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公开(公告)号：CN104296871B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201410568432.2
申请日：2014-10-22
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01J3/28
CPC分类号： G01J3/28
摘要： 本发明公开了一种双入射狭缝光谱仪的设计方法以及双入射狭缝光谱仪，使用凹面光栅、两个入射狭缝和两个光探测器搭建光谱仪，包括以下步骤：1)确定第一入射狭缝的入射角以及凹面光栅的槽型周期；2)估算凹面光栅的闪耀角，确定凹面光栅的表面材料和槽型结构；3)估算入射角范围；获取入射角度为θA1时和分布在入射角范围内的多个角度下凹面光栅的波长-衍射效率曲线；4)确定入射角θA2的值以及波长λ2和λ3的值；5)得到记录结构参数以及使用结构参数；6)确定凹面光栅的制作参数；7)确定两个入射狭缝和两个光探测器相对于凹面光栅的位置，从而搭建得到光谱仪。本发明的设计方法得到的光谱仪，能提高大部分光谱区域内的衍射效率。
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公开(公告)号：CN103744137B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201410026216.5
申请日：2014-01-20
申请人： 清华大学深圳研究生院
摘要： 本发明公开了一种闪耀凹面光栅制作装置，包括凸面闪耀母光栅，所述凸面闪耀母光栅包括按不同的角度紧密拼合在一起的可分离的多个拼接块，所述多个拼接块拼合在一起形成的凸面的曲率半径与待制作的闪耀凹面光栅的曲率半径一致。本发明还公开了一种相应的闪耀凹面光栅制作方法。本发明的闪耀凹面光栅制作装置及制作方法能避免闪耀凹面光栅从母光栅上拔取时造成槽型的破坏，有效解决复制闪耀凹面光栅槽型误差大的问题。
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公开(公告)号：CN103792606A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201410038074.4
申请日：2014-01-26
申请人： 清华大学深圳研究生院
CPC分类号： G03H1/041 , G02B5/18 , G02B5/32 , G02B27/0012 , G02B27/44 , G03H1/04 , G03H1/0402 , G03H2001/0439
摘要： 本发明公开了一种全息光栅的曝光方法及曝光光路，曝光方法包括调节两个曝光光源的位置，形成曝光光路的步骤：（1）确定两个曝光光源的初始位置；（2）计算仿真的初始光路工作后形成光栅的成像质量参数；（3）在初始光路中设置补偿镜；（4）根据补偿镜的位置调节曝光光源的位置至新位置；（5）计算仿真的新光路工作后形成光栅的成像质量参数；（6）判断步骤（5）的成像质量参数与步骤（2）的成像质量参数的差值是否相当。在是相当的条件下，将新位置作为曝光光源的最终位置；将新位置下对应的新光路作为最终的曝光光路。本发明的曝光方法及曝光光路，可在不影响光栅制作要求和成像要求的前提下有效地解决曝光光源之间的距离过近的问题。
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公开(公告)号：CN104880753B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201510225311.2
申请日：2015-05-05
申请人： 清华大学深圳研究生院
CPC分类号： G02B27/0012 , G02B5/1876 , G02B27/00 , G02B27/0037 , G02B27/4266
摘要： 本发明公开了一种用于制作菲涅尔光栅的优化设计方法，包括以下步骤：(1)将菲涅尔光栅的菲涅尔面型等效为曲面面型，基于菲涅尔面型等效的曲面面型确定菲涅尔光栅的光程差函数：Φ(λ)＝＜AP1P2B＞‑＜AOB＞+Nmλ，其中A点表示物点，B点表示像点，O点表示光栅的参考原点，P1为物点的光线在透镜表面的入射点，P2表示光线落在光栅上的点，λ表示波长，m表示衍射级次，N表示栅线分布函数，“<>”表示路径对应的光程；(2)确定使得所述光程差函数的函数值最小化的菲涅尔光栅参数，以用于制作具有消像差效果的菲涅尔光栅。按照本发明的方法，所制作的菲涅尔光栅能够有效消除菲涅尔光栅部分像差，提高光谱仪的分辨率。
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公开(公告)号：CN104296868B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201410545740.3
申请日：2014-10-15
申请人： 清华大学深圳研究生院
CPC分类号： G01J3/18 , G01J3/28 , G01J2003/1842
摘要： 本发明公开了一种光谱仪的设计方法以及光谱仪，使用凹面光栅、三个入射狭缝和三个光探测器搭建光谱仪，包括以下步骤：1)确定第二入射狭缝的入射角以及凹面光栅的槽型周期；2)估算凹面光栅的闪耀角，确定凹面光栅的表面材料和槽型结构；3)获取入射角度为θA2时和多个角度下凹面光栅的波长-衍射效率曲线；4)确定入射角θAl和θA3的值以及波长λ2和λ3的值，并取λ4等于λ2；5)得到记录结构参数以及使用结构参数；6)确定凹面光栅的制作参数；7)确定三个入射狭缝和三个光探测器相对于所述凹面光栅的位置，从而搭建得到光谱仪。本发明的设计方法得到的光谱仪，在大部分光谱区域内具有较高的衍射效率，有效解决宽光谱区域内衍射效率较低的问题。
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公开(公告)号：CN104316182B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201410626161.1
申请日：2014-11-07
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01J3/28
CPC分类号： G01J3/28
摘要： 本发明公开了一种高分辨率光谱仪的设计方法以及光谱仪，使用凹面光栅、两个入射狭缝和一个光探测器搭建光谱仪，包括以下步骤：1)确定波长λ2和λ3的值，将整个光谱检测范围划分为两个波段范围；2)根据两个波段范围复用一个光探测器的原则，由两个入射狭缝的入射角满足的光栅方程确定两个入射角之间的关系式；3)确定得到记录结构参数和使用结构参数；4)根据所述记录结构参数确定所述凹面光栅的制作参数，得到满足应用的凹面光栅；5)根据所述使用结构参数初值确定两个入射狭缝和一个光探测器相对于所述凹面光栅的位置，从而搭建得到光谱仪。本发明的设计方法得到的光谱仪，能提高大部分光谱区域内的分辨率。
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公开(公告)号：CN104880753A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201510225311.2
申请日：2015-05-05
申请人： 清华大学深圳研究生院
CPC分类号： G02B27/0012 , G02B5/1876 , G02B27/00 , G02B27/0037 , G02B27/4266
摘要： 本发明公开了一种用于制作菲涅尔光栅的优化设计方法，包括以下步骤：(1)将菲涅尔光栅的菲涅尔面型等效为曲面面型，基于菲涅尔面型等效的曲面面型确定菲涅尔光栅的光程差函数：Φ(λ)＝＜AP1P2B＞-＜AOB＞+Nmλ，其中A点表示物点，B点表示像点，O点表示光栅的参考原点，P1为物点的光线在透镜表面的入射点，P2表示光线落在光栅上的点，λ表示波长，m表示衍射级次，N表示栅线分布函数，“<>”表示路径对应的光程；(2)确定使得所述光程差函数的函数值最小化的菲涅尔光栅参数，以用于制作具有消像差效果的菲涅尔光栅。按照本发明的方法，所制作的菲涅尔光栅能够有效消除菲涅尔光栅部分像差，提高光谱仪的分辨率。
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公开(公告)号：CN104048757A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410284375.5
申请日：2014-06-23
申请人： 清华大学深圳研究生院
摘要： 本发明公开一种凹面光栅光谱仪，包括入射狭缝、凹面光栅、遮光板、反射镜和光探测器，光探测器直接接收光谱中的短波段，反射镜将光谱中的长波段反射到光探测器上，使得短波段与长波段复用一个光探测器，并且，光探测器和反射镜的位置满足入射到光探测器上的短波段和长波段在检测时不相互干扰的条件；遮光板可活动地设于凹面光栅与光探测器之间的光路上，当需要检测短波段光波时，遮光板切换至第一位置，以使短波段入射到光探测器，同时阻碍长波段入射到光探测器；当需要检测长波段光波时，遮光板切换至第二位置，以使长波段入射到光探测器，同时阻碍短波段入射到光探测器。本发明的光谱仪能够在保持原体积基本不变的前提下大大提高光谱分辨率。
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公开(公告)号：CN103744137A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201410026216.5
申请日：2014-01-20
申请人： 清华大学深圳研究生院
摘要： 本发明公开了一种闪耀凹面光栅制作装置，包括凸面闪耀母光栅，所述凸面闪耀母光栅包括按不同的角度紧密拼合在一起的可分离的多个拼接块，所述多个拼接块拼合在一起形成的凸面的曲率半径与待制作的闪耀凹面光栅的曲率半径一致。本发明还公开了一种相应的闪耀凹面光栅制作方法。本发明的闪耀凹面光栅制作装置及制作方法能避免闪耀凹面光栅从母光栅上拔取时造成槽型的破坏，有效解决复制闪耀凹面光栅槽型误差大的问题。
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公开(公告)号：CN103499851A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201310462037.1
申请日：2013-09-29
申请人： 清华大学深圳研究生院
CPC分类号： G02B5/1857 , G02B5/1847 , G02B5/1861
摘要： 本发明涉及一种闪耀凹面光栅制作方法，它可以解决现有闪耀凹面光栅复制方法误差大的问题。该方法为：通过复制工艺复制凹面闪耀光栅，复制完毕，保温、降温，然后分别将两块光栅以不同的拔取方式分离，最后将复制分离后的凹面光栅毛坯进行拼接，得到所需要的凹面闪耀光栅。
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