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公开(公告)号：CN112746266A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN202011521742.0
申请日：2020-12-21
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
摘要： 本发明公开一种化学气相沉积装置及其温度控制方法，化学气相沉积装置包括一基板座、一主加热系统及一辅助加热系统。该辅助加热系统可以让基板座上的基板的温度快速地上升，因此在需要反复切换两种温度的情况下，该辅助加热系统可以缩短制程所需的时间。
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公开(公告)号：CN112410761A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202011160181.6
申请日：2020-10-27
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
摘要： 本发明为一种具串联式冷却室的多流道气体喷射器，包括喷射壳体内部环设有多层冷却室，每一层冷却室的侧壁顶部设有至少一溢流开口，以连通相邻的冷却室，每一层冷却室内还分别设有多条排气管，且排气管的开口外露于喷射壳体外。本发明可令每一排气管浸泡于冷却液中，达到整体排气管控温的效果，且排气管突出于串联式冷却室的多流道气体喷射器底部，搭配晶座(susceptor)的内凹结构，能有效扫除晶圆边缘的粉尘及沉积物，提升产品制造良率。
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公开(公告)号：CN112176324A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202011165028.2
申请日：2020-10-27
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/46 , C23C16/458 , C23C16/44
摘要： 本发明所提供的化学气相沉积反应腔，为一种面下型(Face Down)反应腔，能使基板(晶圆)以反应面朝下的方式与反应气体进行接触，让粉尘因为重力关往下沉降而不容易附着于基板的反应面，以改善因粉尘飘散而造成的良率损失问题。其次，而为了达到高产能力，本发明在化学气相沉积反应腔之中设置便于自动化生产作业的基板承载装置，以使基板的放置、收取更为便捷，进而达到高产量能力的效果。再者，基板承载装置还能导入气浮气体，以使基板悬浮与旋转，让基板的受热效果更为均匀与精确，进而改善基板成膜效果更不均的问题。
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公开(公告)号：CN112251735B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202011160763.4
申请日：2020-10-27
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/458 , C23C14/50 , C23C16/455
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公开(公告)号：CN112782438A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202110009169.3
申请日：2021-01-05
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
摘要： 本发明为一种磁吸式探针卡装置，包括一探针卡及一测试座。探针卡包括复数探针设置在基板上，且探针向下延伸至基板下表面，每一探针上表面镀有一磁性层。测试座则对应探针卡设置，测试座包括一晶圆测试平台及一电磁铁，电磁铁设置于晶圆测试平台下方，电磁铁能产生磁力，以将复数探针吸附至晶圆测试平台，令复数探针接触到晶圆测试平台上的晶圆，以进行晶圆检测。本发明可利用磁力吸附探针接触到晶圆，能有效确保复数探针都接触晶圆探测点，且避免探针被过度施力，减少探针结构的疲劳或断裂，同时减少晶圆测试接点上针痕的产生程度。
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公开(公告)号：CN112195454A
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN202011167305.3
申请日：2020-10-27
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/458
摘要： 本发明所提供的基板承载装置，可运用于面下型(Face Down)反应腔，能使基板(晶圆)以反应面朝下的方式与反应气体进行接触，让粉尘因为重力关往下沉降而不容易附着于基板的反应面，以改善因粉尘飘散而造成的良率损失问题。其次，基板承载装置还能导入气浮气体，以使基板悬浮与旋转，让基板的受热效果更为均匀与精确，进而改善基板成膜效果更不均的问题。
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公开(公告)号：CN109112505B
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201811049002.4
申请日：2018-09-10
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/18
摘要： 本发明公开了一种离合组件及其MOCVD设备，包括，第一电磁铁、第二电磁铁、第一离合盘、第二离合盘，第一离合盘、第二离合盘通过相互压紧、摩擦的方式咬紧；第一离合盘安装在调速轴一端，调速轴另一端穿过调速顶盖后与调速齿轮装配固定；第二离合盘与离合筒一端装配固定，离合筒内侧与驱动轴底部可轴向上移动装配；离合筒顶部穿过离合隔板后与离合驱动板可周向转动装配，离合驱动板两端分别通过离合驱动杆与驱动连接板一端装配固定，驱动连接板设置在驱动机构上；驱动连接板还与第二伸缩轴一端装配固定，第二伸缩轴另一端穿过下限位板后与第二电磁铁装配。本发明通过托盘组件实现了托盘在转动的同时还在水平方向上摆动，从而保证托盘受热均匀。
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公开(公告)号：CN112813405B
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202011523553.7
申请日：2020-12-21
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/18 , C23C16/455 , C23C16/52
摘要： 本发明为一种提供低温差操作气体的方法，其适用于提供操作气体至气相沉积反应炉的气动驱动机构，反应炉包括一晶圆反应区以及一废热区。低温差操作气体方法包括下列步骤，首先提供反应炉；接着提供操作气体经过反应炉的废热区，令加热后的操作气体成为增温操作气体；最后将增温操作气体导入反应炉的气动驱动机构，使气动驱动机构通过增温操作气体作动。本发明能提供与反应炉反应温差较小的操作气体，从而降低操作气体对于反应炉中温度的影响，维持制作晶圆的品质。
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公开(公告)号：CN112195454B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202011167305.3
申请日：2020-10-27
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/458
摘要： 本发明所提供的基板承载装置，可运用于面下型(Face Down)反应腔，能使基板(晶圆)以反应面朝下的方式与反应气体进行接触，让粉尘因为重力关往下沉降而不容易附着于基板的反应面，以改善因粉尘飘散而造成的良率损失问题。其次，基板承载装置还能导入气浮气体，以使基板悬浮与旋转，让基板的受热效果更为均匀与精确，进而改善基板成膜效果更不均的问题。
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