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    MONOLITHIC HARD PELLICLE
    4.
    发明申请
    MONOLITHIC HARD PELLICLE 失效
    单晶硬壳

    公开(公告)号：US20050243452A1

    公开(公告)日：2005-11-03

    申请号：US10709326

    申请日：2004-04-28

    申请人： Emily Gallagher ,  Rogert Leidy ,  Michael Lercel ,  Kenneth Racette ,  Andrew Watts

    发明人： Emily Gallagher ,  Rogert Leidy ,  Michael Lercel ,  Kenneth Racette ,  Andrew Watts

    IPC分类号： G03F1/14 ,  G02B5/22 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F1/64 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70983

    摘要： A monolithic optical pellicle and method of making used to protect a photomask during photolithography processing. The monolithic optical pellicle is comprised of a pellicle plate having a recessed central portion integrally formed with a perimeter frame of the pellicle plate such that it is a one-piece optical pellicle. The monolithic optical pellicle comprises a material of sufficient rigidity to minimize distortions in and maximize durability of the pellicle when used in combination with the recessed portion having a thickness that prevents sagging thereof due to applied forces on the resultant monolithic optical pellicle. This recessed central portion is the optical pellicle portion of the present monolithic optical pellicle, while the integral perimeter frame is used to attach the monolithic optical pellicle at the desired stand-off distance to a photomask. The monolithic optical pellicle preferably comprises a material that is transparent to an exposure field at about 157 nm wavelengths.

    摘要翻译： 一种单片光学防护薄膜和用于在光刻处理期间保护光掩模的方法。 单片光学防护薄膜组件由具有与防护薄膜组件的周边框架一体形成的凹形中心部分的防护薄膜组成，使得它是一体的光学防护薄片组件。 单片光学防护薄膜组件包括足够刚度的材料，以最小化防护薄膜组件的失真并最大化耐久性的材料，当与具有防止由于所得单片光学防护薄膜组件上施加的力而下垂的凹陷部分组合时。 这个凹陷的中心部分是本单片光学防护薄膜的光学防护薄膜部分，而整体的周边框架用于以一个光掩模的所需的间隔距离连接单片光学薄膜。 单片光学防护薄膜优选包括对于约157nm波长的曝光场透明的材料。

    CONTACT HOLE PRINTING METHOD AND APPARATUS WITH SINGLE MASK, MULTIPLE EXPOSURES, AND OPTIMIZED PUPIL FILTERING
    8.
    发明申请
    CONTACT HOLE PRINTING METHOD AND APPARATUS WITH SINGLE MASK, MULTIPLE EXPOSURES, AND OPTIMIZED PUPIL FILTERING 审中-公开
    接触孔打印方法和设备，具有单面，多次曝光和优化PUPIL过滤

    公开(公告)号：US20050287483A1

    公开(公告)日：2005-12-29

    申请号：US10710168

    申请日：2004-06-23

    申请人： Michael Lercel ,  Alan Rosenbluth ,  Nakgeuon Seong

    发明人： Michael Lercel ,  Alan Rosenbluth ,  Nakgeuon Seong

    IPC分类号： G03C5/00 ,  G03F1/14 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70566

    摘要： The present invention provides a lithographic method and apparatus (e.g., for printing contact holes on a wafer) that use a single mask, multiple exposures, and optimized pupil filtering. The method comprises: providing a mask including pattern features to be transferred to a wafer; transferring a first set of pattern features from the mask to the wafer using a first type of illumination and a first type of pupil filter; and transferring a second set of pattern features from the mask to the wafer using a second type of illumination and a second type of pupil filter.

    摘要翻译： 本发明提供使用单个掩模，多次曝光和优化的光瞳过滤的光刻方法和装置（例如，用于印刷晶片上的接触孔）。 该方法包括：提供包括要传送到晶片的图案特征的掩模; 使用第一类型的照明和第一类型的光瞳滤光器将第一组图案特征从掩模转印到晶片; 以及使用第二类型的照明和第二类型的光瞳滤光器将第二组图案特征从掩模转移到晶片。