发明申请
US20130252170A1 Polymer Compound, And Resist-Protecting Film Composition Including Same For A Liquid Immersion Exposure Process
有权
高分子化合物和防腐保护膜组合物包括用于液体浸渍曝光过程的组合物
- 专利标题： Polymer Compound, And Resist-Protecting Film Composition Including Same For A Liquid Immersion Exposure Process
- 专利标题（中）： 高分子化合物和防腐保护膜组合物包括用于液体浸渍曝光过程的组合物
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申请号： US13897014申请日： 2013-05-17
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公开(公告)号： US20130252170A1公开(公告)日： 2013-09-26
- 发明人: Man Ho Han , Jong Kyoung Park , Hyun Jin Kim , Jae Hyun Kim
- 申请人： Man Ho Han , Jong Kyoung Park , Hyun Jin Kim , Jae Hyun Kim
- 优先权： KR10-2010-0114558 20101117; KR10-2011-0024347 20110318
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11
摘要：
A polymer compound and a resist protective film composition for an immersion lithography process including the same.
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