公开(公告)号：CN101933124A

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN200980103969.9

申请日：2009-01-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 仕田裕贵 ,  清水崇文 ,  池田正俊 ,  洼内翔 ,  柴田阳介 ,  内仓和一 ,  竹村彰浩

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明的化学机械研磨用水系分散体是包含(A)二氧化硅微粒和(B1)有机酸的化学机械研磨用水系分散体，其中前述(A)二氧化硅微粒具有下述化学性质。从通过ICP发光分析法或ICP质量分析法进行的元素分析和通过离子色谱分离法进行的铵离子定量分析测定的钠、钾和铵离子的含量满足：钠含量：5～500ppm，选自钾和铵离子的至少一种的含量：100～20000ppm的关系。

公开(公告)号：CN103842409A

公开(公告)日：2014-06-04

申请号：CN201280047281.5

申请日：2012-09-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 清水崇文 ,  藤冨晋太郎 ,  宫木伸行 ,  江利山祐一

IPC: C08G73/10 ,  C08J5/18

CPC classification number: C08L79/08 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1042 ,  C08G73/106 ,  C08G73/1067 ,  C09D179/08

Abstract: 本发明涉及一种树脂组合物，其含有聚酰亚胺前驱物及以非酰胺系溶剂作为主成分的溶剂，所述聚酰亚胺前驱物具有含有下述式(2)所表示的结构单元且由下述式(1)所表示的结构单元。(式(1)中，R独立地表示氢原子或一价有机基，R1独立地表示二价有机基，R2独立地表示四价有机基，n表示正整数。其中，R1或R2的至少一个含有卤素原子或卤化烷基。)(式(2)中，多个R5分别独立地表示碳数1～20的一价有机基，m表示3～200的整数。)。

公开(公告)号：CN101933124B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200980103969.9

申请日：2009-01-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 仕田裕贵 ,  清水崇文 ,  池田正俊 ,  洼内翔 ,  柴田阳介 ,  内仓和一 ,  竹村彰浩

IPC: H01L21/321 ,  H01L21/3105 ,  C01G1/02

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明的化学机械研磨用水系分散体是包含(A)二氧化硅微粒和(B1)有机酸的化学机械研磨用水系分散体，其中前述(A)二氧化硅微粒具有下述化学性质。从通过ICP发光分析法或ICP质量分析法进行的元素分析和通过离子色谱分离法进行的铵离子定量分析测定的钠、钾和铵离子的含量满足：钠含量：5～500ppm，选自钾和铵离子的至少一种的含量：100～20000ppm的关系。

公开(公告)号：CN1990183A

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200610156267.5

申请日：2006-12-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村秀树 ,  清水崇文 ,  栗山敬祐 ,  辻昭卫

IPC: B24D17/00 ,  B24B29/02 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/26 ,  B24B37/30

Abstract: 本发明的化学机械抛光垫在抛光表面上具有以下两组槽：(i)第一沟槽组，与单根从抛光表面的中心向周边延伸的虚拟直线相交，并且由以下等式表示的槽脊比为6－30：槽脊比＝(P－W)÷W(P是虚拟直线和第一沟槽间相邻交点之间的距离，而W是第一沟槽的宽度)；和(ii)第二沟槽组，从抛光表面的中心部分向周边部分延伸，包括在中心部分区域中彼此接触的第二沟槽和在中心部分区域中不与任何其它第二沟槽接触的第二沟槽。本发明的化学机械抛光垫即使当化学机械抛光用水分散体的量少时，也具有高抛光速率、并且在被抛光表面抛光量方面具有极好的平面内一致性。