公开(公告)号：US20050260519A1

公开(公告)日：2005-11-24

申请号：US10380990

申请日：2001-10-12

申请人： Larry Berger ,  Jerald Feldman ,  Viacheslav Petrov ,  Frank Schadt III ,  Andrew Feiring ,  Fredrick Zumsteg Jr.

发明人： Larry Berger ,  Jerald Feldman ,  Viacheslav Petrov ,  Frank Schadt III ,  Andrew Feiring ,  Fredrick Zumsteg Jr.

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108

摘要： The invention relates to a photoresist composition comprising a polymeric binder; a photoactive component; and at least one dissolution inhibitor comprising a paraffinic or cycloparaffinic compound containing at least one functional group having the structure —C(Rf)(Rf′)OR wherein Rf and Rf′ are the same or different fluoroalkyl groups of from one to about ten carbon atoms or taken together are (CF2)a wherein a is an integer ranging from 2 to about 10 and R is a hydrogen atom or an acid labile protecting group. Typically, the dissolution inhibitor has an absorption coefficient of less than about 4.0 μm at a wavelength of 157 nm.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物粘合剂的光致抗蚀剂组合物; 光活性成分; 和至少一种溶解抑制剂，其包含链烷烃或环烷烃化合物，其含有至少一个具有结构-C（R f） 一个或多个碳原子的相同或不同的氟代烷基或一起为（CF 2 N 2）

公开(公告)号：US5985998A

公开(公告)日：1999-11-16

申请号：US248565

申请日：1999-02-11

申请人： Eugene G. Sommerfeld ,  Frank Schadt, III

发明人： Eugene G. Sommerfeld ,  Frank Schadt, III

IPC分类号： C08F255/06 ,  C08F265/04 ,  C08F265/06 ,  C08F290/04 ,  C08F291/00 ,  C08G18/42 ,  C08G18/62 ,  C08G18/67 ,  C08G18/80 ,  C08L33/00 ,  C08L101/00 ,  C09D151/00 ,  C09D167/00 ,  G03F7/033 ,  C08L35/00 ,  C08L39/04

CPC分类号： G03F7/033 ,  C08F255/06 ,  C08F265/04 ,  C08F265/06 ,  C08F290/04 ,  C08F290/046 ,  C08F291/00 ,  C08G18/4216 ,  C08G18/6229 ,  C08G18/6254 ,  C08G18/673 ,  C08G18/8077 ,  C08L101/00 ,  C09D151/003 ,  C09D167/00 ,  C08L33/00

摘要： A novel class of interpenetrating polymer networks which are dispersible in conventional coating solvents is disclosed. Such dispersions are useful in preparing protective and/or decorative film coatings and are particularly useful in photosensitive or imaging formulations such as photoresists, solder masks and the like. These polymer networks are comprised of at least two interpenetrating crosslinked polymers. At least one of the polymer networks is formed by polymerization in a solvent. In one embodiment of this invention, at least one polymer network is prepared from macromers to produce a polymer system having functionalized branch or graft linear segments. The solvent dispersible interpenetrating networks of this invention are particularly useful as binders in addition polymerizable photosensitive compositions containing crosslinking monomers such as solder masks. Upon exposure to actinic radiation and suitable thermal curing, solder mask coatings of such photosensitive compositions form multiple, e.g., triple, interpenetrating polymer networks having superior toughness and flexibility.

摘要翻译： 公开了可分散在常规涂层溶剂中的新颖的互穿聚合物网络。 这种分散体可用于制备保护性和/或装饰性膜涂层，并且特别适用于感光或成像制剂，例如光致抗蚀剂，阻焊剂等。 这些聚合物网络由至少两个互穿交联聚合物组成。 通过在溶剂中聚合形成聚合物网络中的至少一个。 在本发明的一个实施方案中，由大分子单体制备至少一种聚合物网络以产生具有官能化的支链或接枝线性链段的聚合物体系。 本发明的溶剂可分散的互穿网络特别可用作含有交联单体如焊料掩模的加成可聚合光敏组合物中的粘合剂。 在曝光于光化辐射和合适的热固化之后，这种光敏组合物的焊接掩模涂层形成具有优异韧性和柔韧性的多重例如三重互穿聚合物网络。

公开(公告)号：US20060167284A1

公开(公告)日：2006-07-27

申请号：US10523489

申请日：2003-08-08

申请人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt III ,  Viacheslav Petrov ,  Bruce Smart ,  William Farnham

发明人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt III ,  Viacheslav Petrov ,  Bruce Smart ,  William Farnham

IPC分类号： C07D311/74 ,  C07D205/12

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07D205/12 ,  C07D305/14 ,  C07D493/10 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395

摘要： The present invention provides novel fluorine-containing copolymers which comprise at least one fluorinated olefin, at least one polycyclic ethylenically unsaturated monomer with a fused 4-membered heterocyclic ring and, optionally, other components. The copolymers are useful for photoimaging compositions and, in particular, photoresist compositions (positive-working and/or negative-working) for imaging in the production of semiconductor devices. The copolymers are especially useful in photoresist compositions having high UV transparency (particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm) which are useful as base resins in resists and potentially in many other applications.

摘要翻译： 本发明提供新的含氟共聚物，其包含至少一种氟化烯烃，至少一种具有稠合的4-元杂环的多环烯属不饱和单体和任选的其它组分。 共聚物可用于光成像组合物，特别是用于制造半导体器件的成像的光致抗蚀剂组合物（正性和/或负性）。 该共聚物特别可用于具有高UV透明度（特别是短波长，例如157nm）的光致抗蚀剂组合物，其可用作抗蚀剂中的潜在的许多其它应用中的基础树脂。

公开(公告)号：US20050100814A1

公开(公告)日：2005-05-12

申请号：US10399375

申请日：2001-11-26

申请人： Larry Berger ,  Michael Crawford ,  Frank Schadt III ,  Frederick Zumsteg Jr

发明人： Larry Berger ,  Michael Crawford ,  Frank Schadt III ,  Frederick Zumsteg Jr

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395

摘要： A photoresist composition having: (A) a polymer selected from the group consisting of: (a) a fluorine-containing copolymer having a repeat unit derived from at least one ethylenically unsaturated compound characterized in that at least one ethylenically unsaturated compound is polycyclic; (b) a branched polymer containing protected acid groups, said polymer comprising one or more branch segment(s) chemically linked along a linear backbone segment; (c) fluoropolymers having at least one fluoroalcohol group having the structure: —C(Rf)(Rf′)OH, wherein Rf and Rf′ are the same or different fluoroalkyl groups of from 1 to about 10 carbon atoms or taken together are (CF2)n wherein n is 2 to 10; (d) amorphous vinyl homopolymers of perfluoro(2,2-dimethyl-1,3-dioxole) or CX2═CY2 where X═F or CF3 and Y═—H or amorphous vinyl copolymers of perfluoro(2,2-dimethyl-1,3-dioxole) and CX2═CY2; and (e) nitrile/fluoroalcohol-containing polymers prepared from substituted or unsubstituted vinyl ethers; (B) at least one photoactive component; and (C) a functional compound selected from the group consisting of a base and a surfactant. The polymer may have an absorption coefficient of less than about 5.0m?−1 at a wavelength of about 157 nm. These photoresist compositions have improved imaging properties.

摘要翻译： 一种光致抗蚀剂组合物，其具有：（A）选自以下的聚合物：（a）具有衍生自至少一种烯键式不饱和化合物的重复单元的含氟共聚物，其特征在于至少一种烯属不饱和化合物是多环的; （b）含有保护的酸基团的支化聚合物，所述聚合物包含一个或多个沿着线性主链部分化学连接的支链段; （c）具有至少一个具有以下结构的氟代醇基的含氟聚合物：-C（R f）f（R f）f OH，其中R f 且R 1和R 2'是相同或不同的1至约10个碳原子的氟代烷基或一起为（CF 2 N 2）n - 其中n为2至10; （d）全氟（2,2-二甲基-1,3-间二氧杂环戊烯）或CX 2 -CY 2的无定形乙烯基均聚物，其中XF或CF 3， 和/或Y-H或全氟（2,2-二甲基-1,3-二氧杂环戊烯）和CX 2 -CY 2 N 2的无定形乙烯基共聚物。 和（e）由取代或未取代的乙烯基醚制备的含腈/氟代醇的聚合物; （B）至少一种光活性组分; 和（C）选自碱和表面活性剂的官能化合物。 在约157nm的波长下，该聚合物的吸收系数可以小于约5.0±0.1λ。 这些光刻胶组合物具有改善的成像性能

公开(公告)号：US20060166129A1

公开(公告)日：2006-07-27

申请号：US10523490

申请日：2003-08-19

申请人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt III ,  William Farnham ,  Jerald Feldman

发明人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt III ,  William Farnham ,  Jerald Feldman

IPC分类号： C08F16/24

CPC分类号： C08F232/00 ,  C08F8/12 ,  C08F214/18 ,  C08F214/26 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F232/08 ,  C08F2800/20 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395

摘要： This invention provides a fluorine-containing copolymer having a repeat unit derived from at least one fluorinated olefin and a repeat unit derived from at least one polycyclic ethylenically unsaturated monomer having pendant hydroxyl or esterified hydroxyl groups, and optionally other repeat units, typically derived from an acrylate. These polymers have high transparency at short wavelengths such as 193 nm and 157 nm, and provide good plasma etch resistance and adhesive properties. Also provided are photoresist compositions and substrates coated therewith.

摘要翻译： 本发明提供了含有至少一种氟化烯烃的重复单元和衍生自至少一种具有羟基或酯化羟基的多环烯属不饱和单体的重复单元的含氟共聚物，以及任选的其它重复单元，通常衍生自 丙烯酸酯。 这些聚合物在短波长如193nm和157nm处具有高透明度，并且提供良好的等离子体耐蚀刻性和粘合性。 还提供了光刻胶组合物和其上涂覆的基材。

公开(公告)号：US20050277052A1

公开(公告)日：2005-12-15

申请号：US10523491

申请日：2003-08-08

申请人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt, III ,  Viacheslav Petrov ,  Bruce Smart ,  William Farnham

发明人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt, III ,  Viacheslav Petrov ,  Bruce Smart ,  William Farnham

IPC分类号： C08F8/00 ,  C08F214/18 ,  C08F214/26 ,  C08F216/12 ,  C08F220/24 ,  C08F232/00 ,  C08F232/08 ,  G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F214/18 ,  C08F214/26 ,  C08F220/24 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： This invention provides novel fluorine containing polymers which comprise at least one fluorinated olefin, at least one polycyclic ethylenically unsaturated monomer with a fused 4-membered carbocyclic ring and, optionally, other components. The polymers are useful for photoimaging compositions and, in particular, photoresist compositions (positive-working and/or negative-working) for imaging in the production of semiconductor devices. The polymers are especially useful in photoresist compositions having high UV transparency (particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm) which are useful as base resins in resists and potentially in many other applications.

摘要翻译： 本发明提供新颖的含氟聚合物，其包含至少一种氟化烯烃，至少一种具有稠合的4元碳环的多烯键式不饱和单体和任选的其它组分。 聚合物可用于光成像组合物，特别是用于制造半导体器件的成像的光致抗蚀剂组合物（正性和/或负性）。 聚合物特别适用于具有高UV透明度（特别是短波长，例如157nm）的光致抗蚀剂组合物，其可用作抗蚀剂中的基础树脂并且潜在地在许多其它应用中。