：CN108500262A
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201810217226.5
申请日：2014-09-17
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的实施方式涉及层叠造型装置用的喷嘴及层叠造型装置。例如能得到关于粉体的供给、粉体及烟气的排出(回收)等能够改善的新的结构。实施方式的层叠造型装置用的喷嘴具备射出部、材料供给部和排气部。从射出部，射出能量线。在材料供给部，设有供给材料的粉体的材料供给口。在排气部设有将气体排出的排气口。材料供给口和排气口隔开间隔对置，能量线的光路位于材料供给口与排气口之间；射出部朝向从材料供给口朝向排气口的、包含材料的流而射出能量线。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106794474A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580044989.9
申请日：2015-09-09
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B05B1/14 , B05B1/30 , B23K26/127 , B23K26/147
Abstract: 根据实施例的管口装置设有第一开口部分(22)、多个第二开口部分(23)和第一管路部分(24)。第一管路部分(24)具有至少一个第一分岔部分(31)，所述至少一个第一分岔部分(31)具有在第一方向上延伸的第一部分(41)和连接到第一部分(41)的第一端并且在与第一方向相交的各方向上延伸的多个第二部分(42)，第一管路部分(24)连接第一开口部分(22)和多个第二开口部分(23)并且在从第一开口部分(22)延伸到第二开口部分(23)的路径中被第一分岔部分(31)分岔至少一次，第一开口部分(22)和各第二开口部分(23)之间的路径长度和第一分岔部分的数量相同。第一部分(41)的第一端的横截面积小于第一部分(41)的第二端的横截面积。
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公开(公告)号：CN1316629C
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN03138135.9
申请日：2003-05-28
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L29/78 , H01L27/105 , H01L21/31 , H01L21/283 , H01L21/82
CPC classification number: H01L21/022 , H01L21/0217 , H01L21/28176 , H01L21/28202 , H01L21/28247 , H01L21/28282 , H01L21/28518 , H01L21/3185 , H01L21/76838 , H01L21/76897 , H01L29/513 , H01L29/518 , H01L29/665 , H01L29/6656 , H01L29/6659 , H01L29/792
Abstract: 采用改善硅氮化膜的构成或形成方法的办法，提供特性等优良的半导体器件。该半导体器件具备：半导体衬底101；栅极电极104、105、106；在半导体衬底和栅极电极间形成的第1绝缘膜103；包括沿着栅极电极的上表面或侧面形成的包括氮、硅和氢的下层一侧硅氮化膜107，和在下层一侧硅氮化膜上边形成的含有氮、硅和氢的上层一侧硅氮化膜108的第2绝缘膜，其特征在于：上述下层一侧的硅氮化膜中的氮(N)和硅(Si)之间的组成比N/Si，比在上述上层一侧的硅氮化膜中的氮(N)和硅(Si)之间的组成比N/Si更高。
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公开(公告)号：CN1403214A
公开(公告)日：2003-03-19
申请号：CN02129077.6
申请日：2002-08-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B08B11/00 , H01L21/302 , G05B19/05
CPC classification number: H04L12/66 , Y10S438/905
Abstract: 本发明提供一种干洗系统，该干洗系统根据各种信息，借助于计算机进行综合处理，效率良好地自动地判定对于半导体制造设备来说究竟是进行晶片处理还是进行清洗处理。具体的解决手段涉及用至少含有ClF3等卤族气体除去淀积在半导体制造设备的反应室5内的淀积膜的干洗。第1发明，是对于半导体制造设备来说，自动地判定设备是立即实施成膜等的处理还是必须马上进行清洗的系统。第2发明，在使用至少含有ClF3等卤族气体除去淀积在要形成CVD膜等的半导体制造设备的反应室内的淀积膜时使得存在金属、金属化合物、有机系气体等。可以提高选择比、缩短清洗时间。第3发明，是进行目的为对设备进行效率良好的清洗的控制的系统。
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公开(公告)号：CN117819152A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202310631487.2
申请日：2023-05-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B65G39/07
Abstract: 本发明的实施方式涉及刻印单元、输送辊。本发明要解决的课题在于，提供高速输送时的网的举动稳定、可恰当地防止网的浮起的输送辊。实施方式的输送辊具备外壳部以及肋构造体。外壳部以及肋构造体能够一体地沿旋转轴的绕轴方向旋转，外壳部形成为具有内部空洞的筒状。在外壳部，多个外壳孔分别从外周面贯通至内周面。肋构造体从外壳部的内周面向内周侧突出。外壳部具有未连接部分，该未连接部分是在内周面未连接肋构造体的部分，外壳部的未连接部分在内部空洞从外周侧覆盖内部空洞，并且，经由多个外壳孔的至少一部分使内部空洞与外壳部的外部连通。
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公开(公告)号：CN108500262B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201810217226.5
申请日：2014-09-17
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的实施方式涉及层叠造型装置用的喷嘴及层叠造型装置。例如能得到关于粉体的供给、粉体及烟气的排出(回收)等能够改善的新的结构。实施方式的层叠造型装置用的喷嘴具备射出部、材料供给部和排气部。从射出部，射出能量线。在材料供给部，设有供给材料的粉体的材料供给口。在排气部设有将气体排出的排气口。材料供给口和排气口隔开间隔对置，能量线的光路位于材料供给口与排气口之间；射出部朝向从材料供给口朝向排气口的、包含材料的流而射出能量线。
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