公开(公告)号：CN101298668B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200810096081.4

申请日：2008-04-30

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 金京俊 ,  金炯一 ,  申寅澈 ,  田英洙 ,  成明恩

IPC: C23C16/50

Abstract: 本发明公开了一种等离子体产生装置，其可以在所期望的位置混合源气体和活性气体。上述等离子体产生装置包括：等离子体产生单元；配置在等离子体产生单元下面的喷头，喷头与等离子体产生单元一起形成等离子体室，且包括上下结合的上板结构和包括多个源气体喷射口的下板结构，由上板结构和下板结构形成用于供应源气体的源气体流动空间，且上板结构和下板结构中的一个具有被上下贯穿的多个导管；活性气体供应单元，该活性气体供应单元向等离子体产生单元供应活性气体；和源气体供应单元，该源气体供应单元向喷头内部的源气体流动空间供应源气体。由此，可以在所期望的位置上顺利混合源气体和活性气体以提高等离子体的沉积效率。

公开(公告)号：CN101298668A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：CN200810096081.4

申请日：2008-04-30

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 金京俊 ,  金炯一 ,  申寅澈 ,  田英洙 ,  成明恩

IPC: C23C16/50

Abstract: 本发明公开了一种等离子体产生装置，其可以在所期望的位置混合源气体和活性气体。上述等离子体产生装置包括：等离子体产生单元；配置在等离子体产生单元下面的喷头，喷头与等离子体产生单元一起形成等离子体室，且包括上下结合的上板结构和包括多个源气体喷射口的下板结构，由上板结构和下板结构形成用于供应源气体的源气体流动空间，且上板结构和下板结构中的一个具有被上下贯穿的多个导管；活性气体供应单元，该活性气体供应单元向等离子体产生单元供应活性气体；和源气体供应单元，该源气体供应单元向喷头内部的源气体流动空间供应源气体。由此，可以在所期望的位置上顺利混合源气体和活性气体以提高等离子体的沉积效率。

公开(公告)号：CN105525276A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201510684207.X

申请日：2015-10-20

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 朴成贤 ,  申寅澈 ,  李根雨 ,  金京俊

IPC: C23C16/455

CPC classification number: C23C16/345 ,  C23C16/45536 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02219 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228

Abstract: 提供一种薄膜形成方法及原子层沉积装置。薄膜形成方法包括：使用含有硅的硅前驱体物质作为源气体；使用经等离子活化的氮气作为反应气体；使用氮气作为净化气体，并且按照所述源气体、所述净化气体、所述反应气体、所述净化气体的顺序来有序地提供气体，形成氮化硅膜(Si3N4)。

公开(公告)号：CN101768731B

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN200910265830.6

申请日：2009-12-28

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 申寅澈 ,  金京俊

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/54

CPC classification number: H01L21/68764 ,  C23C16/45546 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明公开一种可以同时装载和卸载多个基板的原子层沉积装置。所述原子层装置在利用处理模块移动多个基板时可以将所述基板装载和卸载，其包括：装卸载模块，其用于装载和卸载基板；处理模块，其具备同时收纳多个基板执行沉积工程的多个处理室，并具备吸入所述处理室中央部分的排放气体向所述处理室上部排出的配备有排气器的气体喷射单元；和传送模块，其处于所述装卸载模块和所述处理模块之间移送所述基板，具备将多个基板同时拾取移送的传送机器人。

公开(公告)号：CN101768731A

公开(公告)日：2010-07-07

申请号：CN200910265830.6

申请日：2009-12-28

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 申寅澈 ,  金京俊

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/54

CPC classification number: H01L21/68764 ,  C23C16/45546 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明公开一种可以同时装载和卸载多个基板的原子层沉积装置。所述原子层装置在利用处理模块移动多个基板时可以将所述基板装载和卸载，其包括：装卸载模块，其用于装载和卸载基板；处理模块，其具备同时收纳多个基板执行沉积工程的多个处理室，并具备吸入所述处理室中央部分的排放气体向所述处理室上部排出的配备有排气器的气体喷射单元；和传送模块，其处于所述装卸载模块和所述处理模块之间移送所述基板，具备将多个基板同时拾取移送的传送机器人。