离子注入装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105280468B

    公开(公告)日:2018-04-20

    申请号:CN201510349298.1

    申请日:2015-06-23

    Inventor: 天野吉隆

    Abstract: 本发明提供一种能够广范围使用的离子注入装置及离子注入方法。本发明的离子注入装置具备:透镜电极单元(802),其具备用于使离子束平行的多个电极;及真空单元(804),将透镜电极单元(802)容纳于真空环境中。真空单元(804)具备:第1真空容器(806),其具备第1导电性容器壁(814);第2真空容器(808),其具备第2导电性容器壁(816);及绝缘性容器壁(810),将第1真空容器(806)与第2真空容器(808)彼此连通,且使第1导电性容器壁(814)与第2导电性容器壁(816)绝缘。设有使透镜电极单元802的多个电极中的至少1个电极与第1导电性容器壁(814)及第2导电性容器壁(816)中的至少一方绝缘的绝缘部件(828),绝缘部件(828)与透镜电极单元(802)一起容纳于真空环境中。

    用于带电粒子光刻系统的装置

    公开(公告)号:CN105372944A

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201410829755.2

    申请日:2014-12-26

    Abstract: 本发明公开了用于带电粒子多束光刻系统的装置。该装置包括多个带电粒子双合透镜,每个双合透镜均具有第一孔径并且均配置为缩小入射在第一孔径上的细光束,从而产生缩小的细光束。该装置还包括多个带电粒子透镜,每个带电粒子透镜均与带电粒子双合透镜中的一个相关,每个带电粒子透镜均具有第二孔径,并且每个带电粒子透镜均配置为从相关的带电粒子双合透镜接受缩小的细光束并且实现以下两种状态中的一种:开启状态,其中允许缩小的细光束沿着期望的路径传输,以及关闭状态,其中阻止缩小的细光束沿着期望的路径传输。在实施例中,第一孔径大于第二孔径,从而改进带电粒子多束光刻系统中的粒子束效率。

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