公开(公告)号：CN101298668A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：CN200810096081.4

申请日：2008-04-30

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 金京俊 ,  金炯一 ,  申寅澈 ,  田英洙 ,  成明恩

IPC: C23C16/50

Abstract: 本发明公开了一种等离子体产生装置，其可以在所期望的位置混合源气体和活性气体。上述等离子体产生装置包括：等离子体产生单元；配置在等离子体产生单元下面的喷头，喷头与等离子体产生单元一起形成等离子体室，且包括上下结合的上板结构和包括多个源气体喷射口的下板结构，由上板结构和下板结构形成用于供应源气体的源气体流动空间，且上板结构和下板结构中的一个具有被上下贯穿的多个导管；活性气体供应单元，该活性气体供应单元向等离子体产生单元供应活性气体；和源气体供应单元，该源气体供应单元向喷头内部的源气体流动空间供应源气体。由此，可以在所期望的位置上顺利混合源气体和活性气体以提高等离子体的沉积效率。

公开(公告)号：CN101298668B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200810096081.4

申请日：2008-04-30

Applicant: K.C.科技股份有限公司

Inventor： 金京俊 ,  金炯一 ,  申寅澈 ,  田英洙 ,  成明恩

IPC: C23C16/50

Abstract: 本发明公开了一种等离子体产生装置，其可以在所期望的位置混合源气体和活性气体。上述等离子体产生装置包括：等离子体产生单元；配置在等离子体产生单元下面的喷头，喷头与等离子体产生单元一起形成等离子体室，且包括上下结合的上板结构和包括多个源气体喷射口的下板结构，由上板结构和下板结构形成用于供应源气体的源气体流动空间，且上板结构和下板结构中的一个具有被上下贯穿的多个导管；活性气体供应单元，该活性气体供应单元向等离子体产生单元供应活性气体；和源气体供应单元，该源气体供应单元向喷头内部的源气体流动空间供应源气体。由此，可以在所期望的位置上顺利混合源气体和活性气体以提高等离子体的沉积效率。