公开(公告)号：US20150183683A1

公开(公告)日：2015-07-02

申请号：US14659945

申请日：2015-03-17

申请人： Asahi Glass Company, Limited

发明人： Hirokazu KODAIRA ,  Yutaka Hayami ,  Takashige Yoneda

IPC分类号： C03C17/32 ,  C03C17/28

CPC分类号： C03C17/324 ,  B32B15/01 ,  C03C17/009 ,  C03C17/28 ,  C03C2217/29 ,  C03C2217/475 ,  C03C2217/476 ,  C03C2217/48 ,  C03C2217/74 ,  C08G77/14 ,  C08K3/00 ,  C08K3/22 ,  C08K5/00 ,  C08K5/07 ,  C08K9/02 ,  C08K2003/2231 ,  C08K2003/2258 ,  C09D1/00 ,  C09D5/32 ,  C09D7/48 ,  C09D133/08 ,  C09D133/10 ,  C09D135/00 ,  C09D163/00 ,  C09D183/06 ,  C09D201/00 ,  Y10T428/265

摘要： There are provided a liquid composition capable of forming a coating film securing colorless transparency, being excellent in weather resistance, suppressing occurrence of bleedout, and having sufficiently ultraviolet absorbing function and the infrared absorbing function, and a glass article having a coating film formed by this composition. A liquid composition for forming a coating film contains an infrared absorbent selected from a tin-doped indium oxide, an antimony-doped tin oxide, and a composite tungsten oxide; an ultraviolet absorbent selected from a benzophenone-based compound, a triazine-based compound, and a benzotriazole-based compound; predetermined amount of a dispersing agent having a molecular weight of 1,000 to 100,000; predetermined amount of a chelating agent relative forming a complex with the infrared absorbent and having a molecular weight of 1,000 to 100,000, the complex exhibiting substantially no absorption with respect to light having a visible wavelength; a binder component; and a liquid medium.

摘要翻译： 提供一种能够形成确保无色透明性的涂膜，耐候性优异，抑制渗出发生，并且具有充分的紫外线吸收功能和红外吸收功能的涂膜的液体组合物，以及具有由此形成的涂膜的玻璃制品 组成。 用于形成涂膜的液体组合物含有选自掺杂锡的氧化铟，掺锑氧化锡和复合氧化钨的红外吸收剂; 选自二苯甲酮类化合物，三嗪类化合物和苯并三唑类化合物的紫外线吸收剂; 预定量的分子量为1,000至100,000的分散剂; 预定量的与红外线吸收剂形成络合物并且分子量为1,000至100,000的螯合剂，所述配合物相对于具有可见波长的光基本上不吸收; 粘合剂成分; 和液体介质。

公开(公告)号：US20150079507A1

公开(公告)日：2015-03-19

申请号：US14477946

申请日：2014-09-05

申请人： PROMERUS, LLC

发明人： Pramod KANDANARACHCHI ,  Larry F. RHODES

IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/40 ,  C08F220/08

CPC分类号： G03F7/0758 ,  C08F8/12 ,  C08F8/32 ,  C08F8/44 ,  C08F8/48 ,  C08F220/08 ,  C08F222/06 ,  C08F222/08 ,  C08F230/08 ,  C08F232/04 ,  C08F232/08 ,  C08F2800/10 ,  C09D135/00 ,  C09D135/06 ,  C09D145/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40

摘要： Disclosed herein are various amine treated maleic anhydride containing polymers and compositions thereof, which are useful for forming self-imageable films. In some embodiments, such polymers encompass norbornene-type repeating units containing pendent silyl groups and maleic anhydride-type repeating units where at least some of such maleic anhydride-type repeating units are either ring-opened or have been transformed into maleimide repeat units. The films formed from such copolymer compositions provide self imageable, low-k, thermally stable layers for use in microelectronic and optoelectronic devices.

摘要翻译： 本文公开了各种胺处理的含马来酸酐的聚合物及其组合物，其可用于形成可自我形成的膜。 在一些实施方案中，这种聚合物包括含有侧链甲硅烷基和马来酸酐型重复单元的降冰片烯型重复单元，其中至少一些这样的马来酸酐型重复单元是开环的或已经转化成马来酰亚胺重复单元。 由这种共聚物组合物形成的膜提供用于微电子和光电子器件的自成像，低k热稳定层。

公开(公告)号：US20140193753A1

公开(公告)日：2014-07-10

申请号：US14183630

申请日：2014-02-19

申请人： Shigemasa NAKASUGI ,  Kazuma YAMAMOTO ,  Shinji MIYAZAKI ,  Munirathna PADMANABAN ,  Srinivasan CHAKRAPANI

发明人： Shigemasa NAKASUGI ,  Kazuma YAMAMOTO ,  Shinji MIYAZAKI ,  Munirathna PADMANABAN ,  Srinivasan CHAKRAPANI

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03C1/73

CPC分类号： G03F7/20 ,  C08K5/1535 ,  C08K5/3415 ,  C09D135/00 ,  G03C1/73 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  G03F7/095

摘要： The present invention provides a composition for forming a bottom anti-reflective coating, and also provides a photoresist pattern formation method employing that composition. The composition gives a bottom anti-reflective coating used in a lithographic process for manufacturing semiconductor devices, and the coating can be developed with a developing solution for photoresist. The composition contains a solvent, a polymer having a condensed polycyclic aromatic group, and a compound having a maleimide derivative or a maleic anhydride derivative. The composition may further contain a photo acid generator or a crosslinking agent.

摘要翻译： 本发明提供了一种用于形成底部抗反射涂层的组合物，并且还提供了使用该组合物的光致抗蚀剂图案形成方法。 该组合物提供用于制造半导体器件的光刻工艺中使用的底部抗反射涂层，并且可以用用于光致抗蚀剂的显影溶液来显影涂层。 该组合物含有溶剂，具有缩合多环芳基的聚合物和具有马来酰亚胺衍生物或马来酸酐衍生物的化合物。 组合物还可以含有光酸产生剂或交联剂。

公开(公告)号：US08715900B2

公开(公告)日：2014-05-06

申请号：US13550586

申请日：2012-07-16

申请人： Osamu Onishi ,  Haruo Ikeda ,  Nobuo Tagashira ,  Larry Rhodes ,  Pramod Kandanarachchi

发明人： Osamu Onishi ,  Haruo Ikeda ,  Nobuo Tagashira ,  Larry Rhodes ,  Pramod Kandanarachchi

IPC分类号： G03F7/22 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0233 ,  C08F32/08 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  C09D135/00 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0384

摘要： Copolymers and compositions thereof useful for forming self-imageable films encompassing such copolymers are disclosed. Such copolymers encompass norbornene-type repeating units and maleic anhydride-type repeating units where at least some of such and maleic anhydride-type repeating units have been ring-opened. The films formed from such copolymer compositions provide self imageable, low-k, thermally stable layers for use in microelectronic and optoelectronic devices.

摘要翻译： 公开了可用于形成包含这种共聚物的自显影膜的共聚物及其组合物。 这种共聚物包括降冰片烯型重复单元和马来酸酐型重复单元，其中至少一些这样的马来酸酐型重复单元已经开环。 由这种共聚物组合物形成的膜提供用于微电子和光电子器件的自成像，低k热稳定层。

公开(公告)号：US20140079923A1

公开(公告)日：2014-03-20

申请号：US13784368

申请日：2013-03-04

申请人： Wayne N. George ,  Andrew A. Brown ,  Daniel Bratton ,  Hongji Ren ,  Ryan C. Smith

发明人： Wayne N. George ,  Andrew A. Brown ,  Daniel Bratton ,  Hongji Ren ,  Ryan C. Smith

IPC分类号： C09D135/00

CPC分类号： C12Q1/6874 ,  B05D3/06 ,  B05D3/065 ,  C09D133/26 ,  C09D135/00 ,  C12Q1/6806 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T428/24926 ,  Y10T428/2998 ,  Y10T428/31536 ,  Y10T428/31935

摘要： The present disclosure relates to polymer coatings covalently attached to the surface of a substrate and the preparation of the polymer coatings, such as poly(N-(5-azidoacetamidylpentyl)acrylamide-co-acrylamide) (PAZAM), in the formation and manipulation of substrates, such as molecular arrays and flow cells. The present disclosure also relates to methods of preparing a substrate surface by using beads coated with a covalently attached polymer, such as PAZAM, and the method of determining a nucleotide sequence of a polynucleotide attached to a substrate surface described herein.

摘要翻译： 本公开内容涉及共价连接到基材表面上的聚合物涂层以及聚（N-（5-叠氮基乙酰胺基戊基）丙烯酰胺 - 共 - 丙烯酰胺）聚合物涂层的制备（PAZAM），其形成和操作 底物，如分子阵列和流动池。 本公开还涉及通过使用涂覆有共价连接的聚合物（例如PAZAM）的珠来制备底物表面的方法，以及测定与本文所述的底物表面连接的多核苷酸的核苷酸序列的方法。

公开(公告)号：US20130252170A1

公开(公告)日：2013-09-26

申请号：US13897014

申请日：2013-05-17

申请人： Man Ho Han ,  Jong Kyoung Park ,  Hyun Jin Kim ,  Jae Hyun Kim

发明人： Man Ho Han ,  Jong Kyoung Park ,  Hyun Jin Kim ,  Jae Hyun Kim

IPC分类号： G03F7/11

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F22/06 ,  C08F32/00 ,  C08L45/00 ,  C09D133/10 ,  C09D135/00 ,  C09D145/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A polymer compound and a resist protective film composition for an immersion lithography process including the same.

摘要翻译： 包括该浸渍光刻工艺的聚合物化合物和抗蚀剂保护膜组合物。

公开(公告)号：US20120258313A1

公开(公告)日：2012-10-11

申请号：US13518337

申请日：2010-12-21

申请人： Jie Wen ,  Kristin Taton ,  Laurie Lawin ,  William Knopke ,  Eric Guire ,  Patrick Guire

发明人： Jie Wen ,  Kristin Taton ,  Laurie Lawin ,  William Knopke ,  Eric Guire ,  Patrick Guire

IPC分类号： C09D137/00 ,  B05D3/10 ,  B32B27/08 ,  B32B23/08 ,  B32B9/04 ,  B32B27/06

CPC分类号： C08F8/42 ,  A61L29/06 ,  A61L29/085 ,  A61L29/14 ,  A61L29/16 ,  A61L31/022 ,  A61L31/06 ,  A61L31/10 ,  A61L31/14 ,  A61L31/16 ,  A61L33/0005 ,  A61L2300/404 ,  A61L2300/42 ,  A61L2400/10 ,  A61L2420/02 ,  A61L2420/08 ,  B05D3/06 ,  C08F8/28 ,  C08F8/30 ,  C08F267/04 ,  C09D131/00 ,  C09D135/00 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31573 ,  Y10T428/31598 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667 ,  Y10T428/31721 ,  Y10T428/3175 ,  Y10T428/31797 ,  Y10T428/31855 ,  Y10T428/31884 ,  Y10T428/31909 ,  Y10T428/31913 ,  Y10T428/31928 ,  C08F222/06

摘要： The invention describes novel coating agents that include a polymer, one or more latent reactive groups and one or more noncovalent linking groups, the noncovalent linking groups selected to interact with a substrate to which the coating agent is applied. The coating agents are useful for providing a coating that can be further functionalized (for example, by application of additional coating layers), or for providing desirable properties to a surface.

摘要翻译： 本发明描述了新颖的涂层剂，其包括聚合物，一个或多个潜在反应性基团和一个或多个非共价连接基团，所选择的非共价连接基团与施加涂覆剂的基底相互作用。 涂层剂可用于提供可以进一步官能化的涂层（例如，通过施加额外的涂层），或用于为表面提供所需的性质。

公开(公告)号：US20120245277A1

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：US13424887

申请日：2012-03-20

申请人： Kathrin Michl ,  Markus Braun ,  Evgueni Klimov

发明人： Kathrin Michl ,  Markus Braun ,  Evgueni Klimov

IPC分类号： C09D135/00 ,  B29C71/02

CPC分类号： C09D135/00

摘要： Aqueous binder for granular and/or fibrous substrates based on polyacids, polyols and basic nitrogen compounds.

摘要翻译： 用于基于多元酸，多元醇和碱性氮化合物的颗粒和/或纤维底物的水性粘合剂。

公开(公告)号：US20080022463A1

公开(公告)日：2008-01-31

申请号：US11496372

申请日：2006-07-31

申请人： Timothy Edward Hopkins ,  Stephen Ernest Jacobson ,  Melea Rena Langley ,  Peter Michael Murphy

发明人： Timothy Edward Hopkins ,  Stephen Ernest Jacobson ,  Melea Rena Langley ,  Peter Michael Murphy

IPC分类号： C11D3/00

CPC分类号： D06M15/263 ,  C08F8/44 ,  C09D135/00 ,  D06M15/227 ,  D06M15/233 ,  D06M15/285 ,  D06M15/29 ,  D06M15/295 ,  D06M15/3562 ,  D06M2200/01 ,  Y10T428/23986 ,  Y10T428/2933 ,  Y10T428/2938 ,  Y10T428/2967 ,  Y10T428/3175 ,  Y10T428/31797 ,  Y10T428/31855 ,  Y10T428/3188 ,  Y10T428/31895 ,  Y10T428/31909 ,  Y10T428/31928 ,  Y10T442/2279 ,  C08F8/32 ,  C08F212/08 ,  C08F222/06 ,  C08F210/14

摘要： A method for imparting resistance to staining to a substrate comprising contacting the substrate with a copolymer comprising the monomers of Formula whereinD is at least one vinyl monomer selected from the group consisting of aryl olefin, alpha olefin and diene,each M is independently H, Ca, Mg, Al, Na, or K,each R1 is independently H, C1-C6 alkyl, or C1-C6 hydroxyalkyl,each R2 is independently linear or branched C1-C12 alkyl, C1-C6 hydroxyalkyl, C6F5, arylalkyl, C6H4OH, R3COOH, or R3SO3H,or R1 and R2 are linked together to form a morpholino or pyrrolidino ring,R3 is linear or branched C1-C12 alkyl, CH(COOH)CH2CH2, C6H4, or C6H3(OH),h1+h2 is h, h is a positive integer,k is zero or a positive integer,i and j are each independently zero or a positive integer,provided that the total of 1) h÷(k+h+i+j) is from about 0.005 to about 0.7, 2) k÷(k+h+i+j) is from about 0.3 to about 0.6, 3) [i+j]÷(k+h+i+j) is 0 to about 0.6, and provided that the sum of 1)+2)+3) is 1.0,said monomers occurring in any sequence.

摘要翻译： 一种赋予对基材染色抗性的方法，包括使底物与包括式I的单体的共聚物接触，其中D为选自芳烯基烯烃，α-烯烃和二烯的至少一种乙烯基单体，每个M独立地为H， Ca，Mg，Al，Na或K，每个R 1独立地为H，C 1 -C 6烷基或C

公开(公告)号：US20080020592A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：US11770503

申请日：2007-06-28

申请人： Jae-chang JUNG ,  Keun KONG ,  Jin-soo KIM

发明人： Jae-chang JUNG ,  Keun KONG ,  Jin-soo KIM

IPC分类号： H01L21/31 ,  H01L29/12

CPC分类号： G02B1/111 ,  C09D135/00 ,  G03F7/091 ,  Y10T428/12528

摘要： Disclosed are a light absorbent agent polymer for organic anti-reflective coating which can prevent diffused light reflection of bottom film layer or substrate and reduce standing waves caused by a variation of thickness of the photoresist itself, thereby, increasing uniformity of the photoresist pattern, in a process for forming ultra-fine patterns of photoresist for photolithography by using 193 nm ArF among processes for manufacturing semiconductor devices, and its preparation method. Also, the present invention discloses an organic anti-reflective coating composition comprising a light absorbent agent polymer for the organic anti-reflective coating and a pattern formation process using the coating composition.

摘要翻译： 公开了一种用于有机抗反射涂层的光吸收剂聚合物，其可以防止底部薄膜层或基底的扩散光反射，并减少由光致抗蚀剂本身的厚度变化引起的驻波，从而提高光致抗蚀剂图案的均匀性， 其制造半导体装置的制造方法中使用193nm的ArF，形成用于光刻的光刻胶的超微细图案的方法及其制备方法。 此外，本发明公开了一种有机抗反射涂层组合物，其包含用于有机抗反射涂层的光吸收剂聚合物和使用该涂料组合物的图案形成方法。