公开(公告)号：US08741554B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US12787823

申请日：2010-05-26

申请人： Jun Hatakeyama ,  Kazuhiro Katayama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

发明人： Jun Hatakeyama ,  Kazuhiro Katayama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A pattern is formed by coating a first positive resist composition comprising a base resin, a photoacid generator, and a base generator onto a substrate to form a first resist film, patternwise exposure, PEB, and development to form a first resist pattern, heating the first resist pattern for causing the base generator to generate a base for inactivating the pattern to acid, coating a second positive resist composition comprising a C3-C8 alcohol and an optional C6-C12 ether onto the first resist pattern-bearing substrate to form a second resist film, patternwise exposure, PEB, and development to form a second resist pattern.

摘要翻译： 通过将包含基础树脂，光致酸发生剂和基底发生器的第一正型抗蚀剂组合物涂覆在基材上以形成第一抗蚀剂膜，图案曝光，PEB和显影以形成第一抗蚀剂图案，形成图案，加热 第一抗蚀剂图案，用于使基底发生器产生用于使图案失去酸的碱，将包含C 3 -C 8醇和任选的C 6 -C 12醚的第二正性抗蚀剂组合物涂覆到第一抗蚀剂图案衬底上以形成第二抗蚀剂图案 抗蚀剂膜，图案曝光，PEB和显影以形成第二抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US20130102806A1

公开(公告)日：2013-04-25

申请号：US13807955

申请日：2011-07-01

申请人： Kazuaki Sakaki ,  Hiroto Sugahara ,  Tetsuya Kume ,  Masaki Ohashi ,  Hirochika Naganawa ,  Kojiro Shimojo

发明人： Kazuaki Sakaki ,  Hiroto Sugahara ,  Tetsuya Kume ,  Masaki Ohashi ,  Hirochika Naganawa ,  Kojiro Shimojo

IPC分类号： C07C271/12

CPC分类号： C07C271/12 ,  C07C231/02 ,  C07C235/06 ,  C22B3/08 ,  C22B3/44 ,  C22B5/10 ,  C22B7/007 ,  C22B7/02 ,  C22B26/10 ,  C22B47/00 ,  C22B59/00 ,  Y02P10/234

摘要： A rare earth metal extractant containing, as the extractant component, dialkyldiglycol amide acid which is excellent in breaking down light rare earth elements is reacted in diglycolic acid (X mol) and an esterification agent (Y mol) at a reaction temperature of 70° C. or more and for a reaction time of one hour or more such that the mol ratio of Y/X is 2.5 or more, and is subjected to vacuum concentration. Subsequently, a reaction intermediate product is obtained by removing unreacted products and reaction residue, and an aprotic polar solvent is added as the reaction solvent. Then, the reaction intermediate product is reacted with dialkyl amine (Z mol) such that the mol ratio of Z/X is 0.9 or more and the aprotic polar solvent is removed. As a consequence, a rare earth metal extractant is efficiently synthesized at a low cost and at a high yield without having to use expensive diglycolic acid anhydride and harmful dichloromethane.

摘要翻译： 在二氯乙酸（X mol）和酯化剂（Y mol）中，在70℃的反应温度下，含有作为萃取剂成分的分解轻稀土元素的二烷基二乙二醇酰胺酸的稀土金属萃取剂 反应时间为1小时以上，Y / X的摩尔比为2.5以上，进行真空浓缩。 随后，通过除去未反应产物和反应残余物获得反应中间产物，并加入非质子极性溶剂作为反应溶剂。 然后，将反应中间产物与二烷基胺（Z mol）反应，使Z / X的摩尔比为0.9以上，去除非质子极性溶剂。 因此，稀土金属萃取剂以低成本和高收率有效地合成，而不必使用昂贵的二甘醇酸酐和有害的二氯甲烷。

公开(公告)号：US20130005997A1

公开(公告)日：2013-01-03

申请号：US13526569

申请日：2012-06-19

申请人： Masayoshi SAGEHASHI ,  Takeru WATANABE ,  Youichi OHSAWA ,  Koji HASEGAWA ,  Masaki OHASHI

发明人： Masayoshi SAGEHASHI ,  Takeru WATANABE ,  Youichi OHSAWA ,  Koji HASEGAWA ,  Masaki OHASHI

IPC分类号： C07C303/32 ,  C07D301/02

CPC分类号： C07D301/24 ,  C07C303/32 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D303/08 ,  C07C309/08 ,  C07C309/12

摘要： A 2,2-bis(fluoroalkyl)oxirane (A) is prepared by reacting a fluorinated alcohol (1) with a chlorinating, brominating or sulfonylating agent under basic conditions to form an oxirane precursor (2) and subjecting the oxirane precursor to ring closure under basic conditions. R1 and R2 are fluoroalkyl groups, R3 and R4 are hydrogen or monovalent hydrocarbon groups, X is chlorine, bromine or —OSO2R5 group, and R5 is alkyl or aryl.

摘要翻译： 通过在碱性条件下使氟化醇（1）与氯化，溴化或磺酰化剂反应以形成环氧乙烷前体（2）并使环氧乙烷前体环闭合来制备2,2-双（氟烷基）环氧乙烷（A） 在基本条件下 R1和R2是氟烷基，R3和R4是氢或一价烃基，X是氯，溴或-OSO2R5基，R5是烷基或芳基。

公开(公告)号：US08323536B2

公开(公告)日：2012-12-04

申请号：US13108534

申请日：2011-05-16

申请人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Kazumi Noda ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Kazumi Noda ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： F21V9/04 ,  F21V9/06 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03C1/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： C07D403/06 ,  C07D209/08 ,  C07D209/90 ,  C07D403/08 ,  C09B23/0008 ,  C09B23/0016 ,  C09B23/0025 ,  C09B23/0033 ,  C09B23/0041 ,  C09B23/086 ,  G02B5/223

摘要： A near-infrared absorbing dye has an anion of formula (1) wherein A1 is H or CF3, R0 is OH or —OC(═O)—R′, and R′ is a monovalent hydrocarbon group. The dye has excellent solvent solubility as well as good optical properties and heat resistance, offering the advantages of easy coating and effective working during film formation. The dye free of heavy metal in its structure is advantageously used in the process of fabricating semiconductor devices.

摘要翻译： 近红外吸收染料具有式（1）的阴离子，其中A1是H或CF3，R0是OH或-OC（= O）-R'，R'是一价烃基。 该染料具有优异的溶剂溶解性以及良好的光学性能和耐热性，提供了容易涂布和成膜期间有效加工的优点。 在其结构中不含重金属的染料有利地用于制造半导体器件的工艺中。

公开(公告)号：US20120301828A1

公开(公告)日：2012-11-29

申请号：US13118013

申请日：2011-05-27

申请人： Seiichiro TACHIBANA ,  Kazumi NODA ,  Masaki OHASHI ,  Takeshi KINSHO ,  Wu-Song HUANG ,  Dario L. GOLDFARB ,  Wai-Kin LI ,  Martin GLODDE

发明人： Seiichiro TACHIBANA ,  Kazumi NODA ,  Masaki OHASHI ,  Takeshi KINSHO ,  Wu-Song HUANG ,  Dario L. GOLDFARB ,  Wai-Kin LI ,  Martin GLODDE

IPC分类号： G03F7/004 ,  F21V9/04

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/091

摘要： A composition comprising a polymer comprising repeat units selected from formulae (1) to (4), an aromatic ring-containing polymer, a near-infrared absorbing dye, and a solvent is used to form a near-infrared absorptive film. R1, R7, R9, and R14 are H, methyl, fluorine or trifluoromethyl, R2 to R6 are H, F, trifluoromethyl, —C(CF3)2OR16, alkyl or alkoxy, at least one of R2 to R6 being F or a fluorinated group, R16, R8 and R13 are H or a monovalent organic group, L1 is a single bond or —C(═O)O—, m is 0 or 1, L2 is a di- or trivalent hydrocarbon group, n is 1 or 2, R10 to R12 are H, hydroxyl, halogen or a monovalent organic group, and R15 is a fluorinated C2-C15 hydrocarbon group.

摘要翻译： 包含含有选自式（1）至（4）的重复单元，含芳族环的聚合物，近红外吸收染料和溶剂的聚合物的组合物用于形成近红外吸收膜。 R1，R7，R9和R14是H，甲基，氟或三氟甲基，R2至R6是H，F，三氟甲基，-C（CF3）2OR16，烷基或烷氧基，R2至R6中的至少一个为F或氟化 基团R 16，R 8和R 13为H或一价有机基团，L 1为单键或-C（= O）O-，m为0或1，L 2为二价或三价烃基，n为1或 2，R 10〜R 12为H，羟基，卤素或一价有机基团，R 15为氟代C 2 -C 15烃基。

公开(公告)号：US08187404B2

公开(公告)日：2012-05-29

申请号：US12218093

申请日：2008-07-11

申请人： Yukio Ohta ,  Satoru Fukuzawa ,  Masaki Ohashi ,  Kazuo Hirose

发明人： Yukio Ohta ,  Satoru Fukuzawa ,  Masaki Ohashi ,  Kazuo Hirose

IPC分类号： B32B3/04

CPC分类号： G03G15/2028 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T156/1034 ,  Y10T156/1046

摘要： A method for manufacturing a plate-shaped peeling member having a thin metal plate and a resin sheet adhered thereto by wrapping the resin sheet around a leading edge of the thin metal plate. The plate-shaped peeling member peels paper from a roller or a belt of an electrophotographic apparatus, with a leading edge of the thin metal plate in contact with or being adjacent to the roller or the belt. The method includes the step of stacking an adhesive agent-applied resin sheet to one main surface of a thin metal plate without pulling both end portions of the adhesive agent-applied resin sheet in a longitudinal direction thereof, with an unstuck portion left on the adhesive agent-applied resin sheet in a widthwise direction thereof and with the adhesive agent-applied resin sheet being pressurized in a longitudinal direction thereof.

摘要翻译： 一种用于制造具有薄金属板和树脂片的板状剥离构件的方法，所述方法通过将所述树脂片缠绕在所述薄金属板的前缘周围而粘附在其上。 板状剥离构件从电子照相设备的辊或带子剥离纸张，薄金属板的前缘与辊或带相接触或邻近。 该方法包括将粘合剂施加的树脂片层叠到薄金属板的一个主表面上，而不将粘合剂施加的树脂片的纵向方向的两个端部拉出，粘合剂残留在粘合剂上 涂料树脂片在其宽度方向上并且施加粘合剂的树脂片在其纵向被加压。

公开(公告)号：US08057985B2

公开(公告)日：2011-11-15

申请号：US12549191

申请日：2009-08-27

申请人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： C08F28/02 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C08F20/22 ,  C08F20/36 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C1-C20 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

摘要翻译： 提供了具有式（1）的可聚合阴离子的锍盐，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2，R 3和R 4是C 1 -C 10烷基，烯基或氧代烷基或C 6 -C 18芳基，芳烷基或芳氧基烷基，或 R 2，R 3和R 4中的两个可以键合在一起形成具有S的环，A是C1-C20有机基团，n是0或1.锍盐在暴露于高能量辐射时产生非常强的磺酸。 还提供了包含衍生自锍盐的聚合物的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US20110262863A1

公开(公告)日：2011-10-27

申请号：US13091290

申请日：2011-04-21

申请人： Seiichiro TACHIBANA ,  Masaki Ohashi ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

发明人： Seiichiro TACHIBANA ,  Masaki Ohashi ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

IPC分类号： G03F7/004 ,  F21V9/04

CPC分类号： G03F7/091

摘要： A near-infrared absorptive layer is formed from a composition comprising (A) an acenaphthylene polymer, (B) a near-infrared absorbing dye, and (C) a solvent. When a multilayer film comprising the near-infrared absorptive layer and a photoresist layer is used in optical lithography, the detection accuracy of optical auto-focusing is improved, allowing the optical lithography to produce a definite projection image with an improved contrast and succeeding in forming a better photoresist pattern.

摘要翻译： 由（A）苊烯聚合物，（B）近红外吸收染料和（C）溶剂组成的组合物形成近红外吸收层。 当在光学光刻中使用包含近红外吸收层和光致抗蚀剂层的多层膜时，光学自动聚焦的检测精度得到改善，允许光学光刻产生具有改善的对比度并成功地形成的确定的投影图像 更好的光刻胶图案。

公开(公告)号：US08039198B2

公开(公告)日：2011-10-18

申请号：US12404245

申请日：2009-03-13

申请人： Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

发明人： Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A polymer comprising recurring units of a sulfonium salt represented by formula (1) is provided as well as a chemically amplified resist composition comprising the same. R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 to R4 are C1-C10 alkyl or alkoxy, R5 is C1-C30 alkyl or C6-C14 aryl, k, m and n are 0 to 3. The recurring units generate a sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition. The resist composition exhibits excellent resolution and a pattern finish with minimal LER.

摘要翻译： 提供了包含由式（1）表示的锍盐的重复单元的聚合物以及包含该聚合物的化学放大抗蚀剂组合物。 R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2至R 4是C 1 -C 10烷基或烷氧基，R 5是C 1 -C 30烷基或C 6 -C 14芳基，k，m和n是0至3.重复单元产生磺酸 暴露于高能量辐射下，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。 抗蚀剂组合物以最小的LER显示出优异的分辨率和图案光洁度。

公开(公告)号：US20110189607A1

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：US13013506

申请日：2011-01-25

申请人： Masaki OHASHI ,  Satoshi WATANABE ,  Youichi OHSAWA ,  Keiichi MASUNAGA ,  Takeshi KINSHO

发明人： Masaki OHASHI ,  Satoshi WATANABE ,  Youichi OHSAWA ,  Keiichi MASUNAGA ,  Takeshi KINSHO

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C07C69/54 ,  C08F220/38

CPC分类号： C07C69/54 ,  C08F220/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

摘要： There is disclosed a sulfonium salt represented by the following general formula (1). In the formula, X and Y each represents a group having a polymerizable functional group; Z represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 33 carbon atoms optionally containing a hetero atom; R1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms optionally containing a hetero atom; and R2 and R3 each represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms optionally containing a hetero atom or R2 and R3 may be bonded with each other to form a ring together with a sulfur atom in the formula. There can be provided a sulfonium salt usable as a resist composition providing high resolution and excellent in LER in photolithography using a high energy beam such as an ArF excimer laser, an EUV light and an electron beam as a light source, a polymer obtained from the sulfonium salt, a resist composition containing the polymer and a patterning process using the resist composition.

摘要翻译： 公开了由以下通式（1）表示的锍盐。 在该式中，X和Y各自表示具有聚合性官能团的基团， Z表示任选含有杂原子的碳原子数1〜33的二价烃基; R1表示任选含有杂原子的碳原子数1〜36的二价烃基; R 2和R 3各自表示可以含有杂原子的具有1〜30个碳原子的一价烃基，或者，R 2和R 3可以相互结合，与式中的硫原子一起形成环。 可以提供可用作抗蚀剂组合物的锍盐，其使用诸如ArF准分子激光器，EUV光和电子束作为光源的高能束在光刻中提供高分辨率和优异的LER，从 锍盐，含有聚合物的抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物的图案化工艺。