公开(公告)号：CN103038708A

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN201180037433.9

申请日：2011-07-28

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： N·贝尔 ,  U·勒尔林 ,  O·纳特 ,  G·维蒂希 ,  T·劳弗尔 ,  P·屈尔兹 ,  G·林巴赫 ,  S·亨巴赫尔 ,  H·沃尔特 ,  Y-B-P·关 ,  M·豪夫 ,  F-J·施蒂克尔 ,  J·凡舒特

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/1815 ,  G02B17/0647 ,  G02B27/0043 ,  G03B27/542 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064

Abstract: 一种EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于在以EUV光的曝光功率对投影透镜曝光时，将分划板上的物场投影到衬底上的像场上，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有与温度相关的热膨胀系数的材料，热膨胀系数在相应的零交叉温度处为零，并且其中零交叉温度之间的差异的绝对值大于6K。

公开(公告)号：CN103038708B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201180037433.9

申请日：2011-07-28

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： N·贝尔 ,  U·勒尔林 ,  O·纳特 ,  G·维蒂希 ,  T·劳弗尔 ,  P·屈尔兹 ,  G·林巴赫 ,  S·亨巴赫尔 ,  H·沃尔特 ,  Y-B-P·关 ,  M·豪夫 ,  F-J·施蒂克尔 ,  J·凡舒特

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/1815 ,  G02B17/0647 ,  G02B27/0043 ,  G03B27/542 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064

Abstract: 一种EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于在以EUV光的曝光功率对投影透镜曝光时，将分划板上的物场投影到衬底上的像场上，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有与温度相关的热膨胀系数的材料，热膨胀系数在相应的零交叉温度处为零，并且其中零交叉温度之间的差异的绝对值大于6K。

公开(公告)号：CN119013619A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202380031002.4

申请日：2023-04-04

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： F·鲍默 ,  M·豪夫

IPC: G03F7/00 ,  G02B26/08

Abstract: 本发明涉及用于微光刻照明系统(20)的分面反射镜(18、19)的系统集成校准的装置(100)、方法和计算机程序产品。借助于分面反射镜(18、19)产生辐射源(101)和辐射检测器(102)之间的光束路径(103)，在每种情况下，每个分面反射镜(18、19)只有一个可枢转的微镜(18”、19”)会影响所述光束路径。通过系统性枢转影响光束路径(10)的微镜(18”、19”)之一，可以根据辐射检测器(102)找到特定的最佳枢轴位置，也可以通过几何计算微镜(18”、19”)的潜在定向。将计算出的定向与微镜(18”、19”)上的倾斜传感器判定出的定向进行比较，可对于分面反射镜(18、19)的倾斜传感器或微镜(18”、19”)进行校准。