公开(公告)号：US20050058932A1

公开(公告)日：2005-03-17

申请号：US10664303

申请日：2003-09-16

申请人： Andrew Feiring ,  Viacheslav Petrov ,  Frank Schadt

发明人： Andrew Feiring ,  Viacheslav Petrov ,  Frank Schadt

IPC分类号： C07C33/44 ,  C08F214/18 ,  C08F232/02 ,  G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C33/44 ,  C08F232/02 ,  G03F7/0395

摘要： There is disclosed a composition comprising a mixture of endo- and exo-2-(bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yl)-2,2-fluoroalkyl-ethan-2-ol which is rich in the exo isomer, preferably the endo/exo concentration ratio is no greater than 5/95. The composition is useful for forming a repeat unit of a polymer which polymer may further comprise additional repeat units derived from tert-butyl acrylate, hydroxyadamantyl acrylate, protected or unprotected fluorinated olefins, 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2-propenoic acid, 2-hydroxy-1,1,2-trimethylpropyl ester. Polymers of this invention are useful as the binder component of a photoresist composition for microlithography.

摘要翻译： 公开了一种组合物，其包含内 - 和外-2-（二环[2.2.1]庚-5-烯-2-基）-2,2-氟烷基 - 乙-2-醇的混合物，其富含 外异构体，优选内/外浓度比不大于5/95。 该组合物可用于形成聚合物的重复单元，该聚合物可以进一步包含衍生自丙烯酸叔丁酯，丙烯酸羟基金刚烷基酯，被保护或未保护的氟化烯烃，丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯，2-丙烯酸， 2-羟基-1,1,2-三甲基丙基酯。 本发明的聚合物可用作微光刻用光致抗蚀剂组合物的粘合剂组分。

公开(公告)号：US20050020793A1

公开(公告)日：2005-01-27

申请号：US10502839

申请日：2003-02-26

申请人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt, lll ,  Gary Taylor

发明人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt, lll ,  Gary Taylor

IPC分类号： C08F12/20 ,  C08F216/14 ,  C08F220/10 ,  C08F232/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

摘要： Fluorinated copolymers useful in photoresist compositions and associated processes for microlithography are described. These copolymers are comprised of a fluoroalcohol or protected fluoroalcohol functional group which simultaneously imparts high ultraviolet (UV) transparency and developability in basic media to these materials and a repeat unit derived from an acrylate monomer containing a fluoroalkyl group or a hydroxyl substituted alkyl group. The materials of this invention have high UV transparency, particularly at 193 and 157 nm, which makes them highly useful for lithography at these short wavelengths.

摘要翻译： 描述了用于光致抗蚀剂组合物和用于微光刻的相关工艺的氟化共聚物。 这些共聚物由氟代醇或受保护的氟代醇官能团构成，其同时赋予这些材料在碱性介质中高的紫外线（UV）透明性和显影性，以及衍生自含有氟代烷基或羟基取代的烷基的丙烯酸酯单体的重复单元。 本发明的材料具有高的UV透明度，特别是在193和157nm，这使得它们在这些短波长下对光刻非常有用。

公开(公告)号：US20070207413A1

公开(公告)日：2007-09-06

申请号：US11578278

申请日：2005-05-17

申请人： Michael Crawford ,  Hoang Tran ,  Frank Schadt ,  Fredrick Zumsteg ,  Andrew Feiring ,  Michael Fryd

发明人： Michael Crawford ,  Hoang Tran ,  Frank Schadt ,  Fredrick Zumsteg ,  Andrew Feiring ,  Michael Fryd

IPC分类号： C08F18/20 ,  C08F224/00 ,  C08F132/08

CPC分类号： C08F214/18 ,  C07C33/44 ,  C07C43/1781 ,  C07C43/196 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/62 ,  C07C2603/86 ,  C08F214/26 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108

摘要： The present invention relates to novel unsaturated polycyclic compounds containing two fluoroalcohol substitutents. This invention also relates to homopolymers and copolymers derived from such unsaturated polycyclic compounds. The copolymers are useful for photoimaging compositions and, in particular, photoresist compositions (positive-working and/or negative-working) for imaging in the production of semiconductor devices. The polymers are especially useful in photoresist compositions having high UV transparency (particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm) which are useful as base resins in resists and potentially in many other applications.

摘要翻译： 本发明涉及含有两个氟代醇取代基的新型不饱和多环化合物。 本发明还涉及衍生自这种不饱和多环化合物的均聚物和共聚物。 共聚物可用于光成像组合物，特别是用于制造半导体器件的成像的光致抗蚀剂组合物（正性和/或负性）。 聚合物特别适用于具有高UV透明度（特别是短波长，例如157nm）的光致抗蚀剂组合物，其可用作抗蚀剂中的基础树脂并且潜在地在许多其它应用中。

公开(公告)号：US20050112495A1

公开(公告)日：2005-05-26

申请号：US10945124

申请日：2004-09-20

申请人： Andrew Feiring ,  Michael Fryd ,  Frank Schadt

发明人： Andrew Feiring ,  Michael Fryd ,  Frank Schadt

IPC分类号： C08F2/32 ,  C08F10/00 ,  C08F220/10 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08F232/00 ,  C09D133/14 ,  G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： C08F232/00 ,  C08F220/26 ,  C09D133/14 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

摘要： The invention pertains to low polydispersity copolymers useful for photoimaging and photoresist compositions, and to the photoimaging processes which use these compositions. The low polydispersity copolymers of this invention are prepared using controlled radical polymerization (CRP) techniques, such as RAFT (reversible addition fragmentation chain transfer) polymerization.

摘要翻译： 本发明涉及用于光成像和光致抗蚀剂组合物的低分散性共聚物以及使用这些组合物的光成像方法。 使用例如RAFT（可逆加成断裂链转移）聚合的控制自由基聚合（CRP）技术制备本发明的低多分散性共聚物。

公开(公告)号：US20060247400A1

公开(公告)日：2006-11-02

申请号：US11392857

申请日：2006-03-29

申请人： James Sounik ,  Frank Schadt ,  Michael Fryd

发明人： James Sounik ,  Frank Schadt ,  Michael Fryd

IPC分类号： C08F4/04

CPC分类号： C08F8/14 ,  C08F212/08

摘要： The present invention relates to novel photoresist compositions and processes for preparing the same utilizing polymers having a low polydispersity via the use of certain chain transfer agents (CTA) with certain monomers to provide said polymers. The polymers incorporating the chain transfer agents can be homopolymers, or made with additional monomers to provide copolymers. These polymers/copolymers are then converted into photoresist compositions for use as such.

摘要翻译： 本发明涉及新型光致抗蚀剂组合物以及通过使用某些链转移剂（CTA）与某些单体以提供所述聚合物来制备具有低多分散性的聚合物的方法。 结合链转移剂的聚合物可以是均聚物，或者由另外的单体制成以提供共聚物。 然后将这些聚合物/共聚物转化为光致抗蚀剂组合物以便使用。

公开(公告)号：US20060166129A1

公开(公告)日：2006-07-27

申请号：US10523490

申请日：2003-08-19

申请人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt III ,  William Farnham ,  Jerald Feldman

发明人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt III ,  William Farnham ,  Jerald Feldman

IPC分类号： C08F16/24

CPC分类号： C08F232/00 ,  C08F8/12 ,  C08F214/18 ,  C08F214/26 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F232/08 ,  C08F2800/20 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395

摘要： This invention provides a fluorine-containing copolymer having a repeat unit derived from at least one fluorinated olefin and a repeat unit derived from at least one polycyclic ethylenically unsaturated monomer having pendant hydroxyl or esterified hydroxyl groups, and optionally other repeat units, typically derived from an acrylate. These polymers have high transparency at short wavelengths such as 193 nm and 157 nm, and provide good plasma etch resistance and adhesive properties. Also provided are photoresist compositions and substrates coated therewith.

摘要翻译： 本发明提供了含有至少一种氟化烯烃的重复单元和衍生自至少一种具有羟基或酯化羟基的多环烯属不饱和单体的重复单元的含氟共聚物，以及任选的其它重复单元，通常衍生自 丙烯酸酯。 这些聚合物在短波长如193nm和157nm处具有高透明度，并且提供良好的等离子体耐蚀刻性和粘合性。 还提供了光刻胶组合物和其上涂覆的基材。

公开(公告)号：US20050277052A1

公开(公告)日：2005-12-15

申请号：US10523491

申请日：2003-08-08

申请人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt, III ,  Viacheslav Petrov ,  Bruce Smart ,  William Farnham

发明人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt, III ,  Viacheslav Petrov ,  Bruce Smart ,  William Farnham

IPC分类号： C08F8/00 ,  C08F214/18 ,  C08F214/26 ,  C08F216/12 ,  C08F220/24 ,  C08F232/00 ,  C08F232/08 ,  G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F214/18 ,  C08F214/26 ,  C08F220/24 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： This invention provides novel fluorine containing polymers which comprise at least one fluorinated olefin, at least one polycyclic ethylenically unsaturated monomer with a fused 4-membered carbocyclic ring and, optionally, other components. The polymers are useful for photoimaging compositions and, in particular, photoresist compositions (positive-working and/or negative-working) for imaging in the production of semiconductor devices. The polymers are especially useful in photoresist compositions having high UV transparency (particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm) which are useful as base resins in resists and potentially in many other applications.

摘要翻译： 本发明提供新颖的含氟聚合物，其包含至少一种氟化烯烃，至少一种具有稠合的4元碳环的多烯键式不饱和单体和任选的其它组分。 聚合物可用于光成像组合物，特别是用于制造半导体器件的成像的光致抗蚀剂组合物（正性和/或负性）。 聚合物特别适用于具有高UV透明度（特别是短波长，例如157nm）的光致抗蚀剂组合物，其可用作抗蚀剂中的基础树脂并且潜在地在许多其它应用中。

公开(公告)号：US20050203262A1

公开(公告)日：2005-09-15

申请号：US10521412

申请日：2003-07-23

申请人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt ,  Toshiyuki Ogata ,  Koutaro Endo

发明人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt ,  Toshiyuki Ogata ,  Koutaro Endo

IPC分类号： C08F114/18 ,  C08F214/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F214/186 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

摘要： Fluorinated polymers useful in photoresist compositions and associated processes for microlithography are described. These polymers and photoresists have a fluoroalcohol functional group that simultaneously imparts high ultraviolet (UV) transparency and developability in basic media. The polymers also have a repeat unit derived from a C1-C25 alkyl hydroxymethylacrylate comonomer, e.g., tert-butyl hydroxymethylacrylate, or a C5-C50 polycyclic alkyl acrylate in which the polycyclic group contains a hydroxy group, e.g., hydroxyadamantyl acrylate. The materials of this invention have high UV tansparency, particularly at short wavelengths, e.g., 193 nm and 157 nm, which makes them highly useful for lithography at these short wavelengths.

摘要翻译： 描述了可用于光致抗蚀剂组合物和用于微光刻的相关工艺的氟化聚合物。 这些聚合物和光致抗蚀剂具有同时在基础介质中赋予高紫外（UV）透明度和显影性的氟代醇官能团。 聚合物还具有衍生自C 1 -C 25烷基羟甲基丙烯酸酯共聚单体的重复单元，例如羟丙基甲基丙烯酸叔丁酯或C 5 >其中多环基团含有羟基的丙烯酸多环烷基酯，例如丙烯酸羟基金刚烷酯。 本发明的材料具有高的紫外线透明度，特别是在短波长例如193nm和157nm处，这使得它们在这些短波长下对光刻非常有用。