一种高效率双面受光柔性硅异质结太阳电池的制备方法

    公开(公告)号:CN111640815A

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN202010476722.X

    申请日:2020-05-29

    Abstract: 本发明涉及一种高效率双面受光柔性硅异质结太阳电池的制备方法,包括:提供一经过制绒清洗得到的表面清洁的柔性晶体硅衬底;在柔性衬底的相对两侧分别沉积非晶硅薄膜钝化层;在非晶硅薄膜钝化层上分别沉积第一TCO薄膜形成第一受光面和具有增强的红外波段光谱响应的背反射复合薄膜形成第二受光面,其中,背反射复合薄膜由第二TCO薄膜和金属纳米颗粒构成;在第一TCO薄膜和背反射复合薄膜上分别形成金属栅极。本发明利用第二受光面中不同分布的金属纳米颗粒的表面等离子体激元效应增强红外波段的光谱响应,克服柔性硅异质结太阳电池由于基底厚度不足引起的红外区域光谱响应差的缺点,有效提升柔性硅异质结太阳电池的短路电流和转换效率。

    一种太阳电池的制备方法以及由此得到的太阳电池

    公开(公告)号:CN111403554A

    公开(公告)日:2020-07-10

    申请号:CN202010226291.1

    申请日:2020-03-26

    Abstract: 本发明涉及一种太阳电池的制备方法,包括如下步骤:S1,分别提供金属化复合膜和太阳电池芯片,其中,在铜丝上包覆低温合金以得到导电细丝,然后通过复合膜支撑导电细丝来得到金属化复合膜,其中,太阳电池芯片具有导电层;S2,将金属化复合膜铺设在太阳电池芯片的导电层上,通过热压使金属化复合膜和导电层形成欧姆接触通路,得到太阳电池。本发明还提供由上述制备方法得到的太阳电池。根据本发明的制备方法,完全省去了传统丝网金属化技术所消耗的银浆成本,在保持量产效率和成品率的前提下可减少传统金属化电极遮挡损伤和金属化烧结损耗,使太阳电池的光电转化效率最大化。

    一种边缘抛光的单晶制绒硅片、太阳电池及制备方法

    公开(公告)号:CN116230787A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202310136324.7

    申请日:2023-02-20

    Abstract: 本发明涉及一种边缘抛光的单晶制绒硅片、太阳电池及制备方法。该单晶制绒硅片正面和背面的边缘区域以及硅片的侧面区域不具有金字塔绒面结构,除所述边缘区域和侧面区域以外的其它区域具有金字塔绒面结构。该单晶制绒硅片制备方法包括:腐蚀抛光;形成掩膜;制绒;将掩膜去除。该硅片或电池片的边缘没有金字塔状的绒面结构,是比较光滑的结构,当硅片或电池片受到弯折、震动、热冲击时,能有效避免产生应力集中,因此提高了硅片或电池片的机械强度,降低生产过程中硅片发生碎裂的几率,提高电池片、电池组件产品的可靠性。

    一种重掺杂型硅基薄膜的制备方法和由此得到的薄膜及其应用

    公开(公告)号:CN111312859A

    公开(公告)日:2020-06-19

    申请号:CN202010140012.X

    申请日:2020-03-03

    Abstract: 本发明涉及一种重掺杂型硅基薄膜的制备方法,其包括提供衬底并在该衬底上生长具有掺杂元素的轻掺杂型硅基薄膜,通过掺杂气体形成富含激活掺杂元素的氛围,在该氛围下对轻掺杂型硅基薄膜进行后处理以形成重掺杂型硅基薄膜,重掺杂型硅基薄膜的掺杂元素含量大于轻掺杂型硅基薄膜的掺杂元素含量。本发明还提供上述的制备方法得到的重掺杂型硅基薄膜。本发明又提供上述的重掺杂型硅基薄膜在异质结晶体硅太阳电池上的应用。根据本发明的重掺杂型硅基薄膜的制备方法,能够提高硅基薄膜的掺杂效率,对进一步获得高效率异质结晶体硅太阳电池具有突出的意义。

    一种高效率双面受光柔性硅异质结太阳电池的制备方法

    公开(公告)号:CN111640815B

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202010476722.X

    申请日:2020-05-29

    Abstract: 本发明涉及一种高效率双面受光柔性硅异质结太阳电池的制备方法,包括:提供一经过制绒清洗得到的表面清洁的柔性晶体硅衬底;在柔性衬底的相对两侧分别沉积非晶硅薄膜钝化层;在非晶硅薄膜钝化层上分别沉积第一TCO薄膜形成第一受光面和具有增强的红外波段光谱响应的背反射复合薄膜形成第二受光面,其中,背反射复合薄膜由第二TCO薄膜和金属纳米颗粒构成;在第一TCO薄膜和背反射复合薄膜上分别形成金属栅极。本发明利用第二受光面中不同分布的金属纳米颗粒的表面等离子体激元效应增强红外波段的光谱响应,克服柔性硅异质结太阳电池由于基底厚度不足引起的红外区域光谱响应差的缺点,有效提升柔性硅异质结太阳电池的短路电流和转换效率。

    表面具有凹槽的单晶硅片、异质结太阳电池及制备方法

    公开(公告)号:CN113327999A

    公开(公告)日:2021-08-31

    申请号:CN202110671680.X

    申请日:2021-06-17

    Abstract: 本发明提供一种表面具有凹槽的单晶硅片、异质结太阳电池及制备方法。硅片的正面和背面均设有凹槽,凹槽的深度为5‑50μm,凹槽的宽度为10‑100μm,凹槽的内部形貌包括台阶状和金字塔状中的一种或两种,凹槽外的单晶硅片表面形貌包括金字塔状,台阶和金字塔的表面对应硅晶体的(111)晶面,位于同一斜面的相邻台阶棱的间距为0.1‑10μm,金字塔高度为0.1‑10μm。本发明在用于制备异质结太阳电池时,可增大栅线与透明导电薄膜的接触面积,提高太阳电池的填充因子FF和电极的焊接拉力,减少栅线的遮光面积,可显著提升短路电流Isc;同时可减少银浆耗量,实现太阳电池的提效降本。此外还有助于提高银浆的导电性能和提高丝网印刷的速度,从而提升设备产能。

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