气化器以及半导体处理系统

    公开(公告)号:CN1955338A

    公开(公告)日:2007-05-02

    申请号:CN200610163552.X

    申请日:2006-09-29

    CPC classification number: C23C16/4486

    Abstract: 本发明涉及一种用于从液体原料获得处理气体的气化器(2),其包括规定了气化器(2)处理空间的容器(40)、以及在容器(40)内具有将液体原料以雾状向下方喷出的喷出口(30a)的喷射器。在喷出口(30a)的下侧,于容器(40)内配置有下部挡块(31),由此在喷出口(30a)与下部挡块(31)之间,规定了上述雾状液体原料的助动空间(G),在容器(40)的内侧面与下部挡块(31)之间,规定了与助动空间(G)连续的环状空间(F)。在容器(40)及下部挡块(31)上各自配置有第1以及第2加热器(48、33),第1以及第2加热器(48、33)加热通过环状空间(F)的雾状液体原料而生成处理气体。为从环状空间(F)中导出处理气体,在容器(40)上连接有气体导出流路(53)。

    气化器以及半导体处理系统

    公开(公告)号:CN1955338B

    公开(公告)日:2010-12-01

    申请号:CN200610163552.X

    申请日:2006-09-29

    CPC classification number: C23C16/4486

    Abstract: 本发明涉及一种用于从液体原料获得处理气体的气化器(2),其包括规定了气化器(2)处理空间的容器(40)、以及在容器(40)内具有将液体原料以雾状向下方喷出的喷出口(30a)的喷射器。在喷出口(30a)的下侧,于容器(40)内配置有下部挡块(31),由此在喷出口(30a)与下部挡块(31)之间,规定了上述雾状液体原料的助动空间(G),在容器(40)的内侧面与下部挡块(31)之间,规定了与助动空间(G)连续的环状空间(F)。在容器(40)及下部挡块(31)上各自配置有第1以及第2加热器(48、33),第1以及第2加热器(48、33)加热通过环状空间(F)的雾状液体原料而生成处理气体。为从环状空间(F)中导出处理气体,在容器(40)上连接有气体导出流路(53)。

    原料气体供给系统和原料气体供给方法

    公开(公告)号:CN114391051B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202080063295.0

    申请日:2020-09-09

    Abstract: 本发明为一种对处理装置供给原料气体的原料气体供给系统,所述原料气体是通过将固体原料气化来生成的,所述原料气体供给系统包括:将所述固体原料气化来生成所述原料气体的气化装置;送出机构,其从贮存有分散系的贮存容器向所述气化装置送出所述分散系,其中,所述分散系是在液体中分散所述固态原料而成的;和分离机构,其在所述气化装置内从所述分散系中分离出所述固体原料。

    成膜装置和成膜方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113774355A

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202110614529.2

    申请日:2021-06-02

    Abstract: 本公开提供一种成膜装置和成膜方法,能够进行抑制了微粒的影响的成膜。在基板上形成膜的成膜装置具有:腔室;基板载置台,其设置于腔室内,载置基板并且将基板保持为成膜温度;气体供给部,其供给包含成膜原料气体的气体;气体喷出构件,其与基板载置台相向地设置,具有用于喷出从气体供给部供给的包含成膜原料气体的气体的气体喷出区;以及过滤器,其以覆盖气体喷出构件的同与基板载置台相向的相向面相反一侧的面的至少气体喷出区的方式设置,所述过滤器使包含成膜原料气体的气体通过来捕获包含成膜原料气体的气体中的微粒。

    液体原料气化器及使用其的成膜装置

    公开(公告)号:CN101842882B

    公开(公告)日:2012-01-04

    申请号:CN200980100877.5

    申请日:2009-03-24

    Inventor: 大仓成幸

    CPC classification number: C23C16/4486 C23C16/405

    Abstract: 本发明提供一种液体原料气化器,具有气化部,所述气化部具备:导入口,其从液体原料供给部导入液滴状的液体原料;有底筒状的外壳主体,其在所述导入口侧具有开口端;柱状块体,其具有将所述外壳主体的开口端封闭的凸缘部,并且以相对于所述外壳主体的内侧表面留出间隙的状态嵌入;具有透气性的雾滴捕捉构件,其在形成于所述外壳主体的内侧表面与所述柱状块体的外侧表面之间的气化流路内,按照与所述内侧表面密合,并且将所述外侧表面覆盖的方式设置;加热部,其按照将所述外壳主体覆盖的方式设置;喷出孔,其按照与所述导入口连通,并从所述柱状块体的导入口侧的端面向侧面贯穿的方式形成,将所述液体原料向所述雾滴捕捉构件的内侧表面喷出;送出口,其设于所述外壳主体的底部,将气化而生成的原料气体向外部送出。

    液体原料气化器及使用该液体原料气化器的成膜装置

    公开(公告)号:CN101939827A

    公开(公告)日:2011-01-05

    申请号:CN200880126474.3

    申请日:2008-12-08

    CPC classification number: H01L21/31645 C23C16/4486

    Abstract: 本发明提供一种液体原料气化器以及使用该液体原料气化器的成膜装置,在使液体原料的液滴通过通气性部件而气化时,能够使整个通气性部件的温度变得均匀,能够防止因气化不完全引起的网眼堵塞。液体原料气化器(300)具有:使液体原料成为液滴状并向气化空间(350)喷出的液体原料供给部(300A);气化部(300B);将来自液体原料供给部的液滴状的液体原料向气化部内导入的导入口(338);配置在气化部内且由通气性部件(362)构成的雾气收集部(360),该通气性部件由通过辐射热被加热的材料构成;辐射热加热器(370),对通气性部件的整个外侧表面照射热射线,并通过该辐射热对通气性部件进行加热;送出口(340),其将原料气体送出到外部,原料气体是通过使液滴状的液体原料通过被加热的通气性部件而气化生成的。

    气体供给装置和气体供给方法

    公开(公告)号:CN107686985A

    公开(公告)日:2018-02-13

    申请号:CN201710655290.7

    申请日:2017-08-03

    Abstract: 本发明在防止成膜时原料气体所需的流量增大的同时,提高用于置换处理容器(11)内的气氛的置换气体的流量。气体供给装置包括:分别对处理容器内供给原料气体、反应气体的原料气体流路(41)、反应气体流路(61);与原料气体流路和反应气体流路分别连接的第一载气流路(51)和第二载气流路(71);置换气体流路(45),其经由与设置在第一载气流路和第二载气流路中的载气的供给控制装置不同的另外的供给控制装置,对处理容器内供给置换气体;设置在置换气体流路(45、65)中,储存置换气体的储气部(46、66);在置换气体流路中设置于储气部的下游侧的阀(V2、V6);和控制阀的开闭的控制部(100)。

    气体供给装置和阀装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106661730A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201580039064.5

    申请日:2015-07-06

    Inventor: 大仓成幸

    Abstract: 本发明提供一种在交替多次向基板供给TiCl4气体和NH3气体进行成膜时,能够抑制阀装置(1)的冷却、并且增大N2气体流量,有助于提高处理能力的技术。在交替多次向晶片(W)供给TiCl4气体和NH3气体进行成膜时,在一种处理气体的供给与另一种处理气体的供给之间,将供给至处理容器(10)内的气氛置换用的N2气体预先加热。因此,能够抑制处理容器(10)的内壁或晶片(W)接触气体的部位的冷却、并且增大N2气体的流量,因而能够缩短气氛的置换所需要的时间,有助于处理能力的提高,并且能够抑制因阀装置(1)的冷却而造成的反应生成物的附着等不良情况的发生。

    旋转型切换阀
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101839355B

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN201010135748.4

    申请日:2010-03-16

    Abstract: 本发明涉及一种旋转型切换阀,能够防止主流体从间隙部泄漏。旋转型切换阀具有:阀主体(2),形成流动有工艺气体的腔室连通路(24)和将主流体排出的排放连通路(25);以及圆筒阀芯(3),可旋转地保持在阀主体(2)内,内部形成供主流体流动的主流路(31),通过使圆筒阀芯3旋转,能够将主流路(31)在腔室连通路(24)和排放连通路(25)之间切换,其中,具有用于使清洗气体向阀主体(2)和圆筒阀芯(3)之间的间隙部(11)流动的清洗气体流路(22a、22b、22c、22d、22e),通过使清洗气体向间隙部(11)流动,防止主流体从主流路(31)泄漏。

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