光学半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN103579903A

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201310328802.0

    申请日:2013-07-31

    Abstract: 本发明提供一种光学半导体器件及其制造方法。该光学半导体器件包括:半导体衬底;下部覆层,形成在半导体衬底上方;量子阱有源层,形成在下部覆层上;衍射光栅层,形成在量子阱有源层上方且在其表面中形成有衍射光栅;以及上部覆层,形成在衍射光栅层的衍射光栅上。另外,量子阱有源层的相邻于光学半导体器件的外端面的外部区域中的带隙大于量子阱有源层的位于外部区域之间的内部区域中的带隙,以及包括下部覆层且布置在半导体衬底与量子阱有源层之间的一个或多个层的厚度大于或等于2.3μm。

Patent Agency Ranking