Patent search ap:("卡尔蔡司SMT有限责任公司") AND inv:"F·鲍默" Page 1

1.

发明公开
校准分面反射镜的配置、方法、与计算机程序产品审中-实审

公开(公告)号：CN119013619A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202380031002.4

申请日：2023-04-04

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： F·鲍默 , M·豪夫

IPC: G03F7/00 , G02B26/08

Abstract: 本发明涉及用于微光刻照明系统(20)的分面反射镜(18、19)的系统集成校准的装置(100)、方法和计算机程序产品。借助于分面反射镜(18、19)产生辐射源(101)和辐射检测器(102)之间的光束路径(103)，在每种情况下，每个分面反射镜(18、19)只有一个可枢转的微镜(18”、19”)会影响所述光束路径。通过系统性枢转影响光束路径(10)的微镜(18”、19”)之一，可以根据辐射检测器(102)找到特定的最佳枢轴位置，也可以通过几何计算微镜(18”、19”)的潜在定向。将计算出的定向与微镜(18”、19”)上的倾斜传感器判定出的定向进行比较，可对于分面反射镜(18、19)的倾斜传感器或微镜(18”、19”)进行校准。

Patent Agency Ranking