公开(公告)号：CN117870550A

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN202310764926.7

申请日：2023-06-26

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 张城豪 ,  裵祥佑 ,  徐敏焕 ,  成长云 ,  大久保彰律 ,  李昇祐 ,  李贞彻 ,  郑在晃 ,  洪尚俊

IPC: G01B11/02

Abstract: 提供了一种被配置为检测衬底的高度水平的水平传感器、以及包括该水平传感器的衬底处理装置。该水平传感器包括：测量光源，被配置为朝向衬底照射测量光；棱镜，被配置为将测量光的反射光分成第一偏振光和第二偏振光，并在第一偏振光和第二偏振光之间产生第一光程差；光程调制器，被配置为保持第一偏振光的光程恒定，并周期性地改变第二偏振光的光程；以及检测器，被配置为基于第一偏振光和第二偏振光之间的干涉信号来检测第一光程差。

公开(公告)号：CN115719720A

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN202211011661.5

申请日：2022-08-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 许硕 ,  高次元 ,  金贤友 ,  洪尚俊 ,  姜景元 ,  金东昱 ,  徐璟源 ,  张永日 ,  崔容锡

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供了一种基底处理设备，所述基底处理设备包括：光致抗蚀剂涂覆器，在基底上敷设光致抗蚀剂膜；加湿器，增大基底上的光致抗蚀剂膜暴露到的环境中的湿气的量；以及曝光器，用光照射暴露于具有增大的量的湿气的环境中的光致抗蚀剂膜。加湿器设置在光致抗蚀剂涂覆器与曝光器之间。

公开(公告)号：CN109748105A

公开(公告)日：2019-05-14

申请号：CN201811230150.6

申请日：2018-10-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 洪尚俊 ,  朴相玄

IPC: B65G49/06 ,  G09F9/00

Abstract: 一种衬底支承和转移设备及方法、制造显示设备的方法，所述设备包括：穿梭件，其被构造为在x方向和y方向上运动，y方向垂直于x方向；穿梭件上的下楔形块，下楔形块包括与穿梭件的上表面平行的下表面以及相对于下楔形块的下表面倾斜的上表面；下楔形块上的上楔形块，上楔形块包括与下楔形块的上表面平行的下表面和与穿梭件的上表面平行的上表面；以及上楔形块上的卡盘，卡盘被构造为支承衬底。