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公开(公告)号：CN101619450A
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200910157230.8
申请日：2009-07-01
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: C09J11/02 , C08K3/16 , C08K3/32 , C08K5/04 , C08K5/405 , H05K3/386 , H05K2201/0355 , H05K2203/121
Abstract: 本发明提供一种不仅能够抑制粘着层的形成性能的经时劣化，而且还能够确保粘着层表面的平滑性的粘着层形成液。本发明的粘着层形成液，其形成用于使铜和树脂粘着的粘着层，其特征在于，其是含有酸、锡盐、络合剂、稳定剂以及能够抑制所述络合剂与铜的络合形成反应的络合形成抑制剂的水溶液。
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公开(公告)号：CN101500375A
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200910008439.8
申请日：2009-01-23
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: H05K3/388 , H05K3/384 , H05K2201/0355 , H05K2203/0353 , H05K2203/0361 , Y10T428/12431 , Y10T428/12493 , Y10T428/12569 , Y10T428/12708
Abstract: 本发明提供在确保与树脂层的粘合性的基础上、在后续工序中容易除去铜－锡合金层的导电层，及使用其的层叠体，以及它们的制造方法。导电层(10)的特征在于，与树脂层(4)粘合，含有铜层(1)和层叠于该铜层(1)上的铜－锡合金层(3)，所述铜－锡合金层(3)的厚度为0.001～0.020μm。
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公开(公告)号：CN101500375B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN200910008439.8
申请日：2009-01-23
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: H05K3/388 , H05K3/384 , H05K2201/0355 , H05K2203/0353 , H05K2203/0361 , Y10T428/12431 , Y10T428/12493 , Y10T428/12569 , Y10T428/12708
Abstract: 本发明提供在确保与树脂层的粘合性的基础上、在后续工序中容易除去铜-锡合金层的导电层，及使用其的层叠体，以及它们的制造方法。导电层(10)的特征在于，与树脂层(4)粘合，含有铜层(1)和层叠于该铜层(1)上的铜-锡合金层(3)，所述铜-锡合金层(3)的厚度为0.001～0.020μm。
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公开(公告)号：CN101619450B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200910157230.8
申请日：2009-07-01
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: C09J11/02 , C08K3/16 , C08K3/32 , C08K5/04 , C08K5/405 , H05K3/386 , H05K2201/0355 , H05K2203/121
Abstract: 本发明提供一种不仅能够抑制粘着层的形成性能的经时劣化，而且还能够确保粘着层表面的平滑性的粘着层形成液。本发明的粘着层形成液，其形成用于使铜和树脂粘着的粘着层，其特征在于，其是含有酸、锡盐、络合剂、稳定剂以及能够抑制所述络合剂与铜的络合形成反应的络合形成抑制剂的水溶液。
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公开(公告)号：CN107109651A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580070381.3
申请日：2015-09-17
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: C23C18/1689 , C23C18/1834 , C23C18/54 , H05K3/187 , H05K3/24 , H05K3/26 , H05K2203/072 , H05K2203/0789
Abstract: 本发明涉及一种無電解鍍錫后且水洗前的洗净用的鍍錫被膜用洗淨液及具有使用该洗净液的洗净步骤的鍍錫層的形成方法。本发明的洗净液含有酸、错合剂、稳定剂及氯化物离子的酸性水溶液。洗净液的氯化物离子浓度为2重量％以上、锡浓度为0.5重量％以下。本发明的洗净液对鍍錫被膜表面的洗净性良好，并易维持鍍錫膜的特性，且连续使用时对鍍錫被膜表面影响较小，具有经时稳定性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102747357B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201210111515.X
申请日：2012-04-16
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: C23C22/52
CPC classification number: C23C22/52 , C23C18/1689 , C23C22/68 , H05K3/0079 , H05K3/108 , H05K2203/124
Abstract: 本发明提供一种皮膜形成液以及使用此皮膜形成液的皮膜形成方法，该皮膜形成液含有包含仅具有氮原子作为环内的杂原子的唑、与25℃下的酸离解常数的倒数的对数值为3～8的酸及其盐的水溶液，25℃下的pH值大于4且为7以下。另外，本发明的皮膜形成方法形成用来粘接铜和感光树脂的皮膜，使所述本发明的皮膜形成液接触所述铜的表面而形成所述皮膜。本发明提供的皮膜形成液，即使在连续或者反复地使用的情况下，也可以稳定地形成提高铜和感光树脂的密接性的皮膜。
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公开(公告)号：CN101841980B
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201010139007.3
申请日：2010-03-19
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: H05K3/389 , B32B37/203 , B32B38/0012 , B32B2037/243 , B32B2038/168 , B32B2309/02 , B32B2309/04 , B32B2457/00 , H05K1/0269 , H05K3/022 , H05K2201/0355 , H05K2203/1476 , H05K2203/163
Abstract: 本发明提供一种即能连续地进行硅烷偶联剂处理工序，也能够容易地维持与由绝缘树脂等所形成的树脂层的粘着性，并且可降低制造成本的层压体的形成方法；本发明涉及一种层压体的形成方法，其连续进行如下工序：硅烷偶联剂处理工序，在金属层表面涂布硅烷偶联剂水溶液，使所得的涂层膜干燥而形成硅烷偶联剂皮膜；层压工序，在所述硅烷偶联剂皮膜上层压树脂层，其特征在于，在进行所述硅烷偶联剂处理工序时，利用反射吸收光谱法的FT-IR光谱对所形成的硅烷偶联剂皮膜进行分析，当Si-O的峰面积变得小于规定阈值时，一面更新所述硅烷偶联剂水溶液的至少一部分而将所述峰面积管理在规定范围内，一面进行硅烷偶联剂处理。本发明可以防止浪费液体交换，降低制造成本。
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公开(公告)号：CN102747357A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210111515.X
申请日：2012-04-16
Applicant: MEC股份有限公司
IPC: C23C22/52
CPC classification number: C23C22/52 , C23C18/1689 , C23C22/68 , H05K3/0079 , H05K3/108 , H05K2203/124
Abstract: 本发明提供一种皮膜形成液以及使用此皮膜形成液的皮膜形成方法，该皮膜形成液含有包含仅具有氮原子作为环内的杂原子的唑、与25℃下的酸离解常数的倒数的对数值为3～8的酸及其盐的水溶液，25℃下的pH值大于4且为7以下。另外，本发明的皮膜形成方法形成用来粘接铜和感光树脂的皮膜，使所述本发明的皮膜形成液接触所述铜的表面而形成所述皮膜。本发明提供的皮膜形成液，即使在连续或者反复地使用的情况下，也可以稳定地形成提高铜和感光树脂的密接性的皮膜。
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公开(公告)号：CN101841980A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010139007.3
申请日：2010-03-19
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: H05K3/389 , B32B37/203 , B32B38/0012 , B32B2037/243 , B32B2038/168 , B32B2309/02 , B32B2309/04 , B32B2457/00 , H05K1/0269 , H05K3/022 , H05K2201/0355 , H05K2203/1476 , H05K2203/163
Abstract: 本发明提供一种即能连续地进行硅烷偶联剂处理工序，也能够容易地维持与由绝缘树脂等所形成的树脂层的粘着性，并且可降低制造成本的层压体的形成方法；本发明涉及一种层压体的形成方法，其连续进行如下工序：硅烷偶联剂处理工序，在金属层表面涂布硅烷偶联剂水溶液，使所得的涂层膜干燥而形成硅烷偶联剂皮膜；层压工序，在所述硅烷偶联剂皮膜上层压树脂层，其特征在于，在进行所述硅烷偶联剂处理工序时，利用反射吸收光谱法的FT-IR光谱对所形成的硅烷偶联剂皮膜进行分析，当Si-O的峰面积变得小于规定阈值时，一面更新所述硅烷偶联剂水溶液的至少一部分而将所述峰面积管理在规定范围内，一面进行硅烷偶联剂处理。本发明可以防止浪费液体交换，降低制造成本。
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公开(公告)号：CN101736331A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200910207412.1
申请日：2009-10-30
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: C25D5/48 , H05K3/384 , H05K2203/0361 , H05K2203/073
Abstract: 本发明提供一种既能容易维持粘着层的形成性能，又能确保与树脂的密着性的粘着层的形成液以及使用该粘着层形成液的粘着层形成方法；本发明的粘着层形成液，其形成用于使铜和树脂粘着的粘着层，它是含有酸、亚锡盐、锡盐、络合剂以及稳定剂的水溶液，在制备时，以将所述亚锡盐的浓度作为2价锡离子的浓度而设为A重量％，将所述锡盐的浓度作为4价锡离子的浓度而设为B重量％时，B/A的值达到0.010以上1.000以下的方式进行制备。
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