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公开(公告)号：US20100248137A1
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：US12797949
申请日：2010-06-10
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
CPC分类号： C08L81/06 , C08G75/20 , C09D165/00 , C09D181/06 , Y10S438/952
摘要： The present invention discloses novel bottom anti-reflective coating compositions where a coating from the composition has an etch rate that can be regulated by the etch plate temperature.
摘要翻译： 本发明公开了新型底部抗反射涂层组合物，其中来自组合物的涂层具有可通过蚀刻板温度调节的蚀刻速率。
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公开(公告)号：US20070212638A1
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：US11372680
申请日：2006-03-10
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： G03F7/091 , C08G75/20 , C08G75/22 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111
摘要： Base soluble polymer comprising at least one sulfonyl group where at least one carbon atom at α-position and/or β-position and/or γ-position with respect to the sulfonyl group has a hydroxyl group, where the hydroxyl group is protected or unprotected are described.
摘要翻译： 包含至少一个磺酰基的碱性可溶性聚合物，其中相对于磺酰基的α-位和/或β-位和/或γ位的至少一个碳原子具有羟基，其中羟基被保护或未被保护 被描述。
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公开(公告)号：US08088564B2
公开(公告)日：2012-01-03
申请号：US12263511
申请日：2008-11-03
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan
CPC分类号： G03F7/091 , C08G75/20 , C08G75/22 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111
摘要： Base soluble polymer comprising at least one sulfonyl group where at least one carbon atom at α-position and/or β-position and/or γ-position with respect to the sulfonyl group has a hydroxyl group, where the hydroxyl group is protected or unprotected are described.
摘要翻译： 包含至少一个磺酰基的碱性可溶性聚合物，其中相对于磺酰基的α-位和/或/或位置和/或γ位上的至少一个碳原子具有羟基，其中羟基被保护或 描述不受保护的。
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公开(公告)号：US07550249B2
公开(公告)日：2009-06-23
申请号：US11372680
申请日：2006-03-10
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan
CPC分类号： G03F7/091 , C08G75/20 , C08G75/22 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111
摘要： Base soluble polymer comprising at least one sulfonyl group where at least one carbon atom at α-position and/or β-position and/or γ-position with respect to the sulfonyl group has a hydroxyl group, where the hydroxyl group is protected or unprotected are described.
摘要翻译： 包含至少一个磺酰基的碱性可溶性聚合物，其中相对于磺酰基的α-位和/或β-位和/或γ位的至少一个碳原子具有羟基，其中羟基被保护或未被保护 被描述。
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公开(公告)号：US07759046B2
公开(公告)日：2010-07-20
申请号：US11613410
申请日：2006-12-20
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
CPC分类号： C08L81/06 , C08G75/20 , C09D165/00 , C09D181/06 , Y10S438/952
摘要： The present invention discloses novel bottom anti-reflective coating compositions where a coating from the composition has an etch rate that can be regulated by the etch plate temperature.
摘要翻译： 本发明公开了新型底部抗反射涂层组合物，其中来自组合物的涂层具有可通过蚀刻板温度调节的蚀刻速率。
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公开(公告)号：US20080153035A1
公开(公告)日：2008-06-26
申请号：US11613410
申请日：2006-12-20
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
CPC分类号： C08L81/06 , C08G75/20 , C09D165/00 , C09D181/06 , Y10S438/952
摘要： The present invention discloses novel bottom anti-reflective coating compositions where a coating from the composition has an etch rate that can be regulated by the etch plate temperature.
摘要翻译： 本发明公开了新型底部抗反射涂层组合物，其中来自组合物的涂层具有可通过蚀刻板温度调节的蚀刻速率。
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公开(公告)号：US08211621B2
公开(公告)日：2012-07-03
申请号：US12797949
申请日：2010-06-10
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
CPC分类号： C08L81/06 , C08G75/20 , C09D165/00 , C09D181/06 , Y10S438/952
摘要： The present invention discloses novel bottom anti-reflective coating compositions where a coating from the composition has an etch rate that can be regulated by the etch plate temperature.
摘要翻译： 本发明公开了新型底部抗反射涂层组合物，其中来自组合物的涂层具有可通过蚀刻板温度调节的蚀刻速率。
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公开(公告)号：US08017296B2
公开(公告)日：2011-09-13
申请号：US11872962
申请日：2007-10-16
申请人： Francis Houlihan , David Abdallah , M. Dalil Rahman , Douglas McKenzie , Ruzhi Zhang , Allen G. Timko , WooKyu Kim , Ping-Hung Lu
发明人： Francis Houlihan , David Abdallah , M. Dalil Rahman , Douglas McKenzie , Ruzhi Zhang , Allen G. Timko , WooKyu Kim , Ping-Hung Lu
IPC分类号： G03F7/04
CPC分类号： C09D165/00 , G03F7/091 , H01L21/0276
摘要： The present invention relates to an organic spin coatable antireflective coating composition comprising a polymer comprising at least one unit with 3 or more fused aromatic rings in the backbone of the polymer and at least one unit with an aliphatic moeity in the backbone of the polymer. The invention further relates to a process for imaging the present composition.
摘要翻译： 本发明涉及一种有机可旋涂的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，该聚合物包含至少一个在聚合物主链中具有3个或更多个稠合芳环的单元和至少一个在聚合物主链中具有脂族摩尔的单元。 本发明还涉及用于对本发明组合物进行成像的方法。
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公开(公告)号：US20090061347A1
公开(公告)日：2009-03-05
申请号：US12263511
申请日：2008-11-03
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan
CPC分类号： G03F7/091 , C08G75/20 , C08G75/22 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111
摘要： Base soluble polymer comprising at least one sulfonyl group where at least one carbon atom at α-position and/or β-position and/or γ-position with respect to the sulfonyl group has a hydroxyl group, where the hydroxyl group is protected or unprotected are described.
摘要翻译： 包含至少一个磺酰基的碱性可溶性聚合物，其中相对于磺酰基的α-位和/或β-位和/或γ位的至少一个碳原子具有羟基，其中羟基被保护或未被保护 被描述。
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公开(公告)号：US20080292995A1
公开(公告)日：2008-11-27
申请号：US11872962
申请日：2007-10-16
申请人： Francis Houlihan , David Abdallah , M. Dalil Rahman , Douglas McKenzie , Ruzhi Zhang , Allen G. Timko , Wookyu Kim , Ping-Hung Lu
发明人： Francis Houlihan , David Abdallah , M. Dalil Rahman , Douglas McKenzie , Ruzhi Zhang , Allen G. Timko , Wookyu Kim , Ping-Hung Lu
CPC分类号： C09D165/00 , G03F7/091 , H01L21/0276
摘要： The present invention relates to an organic spin coatable antireflective coating composition comprising a polymer comprising at least one unit with 3 or more fused aromatic rings in the backbone of the polymer and at least one unit with an aliphatic moeity in the backbone of the polymer. The invention further relates to a process for imaging the present composition.
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