知搜-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

54 条记录 (耗时 0.015 秒)

    全息3D实现装置及方法
    2.
    发明授权
    全息3D实现装置及方法 有权

    公开(公告)号：CN103064275B

    公开(公告)日：2016-08-24

    申请号：CN201310017726.1

    申请日：2013-01-17

    申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方显示技术有限公司

    发明人： 郑箫逸 ,  王俊伟 ,  崔晓鹏

    IPC分类号： G03H1/12 ,  G03H1/22

    CPC分类号： G03H1/265 ,  G03H1/02 ,  G03H1/04 ,  G03H1/041 ,  G03H2001/0268 ,  G03H2210/30 ,  G03H2223/17 ,  G03H2260/54 ,  G11B7/0065

    摘要： 本发明公开了一种全息3D实现装置及方法，所述装置包括记录装置和显示装置，所述记录装置，包括：激光生成单元，用于发出激光；分束单元，用于接收激光生成单元发出的激光并将所述激光进行分束形成参考光和射向被拍摄物的物光；光折变晶体，用于分别接收来自所述分束单元的参考光和来自所述被拍摄物的物光形成全息3D图像；旋转单元，与所述光折变晶体连接，用于每记录一个新的全息3D图像时同步旋转所述光折变晶体。显示时，通过在再现光路中旋转所述光折变晶体就可以实现不同全息3D图像的再现。本发明通过在全息3D记录和显示光路中旋转光折变晶体就可以实现多个全息3D图像的记录和显示，记录和显示都十分快捷方便，并且可以实现全息3D动态显示。

    全息图记录装置
    3.
    发明公开
    全息图记录装置 无效

    公开(公告)号：CN105684081A

    公开(公告)日：2016-06-15

    申请号：CN201380080715.6

    申请日：2013-11-08

    申请人： 株式会社日立制作所

    发明人： 山田健一郎 ,  尾上慎介 ,  西村孝一郎

    IPC分类号： G11B7/0065 ,  G11B7/1369 ,  G03H1/04

    CPC分类号： G11B7/0065 ,  G03H1/041 ,  G03H2223/13 ,  G11B7/1369

    摘要： 为了提高全息图记录介质的利用效率，实现记录复用次数的增加，并且保证页内部及页外部的各像素的记录品质，实现良好且稳定的记录成为课题。作为解决手段，具备：相位掩模，其向信号光附加相位信息；相位掩模驱动部，其驱动相位掩模；相位掩模控制部，其控制相位掩模驱动部；以及相位掩模驱动速度检测部，其检测所述相位掩模的驱动速度，在通过所述相位掩模驱动速度检测部得到的所述相位掩模驱动速度在预定范围内的情况下，实施信息的记录。

    图像记录装置
    6.
    发明公开
    图像记录装置 有权

    公开(公告)号：CN106557005A

    公开(公告)日：2017-04-05

    申请号：CN201610204683.1

    申请日：2016-04-05

    申请人： 富士施乐株式会社

    发明人： 三锅治郎 ,  小笠原康裕 ,  中村滋年 ,  菊地崇 ,  井草正宽 ,  酒卷元彦

    IPC分类号： G03H1/26

    CPC分类号： G03H1/268 ,  G03H1/0402 ,  G03H1/041 ,  G03H1/265 ,  G03H2001/0426 ,  G03H2001/2685 ,  G03H2210/441 ,  G03H1/28 ,  G03H2001/0415 ,  G03H2001/2239 ,  G03H2223/14

    摘要： 图像记录装置。一种图像记录装置包括：激光束源，其发射激光束；分离单元，其将从所述激光束源发射的所述激光束分成两个激光束；显示装置，其在被划分为多个区段的显示区域上显示图像；显示控制器，其控制所述显示装置的显示，使得用于形成全息立体图的多个图像被显示在所述显示区域的所述区段上，并且使得由所述分离单元分离的所述激光束中的一个通过在所述显示装置上显示的所述多个图像来调制，以变为多个物体光束；光学系统，其使所述多个物体光束以所述物体光束一个叠加在另一个上的方式在全息图记录介质上成像；以及照射单元，除了所述多个物体光束以外，其还利用由所述分离单元分离的另一激光束作为参考光束来照射所述全息图记录介质。

    一种全息光栅的曝光方法及曝光光路
    7.
    发明公开
    一种全息光栅的曝光方法及曝光光路 有权

    公开(公告)号：CN103792606A

    公开(公告)日：2014-05-14

    申请号：CN201410038074.4

    申请日：2014-01-26

    申请人： 清华大学深圳研究生院

    发明人： 周倩 ,  倪凯 ,  田瑞 ,  逄锦超 ,  许明飞 ,  董昊 ,  张锦超

    IPC分类号： G02B5/18 ,  G02B27/00

    CPC分类号： G03H1/041 ,  G02B5/18 ,  G02B5/32 ,  G02B27/0012 ,  G02B27/44 ,  G03H1/04 ,  G03H1/0402 ,  G03H2001/0439

    摘要： 本发明公开了一种全息光栅的曝光方法及曝光光路，曝光方法包括调节两个曝光光源的位置，形成曝光光路的步骤：（1）确定两个曝光光源的初始位置；（2）计算仿真的初始光路工作后形成光栅的成像质量参数；（3）在初始光路中设置补偿镜；（4）根据补偿镜的位置调节曝光光源的位置至新位置；（5）计算仿真的新光路工作后形成光栅的成像质量参数；（6）判断步骤（5）的成像质量参数与步骤（2）的成像质量参数的差值是否相当。在是相当的条件下，将新位置作为曝光光源的最终位置；将新位置下对应的新光路作为最终的曝光光路。本发明的曝光方法及曝光光路，可在不影响光栅制作要求和成像要求的前提下有效地解决曝光光源之间的距离过近的问题。